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公开(公告)号：CN103163024A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201310090805.5
申请日：2013-03-20
Applicant: 清华大学
IPC: G01N3/08
Abstract: 本发明公开了一种薄膜加载装置，包括：支架、杠杆组件、压电陶瓷、第一夹持件、第二夹持件和传感器。所述杠杆组件包括移动杆，所述移动杆可绕预定点转动地设在所述支架上；所述压电陶瓷与所述移动杆相连用于向所述移动杆输入初始位移；所述第一夹持件与所述移动杆相连，所述第一夹持件夹持薄膜的第一端且所述第二夹持件夹持薄膜的第二端，其中所述第一夹持件和所述移动杆的连接处与所述预定点之间的距离大于所述压电陶瓷和所述移动杆的连接处与所述预定点之间的距离；传感器用于测量所述薄膜受到的拉力，所述传感器设在所述支架上且与所述第二夹持件相连。根据本发明的薄膜加载装置，加载位移精度高，反应快，输出位移大且结构简单。
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公开(公告)号：CN103076645B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201310025945.4
申请日：2013-01-21
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种贴片式云纹光栅的制作方法，包括：步骤1：清洁基底的表面并将所述基底可分离地固定在载板上；步骤2：将紫外固化胶均匀涂覆在所述基底上；步骤3：将模板置于所述紫外固化胶上并利用紫外纳米压印机进行压印；步骤4：压印完成且所述紫外固化胶固化后，将所述模板从所述紫外固化胶上脱除且所述基底与固化后的所述紫外固化胶可分离；步骤5：在固化后的所述紫外固化胶上镀功能膜；步骤6：在所述功能膜上可分离地覆盖保护膜。根据本发明实施例的贴片式云纹光栅的制作方法，可制作不同频率、不同截面形状、适用不同服役环境的高精度正交或单向光栅。
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公开(公告)号：CN103808440B
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201410054817.7
申请日：2014-02-18
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明提出一种微纳米散斑的制备方法和系统，其中，该方法包括以下步骤：生成预设数量的散斑颗粒大小和/或散斑数目不同的数字散斑图，并从中选取至少一幅数字散斑图作为散斑模板；对待处理试件和目标试件的待处理区域进行预处理；将散斑模板导入散斑沉积设备；对待处理试件的待处理区域进行对焦，以获取当前放大倍数下的最优参数组；根据最优参数组调节散斑沉积设备，并根据散斑模板在目标试件的待处理区域沉积散斑。上述方法能够制备高质量微纳米散斑，提升散斑制备的可重复性、无损性和制备速度。
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公开(公告)号：CN103149017A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310084490.3
申请日：2013-03-15
Applicant: 清华大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提出一种光栅线宽比测量方法，包括：提供SEM仪器以及已知线宽比的光栅；将一直线宽比的光栅放置于SEM仪器的载物台中央，调节放大倍数直至形成清晰地云纹条纹，记录形状参数，计算当前放大倍数下扫描线的线宽比，最终标定出一系列不同放大倍数下的SEM仪器扫描线线宽比；将未知线宽比的光栅放置于SEM载物台中央，调节SEM仪器的放大倍数直至形成清晰地云纹条纹，记录形状参数，查询前面标定得到当前放大倍数下SEM仪器扫描线的线宽比，结合反演方法计算得到未知线宽比的光栅的线宽比。本发明具有灵敏度高、测量视场大，以及SEM分辨率高、对样品无损伤、空间定位方便等优点，并且具有操作简单，过程快速、表征区域大、检测成本低等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103592708B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201310485353.0
申请日：2013-10-16
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种试件表面上制备光栅的方法，包括以下步骤：提供微尺度试件；对试件进行表面处理；将试件置于聚焦双束系统下，聚焦双束系统采用电子束在试件表面进行微区定位；以及聚焦双束系统采用离子束在微区进行沉积点阵结构以形成光栅。该方法可以用于微纳米薄膜表面制备变形传感元件-高密度云纹光栅结构的制备，对薄膜表面的损伤小，可以制备不同频率适用于不同测量范围的光栅点阵结构，可以对试样表面的微区域进行实时定位加工，还可适用于不同基底材料表面的微区光栅制备。该方法具有通用性好，损伤小的优点。
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公开(公告)号：CN103808440A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201410054817.7
申请日：2014-02-18
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明提出一种微纳米散斑的制备方法和系统，其中，该方法包括以下步骤：生成预设数量的散斑颗粒大小和/或散斑数目不同的数字散斑图，并从中选取至少一幅数字散斑图作为散斑模板；对待处理试件和目标试件的待处理区域进行预处理；将散斑模板导入散斑沉积设备；对待处理试件的待处理区域进行对焦，以获取当前放大倍数下的最优参数组；根据最优参数组调节散斑沉积设备，并根据散斑模板在目标试件的待处理区域沉积散斑。上述方法能够制备高质量微纳米散斑，提升散斑制备的可重复性、无损性和制备速度。
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公开(公告)号：CN103149017B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201310084490.3
申请日：2013-03-15
Applicant: 清华大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提出一种光栅线宽比测量方法，包括：提供SEM仪器以及已知线宽比的光栅；将一直线宽比的光栅放置于SEM仪器的载物台中央，调节放大倍数直至形成清晰地云纹条纹，记录形状参数，计算当前放大倍数下扫描线的线宽比，最终标定出一系列不同放大倍数下的SEM仪器扫描线线宽比；将未知线宽比的光栅放置于SEM载物台中央，调节SEM仪器的放大倍数直至形成清晰地云纹条纹，记录形状参数，查询前面标定得到当前放大倍数下SEM仪器扫描线的线宽比，结合反演方法计算得到未知线宽比的光栅的线宽比。本发明具有灵敏度高、测量视场大，以及SEM分辨率高、对样品无损伤、空间定位方便等优点，并且具有操作简单，过程快速、表征区域大、检测成本低等优点。
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公开(公告)号：CN103592708A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201310485353.0
申请日：2013-10-16
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种试件表面上制备光栅的方法，包括以下步骤：提供微尺度试件；对试件进行表面处理；将试件置于聚焦双束系统下，聚焦双束系统采用电子束在试件表面进行微区定位；以及聚焦双束系统采用离子束在微区进行沉积点阵结构以形成光栅。该方法可以用于微纳米薄膜表面制备变形传感元件-高密度云纹光栅结构的制备，对薄膜表面的损伤小，可以制备不同频率适用于不同测量范围的光栅点阵结构，可以对试样表面的微区域进行实时定位加工，还可适用于不同基底材料表面的微区光栅制备。该方法具有通用性好，损伤小的优点。
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公开(公告)号：CN103076645A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201310025945.4
申请日：2013-01-21
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种贴片式云纹光栅的制作方法，包括：步骤1：清洁基底的表面并将所述基底可分离地固定在载板上；步骤2：将紫外固化胶均匀涂覆在所述基底上；步骤3：将模板置于所述紫外固化胶上并利用紫外纳米压印机进行压印；步骤4：压印完成且所述紫外固化胶固化后，将所述模板从所述紫外固化胶上脱除且所述基体与固化后的所述紫外固化胶可分离；步骤5：在固化后的所述紫外固化胶上镀功能膜；步骤6：在所述功能膜上可分离地覆盖保护膜。根据本发明实施例的贴片式云纹光栅的制作方法，可制作不同频率、不同截面形状、适用不同服役环境的高精度正交或单向光栅。
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