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公开(公告)号:CN116224626B
公开(公告)日:2023-07-25
申请号:CN202310514714.3
申请日:2023-05-09
Applicant: 武汉工程大学 , 应城市新都化工有限责任公司
IPC: G02F1/00
Abstract: 本发明涉及一种基于六方氮化硼‑黑磷多层异质结的近场热辐射调制方法,所述结构为平行且对称设置的平板结构,所述平板由六方氮化硼层和黑磷层交替形成,通过改变黑磷的电子掺杂和六方氮化硼‑黑磷多层异质结的层数,使六方氮化硼双曲线模式和黑磷表面等离子体频率发生耦合和解耦合,导致六方氮化硼‑黑磷多层异质结间的倏逝波耦合发生相应变化,从而实现红外波段近场热辐射的调制。本发明提供的基于六方氮化硼‑黑磷多层异质结的近场热辐射调制方法改变了红外波段的近场辐射传热。
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公开(公告)号:CN116224626A
公开(公告)日:2023-06-06
申请号:CN202310514714.3
申请日:2023-05-09
Applicant: 武汉工程大学 , 应城市新都化工有限责任公司
IPC: G02F1/00
Abstract: 本发明涉及一种基于六方氮化硼‑黑磷多层异质结的近场热辐射调制方法,所述结构为平行且对称设置的平板结构,所述平板由六方氮化硼层和黑磷层交替形成,通过改变黑磷的电子掺杂和六方氮化硼‑黑磷多层异质结的层数,使六方氮化硼双曲线模式和黑磷表面等离子体频率发生耦合和解耦合,导致六方氮化硼‑黑磷多层异质结间的倏逝波耦合发生相应变化,从而实现红外波段近场热辐射的调制。本发明提供的基于六方氮化硼‑黑磷多层异质结的近场热辐射调制方法改变了红外波段的近场辐射传热。
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公开(公告)号:CN115795282B
公开(公告)日:2023-05-09
申请号:CN202310045368.9
申请日:2023-01-30
Applicant: 武汉工程大学
IPC: G06F18/10 , G06N3/045 , G06N3/0442 , G06N3/0985 , G01L5/14 , G01H17/00
Abstract: 本发明提供了一种激波管动态压力重构方法、装置、电子设备及存储介质,其方法包括:获取初始动态压力响应信号,包括振动信号和响应信号;基于变分模态分解方法和经验模态分解方法对振动信号和响应信号进行预处理,得到预处理信号以及该信号在不同频段分量信号;再依据相关系数得到的各分量信号分别与预处理信号和去噪振动信号之间的关系构建训练集;基于Bi‑LSTM神经网络模型构建初始逆传感网络模型,基于训练集迭代训练初始逆传感网络模型,得到目标逆传感网络模型;采用目标逆传感网络模型重构激波管动态压力,得到目标激波管动态压力重构信号。本发明提供的激波管动态压力重构方法能够更合理准确的对激波管动态压力信号进行重构。
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公开(公告)号:CN116232457A
公开(公告)日:2023-06-06
申请号:CN202310502355.X
申请日:2023-05-06
Applicant: 武汉工程大学 , 应城市新都化工有限责任公司
IPC: H04B10/114 , H04B10/516 , G02F1/00 , G05D23/19 , G01N21/25 , G01D5/26
Abstract: 本发明提供一种可调制发射率的红外发射器及红外发射器系统,红外发射器包括至少一个发射单元,发射单元为一维周期光栅结构,发射单元包括基底层以及发射层,其中,发射层包括热致相变层,热致相变层用于根据外界温度的变化以对红外发射器的发射率进行调制;本发明提供的可调制发射率的红外发射器通过在具有一维周期光栅结构的发射单元中设置热致相变层,热致相变层可以根据外界温度的变化对红外发射器的发射率进行调制,从而使得上述红外发射器可以实现在不同条件下可以进行选择性发射的功能,进而实现了主动控制热辐射调制的目的,进一步在实现上述红外发射器适用不同红外发射场景的同时,节省了发射成本。
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公开(公告)号:CN115795282A
公开(公告)日:2023-03-14
申请号:CN202310045368.9
申请日:2023-01-30
Applicant: 武汉工程大学
IPC: G06F18/10 , G06N3/045 , G06N3/0442 , G06N3/0985 , G01L5/14 , G01H17/00
Abstract: 本发明提供了一种激波管动态压力重构方法、装置、电子设备及存储介质,其方法包括:获取初始动态压力响应信号,包括振动信号和响应信号;基于变分模态分解方法和经验模态分解方法对振动信号和响应信号进行预处理,得到预处理信号以及该信号在不同频段分量信号;再依据相关系数得到的各分量信号分别与预处理信号和去噪振动信号之间的关系构建训练集;基于Bi‑LSTM神经网络模型构建初始逆传感网络模型,基于训练集迭代训练初始逆传感网络模型,得到目标逆传感网络模型;采用目标逆传感网络模型重构激波管动态压力,得到目标激波管动态压力重构信号。本发明提供的激波管动态压力重构方法能够更合理准确的对激波管动态压力信号进行重构。
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公开(公告)号:CN117292118A
公开(公告)日:2023-12-26
申请号:CN202311574197.5
申请日:2023-11-23
Applicant: 武汉工程大学
Abstract: 本发明提供了一种雷达引导光电跟踪坐标补偿方法、装置、电子设备及介质,包括:基于雷达获取待跟踪目标的雷达扫描数据,基于惯性测量装置获取导航数据;根据雷达扫描数据进行轨迹外推得到外推数据;根据导航数据对外推数据进行运动补偿得到目标坐标值;根据目标坐标值调整光电跟踪装置拍摄角度并对待跟踪目标进行闭环跟踪。综上,本发明通过以雷达引导坐标补偿的方式调整光电跟踪装置的拍摄角度,解决光电跟踪装置有效识别时的视野范围较小,坐标补偿效果较差的问题,实现对目标高精度的光电跟踪识别。
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公开(公告)号:CN119793214A
公开(公告)日:2025-04-11
申请号:CN202510299209.0
申请日:2025-03-13
Applicant: 武汉工程大学
Abstract: 本发明涉及膜分离技术领域,公开了一种在线检测膜蒸馏中膜浸润程度的系统,包括:膜蒸馏子系统,用于提供膜蒸馏分离过程,形成进料液和馏出液的流动;电化学监测子系统,用于持续测量膜蒸馏过程中电流信号的变化并输出电信号,还公开了一种在线检测膜蒸馏中膜浸润程度的方法,包括以下步骤:S1、安装膜蒸馏子系统装置,将微孔疏水膜置于两个不锈钢电极之间。通过结合电化学监测技术与数据处理系统,实时测量膜蒸馏过程中膜两侧的电流信号变化,并通过等效电路模型与归一化阻抗的数学关系实现在线监控,解决了传统技术无法精准检测膜润湿和实时监控膜状态的问题,同时,系统能够全天候自动运行,无需停机或取样分析。
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公开(公告)号:CN117292118B
公开(公告)日:2024-02-09
申请号:CN202311574197.5
申请日:2023-11-23
Applicant: 武汉工程大学
Abstract: 本发明提供了一种雷达引导光电跟踪坐标补偿方法、装置、电子设备及介质,包括:基于雷达获取待跟踪目标的雷达扫描数据,基于惯性测量装置获取导航数据;根据雷达扫描数据进行轨迹外推得到外推数据;根据导航数据对外推数据进行运动补偿得到目标坐标值;根据目标坐标值调整光电跟踪装置拍摄角度并对待跟踪目标进行闭环跟踪。综上,本发明通过以雷达引导坐标补偿的方式调整光电跟踪装置的拍摄角度,解决光电跟踪装置有效识别时的视野范围较小,坐标补偿效果较差的问题,实现对目标高精度的光电跟踪识别。
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公开(公告)号:CN117269953A
公开(公告)日:2023-12-22
申请号:CN202311574199.4
申请日:2023-11-23
Applicant: 武汉工程大学
Abstract: 本发明涉及一种分布式雷达引导光电跟踪识别装置及方法,其中装置包括:第一雷达、第二雷达、第一惯性导航装置、第二惯性导航装置、光电跟踪装置和数据处理中心,本发明通过第一雷达和/或第二雷达捕获待跟踪目标的跟踪轨迹信息;通过第一惯性导航装置和/或第二惯性导航装置获取惯性测量数据;根据跟踪轨迹信息和惯性测量数据进行数据解算得到待跟踪目标的实时球坐标值;根据实时球坐标值调整光电跟踪装置角度,对待跟踪目标进行跟踪识别。与现有技术相比,本发明通过分布式雷达布局设计,在避免雷达和光电跟踪装置转动扰动影响前提下,实现对目标的全方位跟踪识别,并通过分布式雷达光电跟踪识别方法实时解算得到准确的待跟踪目标实时球坐标值。
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公开(公告)号:CN116232457B
公开(公告)日:2023-07-28
申请号:CN202310502355.X
申请日:2023-05-06
Applicant: 武汉工程大学 , 应城市新都化工有限责任公司
IPC: H04B10/114 , H04B10/516 , G02F1/00 , G05D23/19 , G01N21/25 , G01D5/26
Abstract: 本发明提供一种可调制发射率的红外发射器及红外发射器系统,红外发射器包括至少一个发射单元,发射单元为一维周期光栅结构,发射单元包括基底层以及发射层,其中,发射层包括热致相变层,热致相变层用于根据外界温度的变化以对红外发射器的发射率进行调制;本发明提供的可调制发射率的红外发射器通过在具有一维周期光栅结构的发射单元中设置热致相变层,热致相变层可以根据外界温度的变化对红外发射器的发射率进行调制,从而使得上述红外发射器可以实现在不同条件下可以进行选择性发射的功能,进而实现了主动控制热辐射调制的目的,进一步在实现上述红外发射器适用不同红外发射场景的同时,节省了发射成本。
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