公开(公告)号：CN103619528B

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201280031417.3

申请日：2012-06-25

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 山田淳一 ,  河口纪仁 ,  和田芳幸 ,  久住智勇 ,  长谷川敬晃 ,  中山雄一朗 ,  斋藤俊明

IPC: B23K26/38 ,  B23K26/14 ,  B23K26/402 ,  B23K26/70 ,  C03B33/033 ,  C03B33/09

CPC classification number: C03B33/091 ,  B23K26/127 ,  B23K26/146 ,  B23K26/147 ,  B23K26/1476 ,  B23K26/40 ,  B23K2103/50 ,  C03B33/03

Abstract: 切断如玻璃一样的脆性构件的装置具备：构成为使激光通过第一空间照射上述构件上的第一区域的激光振荡器；构成为向与上述第一区域不同的第二区域喷射冷却介质的冷却喷嘴；挡板，其配置为相对于上述构件具有空隙且设置成不包围上述第一空间的状态，以使来自上述第二区域的飞沫以及雾沫的流动从上述第一空间偏离的方式定向；以及构成为向上述空隙喷射气体的气体喷嘴。

公开(公告)号：CN101911256A

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200880124168.6

申请日：2008-05-30

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M·正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20

CPC classification number: B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

Abstract: 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列(20a、20b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(X方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(长轴用聚光透镜22)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列(26a、26b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(Y方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(投影透镜30)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN103619528A

公开(公告)日：2014-03-05

申请号：CN201280031417.3

申请日：2012-06-25

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 山田淳一 ,  河口纪仁 ,  和田芳幸 ,  久住智勇 ,  长谷川敬晃 ,  中山雄一朗 ,  斋藤俊明

IPC: B23K26/38 ,  B23K26/14 ,  B23K26/402 ,  B23K26/70 ,  C03B33/033 ,  C03B33/09

CPC classification number: C03B33/091 ,  B23K26/127 ,  B23K26/146 ,  B23K26/147 ,  B23K26/1476 ,  B23K26/40 ,  B23K2103/50 ,  C03B33/03

Abstract: 切断如玻璃一样的脆性构件的装置具备：构成为使激光通过第一空间照射上述构件上的第一区域的激光振荡器；构成为向与上述第一区域不同的第二区域喷射冷却介质的冷却喷嘴；挡板，其配置为相对于上述构件具有空隙且设置成不包围上述第一空间的状态，以使来自上述第二区域的飞沫以及雾沫的流动从上述第一空间偏离的方式定向；以及构成为向上述空隙喷射气体的气体喷嘴。

公开(公告)号：CN102057467B

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN200880129715.X

申请日：2008-06-12

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜 ,  芳之内淳

IPC: H01L21/268

CPC classification number: B23K26/0732 ,  B23K26/046 ,  B23K26/0665 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0966 ,  G02B27/48 ,  H01L21/02678

Abstract: 在使用了固体激光的激光退火中，能够容易地对应于半导体膜的激光照射部分的位置变动，对矩形光束的短轴方向的焦点位置进行补正。使用将入射光在短轴方向聚光的短轴用聚光透镜（29）、和将来自该短轴用聚光透镜（29）的出射光投影到上述半导体膜（3）的表面的投影透镜（30），使激光（1）在半导体膜（3）的表面在矩形光束的短轴方向聚光。以位置变动检测器（31）检测出半导体膜（3）的激光照射部分在该半导体膜的垂直方向的位置变动，基于该检测值使短轴用聚光透镜（29）在光轴方向移动。

公开(公告)号：CN101911256B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200880124168.6

申请日：2008-05-30

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M·正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20

CPC classification number: B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

Abstract: 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列(20a、20b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(X方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(长轴用聚光透镜22)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列(26a、26b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(Y方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(投影透镜30)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN101336468A

公开(公告)日：2008-12-31

申请号：CN200680052137.5

申请日：2006-12-18

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁

IPC: H01L21/265

CPC classification number: H01L21/268 ,  H01L21/02538 ,  H01L21/02686

Abstract: 将化合物半导体放入到反应容器(12)内；用在化合物半导体熔点下的平衡蒸气压为1大气压以下的低蒸气压气体(2)对反应容器内进行置换；一边将反应容器内保持在前述平衡蒸气压以上的压力，一边使低蒸气压气体沿着化合物半导体表面流过；对化合物半导体表面照射光子能量大于前述化合物半导体带隙的脉冲激光(3)。由此，一边将低蒸气压气体的气氛温度保持在室温或分解温度以下，一边仅对脉冲激光照射位置的化合物半导体进行瞬间加热并使其熔融。

公开(公告)号：CN104981928A

公开(公告)日：2015-10-14

申请号：CN201480007320.8

申请日：2014-02-07

Applicant: 株式会社IHI ,  公立大学法人横浜市立大学

Inventor： 吉村昭彦 ,  松尾贵宽 ,  河口纪仁 ,  义久久美子 ,  橘胜 ,  申锡澈

IPC: H01M4/90 ,  B01J27/24 ,  H01M8/10

CPC classification number: H01M4/9083 ,  C23C16/26 ,  H01M4/8807 ,  H01M4/8867 ,  H01M4/90 ,  H01M4/96 ,  H01M2008/1095

Abstract: 本发明涉及具有掺杂了氮的碳纳米壁的氧还原催化剂、氧还原电极及燃料电池。根据本发明，能够以低价提供氧还原催化剂、氧还原电极及燃料电池。

公开(公告)号：CN102513701B

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201210017054.X

申请日：2008-05-30

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/268

CPC classification number: B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

Abstract: 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN104835725A

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：CN201510198987.7

申请日：2008-05-30

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/268 ,  B23K26/073 ,  B23K26/04

CPC classification number: B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268 ,  B23K26/08

Abstract: 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN102548763A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201080039776.4

申请日：2010-08-31

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 铃木俊太郎 ,  中村惠子 ,  松尾研吾 ,  河口纪仁

IPC: B41F3/54 ,  B41F3/56 ,  B41F3/84 ,  B41F17/14 ,  B41M1/10

CPC classification number: B41M1/06 ,  B41F3/54 ,  B41F3/56

Abstract: 在胶印印刷装置中，将版载置台（4）及基板载置台（6）设置为能够在设置于台座（1）的导轨（2）上行进。在导轨（2）的与长度方向中间部对应的部位设置转印机构部（9），其具有橡皮辊（10）、橡皮辊的升降用致动器（13）、橡皮辊的高度传感器（14）、检测橡皮辊与版（3）及基板（5）的接触压力的压力传感器（15）。此外，控制器控制升降用致动器（13）使得令橡皮辊（10）与版（3）及基板（5）接触时由压力传感器(15)检测到的接触压力为既定值。通过令从版（3）向橡皮辊（10）进行转印时的接触压力与从橡皮辊（10）向基板（5）进行再转印时的接触压力分别均一，令与版（3）及基板（5）的接触部分的变形量均一并且令周速相等。其结果，能够提高印刷精度。