公开(公告)号：CN100346008C

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：CN02827689.2

申请日：2002-11-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 齐藤孝行 ,  铃木作 ,  槙田裕司 ,  山田薰 ,  白樫充彦 ,  当间康 ,  小田严贵 ,  粂川正行 ,  安田穗积 ,  锅谷治 ,  广川一人

IPC: C25F3/00 ,  B23H3/10 ,  H01L21/3063 ,  B01J49/00

CPC classification number: C25F3/00 ,  B01J49/30 ,  C25F7/00

Abstract: 一种用于再生离子交换剂的方法与设备，该方法与设备能够方便、快速地再生一种离子交换剂，并能够使清洗该已再生的离子交换剂以及处理废液时的负荷最小。一种用于再生被污染的离子交换剂的方法包括：提供由一个再生电极与一个反电极构成的一对电极、放置在这些电极之间的一个隔板以及放置在该反电极与该隔板之间的一个要被再生的电极；以及将电压加到该再生电极与该反电极之间，与此同时，将液体供应到该隔板与该再生电极之间，而且也将液体供应到该隔板与该反电极之间。

公开(公告)号：CN1617955A

公开(公告)日：2005-05-18

申请号：CN02827689.2

申请日：2002-11-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 齐藤孝行 ,  铃木作 ,  槙田裕司 ,  山田薰 ,  白樫充彦 ,  当间康 ,  小田严贵 ,  粂川正行 ,  安田穗积 ,  锅谷治 ,  广川一人

IPC: C25F3/00 ,  B23H3/10 ,  H01L21/3063 ,  B01J49/00

CPC classification number: C25F3/00 ,  B01J49/30 ,  C25F7/00

Abstract: 一种用于再生离子交换剂的方法与设备，该方法与设备能够方便、快速地再生一种离子交换剂，并能够使清洗该已再生的离子交换剂以及处理废液时的负荷最小。一种用于再生被污染的离子交换剂的方法包括：提供由一个再生电极与一个反电极构成的一对电极、放置在这些电极之间的一个隔板以及放置在该反电极与该隔板之间的一个要被再生的电极；以及将电压加到该再生电极与该反电极之间，与此同时，将液体供应到该隔板与该再生电极之间，而且也将液体供应到该隔板与该反电极之间。

公开(公告)号：CN100449705C

公开(公告)日：2009-01-07

申请号：CN02802116.9

申请日：2002-02-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 小畠厳贵 ,  白樫充彦 ,  粂川正行 ,  齐藤孝行 ,  当间康 ,  铃木作 ,  山田薰 ,  槙田裕司

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/6723 ,  B23H5/08 ,  C25F7/00 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173

Abstract: 提供一种电解处理装置，包括：与工件接触或靠近的处理电极；用于向工件供电的馈送电极；离子交换器，设置在工件和处理电极之间以及工件和馈送电极之间的空间的至少之一中；用于在处理电极和馈送电极之间施加电压的电源；和液体输送部件，用于向工件与处理电极和馈送电极中的至少一个之间的空间输送液体，所述离子交换器存在于其中。还提供一种具有该电解处理装置的衬底处理设备。

公开(公告)号：CN1547759A

公开(公告)日：2004-11-17

申请号：CN02816766.X

申请日：2002-09-03

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 斉藤孝行 ,  铃木作 ,  槙田裕司 ,  山田薫 ,  白樫充彦 ,  伊藤贤也

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明涉及一种基片处理装置，包括一个用于支撑基片并使之转动的卡盘组件，一个其中放置有卡盘组件的可关闭的腔体，以及一个向腔体引入一种气体的气体引入装置。该基片处理装置还包括一个蚀刻部件，该蚀刻部件在卡盘组件使基片转动的同时蚀刻并清洁基片的周边部分，以及一个向蚀刻部件提供第一种液体的第一供给管道。

公开(公告)号：CN100343946C

公开(公告)日：2007-10-17

申请号：CN02816766.X

申请日：2002-09-03

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 斉藤孝行 ,  铃木作 ,  槙田裕司 ,  山田薰 ,  白樫充彦 ,  伊藤贤也

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明涉及一种基片处理装置，包括一个用于支撑基片并使之转动的卡盘组件，一个其中放置有卡盘组件的可关闭的腔体，以及一个向腔体引入一种气体的气体引入装置。该基片处理装置还包括一个蚀刻部件，该蚀刻部件在卡盘组件使基片转动的同时蚀刻并清洁基片的周边部分，以及一个向蚀刻部件提供第一种液体的第一供给管道。

公开(公告)号：CN1463467A

公开(公告)日：2003-12-24

申请号：CN02802116.9

申请日：2002-02-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 小畠厳贵 ,  白樫充彦 ,  粂川正行 ,  齐藤孝行 ,  当间康 ,  铃木作 ,  山田薰 ,  槙田裕司

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/6723 ,  B23H5/08 ,  C25F7/00 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173

Abstract: 提供一种电解处理装置，包括：与工件接触或靠近的处理电极；用于向工件供电的馈送电极；离子交换器，设置在工件和处理电极之间以及工件和馈送电极之间的空间的至少之一中；用于在处理电极和馈送电极之间施加电压的电源；和液体输送部件，用于向工件与处理电极和馈送电极中的至少一个之间的空间输送液体，所述离子交换器存在于其中。还提供一种具有该电解处理装置的衬底处理设备。