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公开(公告)号：CN1547759A
公开(公告)日：2004-11-17
申请号：CN02816766.X
申请日：2002-09-03
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67051
Abstract: 本发明涉及一种基片处理装置，包括一个用于支撑基片并使之转动的卡盘组件，一个其中放置有卡盘组件的可关闭的腔体，以及一个向腔体引入一种气体的气体引入装置。该基片处理装置还包括一个蚀刻部件，该蚀刻部件在卡盘组件使基片转动的同时蚀刻并清洁基片的周边部分，以及一个向蚀刻部件提供第一种液体的第一供给管道。
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