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公开(公告)号：CN100346008C
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN02827689.2
申请日：2002-11-29
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25F3/00 , B23H3/10 , H01L21/3063 , B01J49/00
Abstract: 一种用于再生离子交换剂的方法与设备，该方法与设备能够方便、快速地再生一种离子交换剂，并能够使清洗该已再生的离子交换剂以及处理废液时的负荷最小。一种用于再生被污染的离子交换剂的方法包括：提供由一个再生电极与一个反电极构成的一对电极、放置在这些电极之间的一个隔板以及放置在该反电极与该隔板之间的一个要被再生的电极；以及将电压加到该再生电极与该反电极之间，与此同时，将液体供应到该隔板与该再生电极之间，而且也将液体供应到该隔板与该反电极之间。
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公开(公告)号：CN1617955A
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：CN02827689.2
申请日：2002-11-29
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25F3/00 , B23H3/10 , H01L21/3063 , B01J49/00
Abstract: 一种用于再生离子交换剂的方法与设备，该方法与设备能够方便、快速地再生一种离子交换剂，并能够使清洗该已再生的离子交换剂以及处理废液时的负荷最小。一种用于再生被污染的离子交换剂的方法包括：提供由一个再生电极与一个反电极构成的一对电极、放置在这些电极之间的一个隔板以及放置在该反电极与该隔板之间的一个要被再生的电极；以及将电压加到该再生电极与该反电极之间，与此同时，将液体供应到该隔板与该再生电极之间，而且也将液体供应到该隔板与该反电极之间。
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公开(公告)号：CN1380447A
公开(公告)日：2002-11-20
申请号：CN02102704.8
申请日：2002-01-23
IPC: C25F1/02
Abstract: 一种电化学加工设备,包括:一个加工室,用来容纳超纯净水;一个阴极/阳极,浸在加工室内的超纯净水中;以及一个工件保持器,用来将工件保持在距离阴极/阳极的一个预定距离上,使工件的加工表面与超纯净水相接触。这种电化学加工设备还包括:一个阳极/阴极接触面,与被工件保持器所保持的工件相接触,从而,工件起阳极/阴极的作用;一种催化剂,具有强碱性阴离子交换功能或强酸性阳离子交换功能;一个电源,用来在阴极/阳极与工件之间施加一个电压;以及一个运动机构,用来使工件和催化剂实现相对运动。催化剂是设置在阴极/阳极与被工件保持器所保持的工件之间。
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公开(公告)号：CN117169267A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310632104.3
申请日：2023-05-31
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: G01N23/2251 , G01N23/227
Abstract: 本发明提供评价方法、评价装置及其制造方法，能够评价电子射线观察装置的一次光学系统中电子束的轨迹的偏移。评价方法包括：对照射对象照射由设有多个开口的多波束发生机构生成的一次电子束，取得由来自照射对象的二次电子束形成的第一图像，第一图像包括与设于多波束发生机构的各开口分别对应的多个第一图案；计算第一图案的位置与其目标位置的第一偏移量；对与设于多波束发生机构的多个开口分别对应的多个光电转换部照射光，取得由来自光电转换部的电子束形成的第二图像，第二图像包括与各光电转换部分别对应的多个第二图案；计算第二图案的位置与其目标位置的第二偏移量；根据第一及第二偏移量得到一次光学系统中一次电子束的轨道的偏移。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100449705C
公开(公告)日：2009-01-07
申请号：CN02802116.9
申请日：2002-02-21
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/6723 , B23H5/08 , C25F7/00 , H01L21/6708 , H01L21/67173
Abstract: 提供一种电解处理装置，包括：与工件接触或靠近的处理电极；用于向工件供电的馈送电极；离子交换器，设置在工件和处理电极之间以及工件和馈送电极之间的空间的至少之一中；用于在处理电极和馈送电极之间施加电压的电源；和液体输送部件，用于向工件与处理电极和馈送电极中的至少一个之间的空间输送液体，所述离子交换器存在于其中。还提供一种具有该电解处理装置的衬底处理设备。
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公开(公告)号：CN118486574A
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202410167293.6
申请日：2024-02-06
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种抑制绝缘构造体中的放电的绝缘构造体、静电透镜以及带电粒子线装置，绝缘构造体在带电粒子线装置用的真空中使用，其具备阳极、与所述阳极相对的阴极以及配置于所述阳极与所述阴极之间的绝缘体，所述绝缘体具有：绝缘体平坦面；以及从所述绝缘体平坦面突出的绝缘体凸部，所述阴极具有：阴极平坦面；以及从所述阴极平坦面凹陷且与所述绝缘体凸部嵌合的阴极凹部，所述绝缘体平坦面与所述阴极平坦面不接触，所述绝缘体凸部的外表面与所述阴极凹部的内表面不接触。
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公开(公告)号：CN101168847A
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200710148276.4
申请日：2007-09-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25F3/16 , H01L21/3063 , H01L21/465
Abstract: 一种用于电解抛光的电解液，在施加低电压时其可以提供具有高平整特性的加工表面，同时保证对导电材料的较高的加工速率，并且可以去除不必要的导电材料并暴露阻挡膜，而不导致碟陷、过蚀或阻挡膜和金属(导电材料)之间的界面处的蚀刻。用于工件的表面导电材料的电解抛光的电解液由水溶液构成，其包括至少一种有机酸或其盐、至少一种具有磺酸基的强酸、缓蚀剂和水溶性聚合物化合物。
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公开(公告)号：CN1313648C
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN02102704.8
申请日：2002-01-23
Abstract: 一种电化学加工设备，包括：一个加工室，用来容纳超纯净水；一个阴极/阳极，浸在加工室内的超纯净水中；以及一个工件保持器，用来将工件保持在距离阴极/阳极的一个预定距离上，使工件的加工表面与超纯净水相接触。这种电化学加工设备还包括：一个阳极/阴极接触面，与被工件保持器所保持的工件相接触，从而，工件起阳极/阴极的作用；一种催化剂，具有强碱性阴离子交换功能或强酸性阳离子交换功能；一个电源，用来在阴极/阳极与工件之间施加一个电压；以及一个运动机构，用来使工件和催化剂实现相对运动。催化剂是设置在阴极/阳极与被工件保持器所保持的工件之间。
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公开(公告)号：CN1463467A
公开(公告)日：2003-12-24
申请号：CN02802116.9
申请日：2002-02-21
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/6723 , B23H5/08 , C25F7/00 , H01L21/6708 , H01L21/67173
Abstract: 提供一种电解处理装置，包括：与工件接触或靠近的处理电极；用于向工件供电的馈送电极；离子交换器，设置在工件和处理电极之间以及工件和馈送电极之间的空间的至少之一中；用于在处理电极和馈送电极之间施加电压的电源；和液体输送部件，用于向工件与处理电极和馈送电极中的至少一个之间的空间输送液体，所述离子交换器存在于其中。还提供一种具有该电解处理装置的衬底处理设备。
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