公开(公告)号：CN101297394B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200680039739.7

申请日：2006-11-09

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 阿部由之 ,  宫崎忠一 ,  武藤英生 ,  东野朋子

IPC: H01L21/301 ,  B23K26/36 ,  B23K26/40

CPC classification number: H01L22/32 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/40 ,  B23K26/53 ,  B23K2101/40 ,  B23K2103/50 ,  B23K2103/56 ,  H01L21/268 ,  H01L21/304 ,  H01L21/4853 ,  H01L21/565 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/6835 ,  H01L21/6836 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/78 ,  H01L22/12 ,  H01L22/34 ,  H01L23/544 ,  H01L23/562 ,  H01L24/05 ,  H01L24/06 ,  H01L24/48 ,  H01L24/49 ,  H01L25/065 ,  H01L25/0657 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/5446 ,  H01L2223/5448 ,  H01L2224/02235 ,  H01L2224/04042 ,  H01L2224/05553 ,  H01L2224/05554 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/48227 ,  H01L2224/49175 ,  H01L2225/0651 ,  H01L2225/06562 ,  H01L2225/06582 ,  H01L2225/06596 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01004 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01077 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2224/45099 ,  H01L2224/45015 ,  H01L2924/207

Abstract: 在通过隐形切割来分割半导体晶片1W的情况下，使切断区域CR的测试用焊盘1LBt和对准标线Am靠近切断区域CR的宽度方向的一侧而进行配置，将用于形成改质区域PR的激光束照射到在平面上远离测试用焊盘1LBt和对准标线Am靠近切断区域CR的位置。由此，就能够在采用了隐形切割的半导体晶片的切断处理中降低或者防止切断形状缺陷。

公开(公告)号：CN101047146A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710004327.6

申请日：2007-01-23

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 阿部由之 ,  武藤英生

IPC: H01L21/78 ,  H01L21/301 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/78

Abstract: 本发明旨在提高半导体器件的可靠性。在该发明中，利用激光照射半导体晶片，使得在该半导体晶片的内部形成有断裂层，将该半导体晶片经由膏剂(粘合层)安装在划片胶带上，然后通过UV照射或冷却使该划片胶带的膏剂硬化，并随后使半导体晶片弯曲(断开)。通过该工艺，可以防止半导体芯片的移位和运动，因为在弯曲的时候膏剂已经硬化。作为结果，可以防止半导体芯片与相邻芯片相碰撞，并且也可以抑制半导体芯片产生碎裂；因此，可以提高半导体器件的可靠性。

公开(公告)号：CN101297394A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200680039739.7

申请日：2006-11-09

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 阿部由之 ,  宫崎忠一 ,  武藤英生 ,  东野朋子

IPC: H01L21/301 ,  B23K26/36 ,  B23K26/40

CPC classification number: H01L22/32 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/40 ,  B23K26/53 ,  B23K2101/40 ,  B23K2103/50 ,  B23K2103/56 ,  H01L21/268 ,  H01L21/304 ,  H01L21/4853 ,  H01L21/565 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/6835 ,  H01L21/6836 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/78 ,  H01L22/12 ,  H01L22/34 ,  H01L23/544 ,  H01L23/562 ,  H01L24/05 ,  H01L24/06 ,  H01L24/48 ,  H01L24/49 ,  H01L25/065 ,  H01L25/0657 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/5446 ,  H01L2223/5448 ,  H01L2224/02235 ,  H01L2224/04042 ,  H01L2224/05553 ,  H01L2224/05554 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/48227 ,  H01L2224/49175 ,  H01L2225/0651 ,  H01L2225/06562 ,  H01L2225/06582 ,  H01L2225/06596 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01004 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01077 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2224/45099 ,  H01L2224/45015 ,  H01L2924/207

Abstract: 在通过隐形切割来分割半导体晶片1W的情况下，使切断区域CR的测试用焊盘1LBt和对准标线Am靠近切断区域CR的宽度方向的一侧而进行配置，将用于形成改质区域PR的激光束照射到在平面上远离测试用焊盘1LBt和对准标线Am靠近切断区域CR的位置。由此，就能够在采用了隐形切割的半导体晶片的切断处理中降低或者防止切断形状缺陷。