蒸镀源以及真空处理装置

    公开(公告)号:CN113227442B

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202080007240.8

    申请日:2020-07-07

    Abstract: 抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞。在蒸镀源中,蒸发容器具有容器主体和顶板,容器主体包括底部和与上述底部连接设置的侧壁部,顶板与上述底部相向且设置有喷出喷嘴,在由上述容器主体和上述顶板包围的空间中容纳有蒸镀材料。第一加热机构与上述侧壁部相向。第二加热机构与上述顶板及上述喷出喷嘴的各自的侧部相向,以在从上述底部朝向上述顶板的方向上与上述第一加热机构分离的方式设置。第一反射器与上述第一加热机构相向,设置在与上述侧壁部相反的一侧。第二反射器与上述第二加热机构相向,设置在与上述侧部相反的一侧,以在上述方向上与上述第一反射器分离的方式设置。

    蒸镀源以及蒸镀装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113039306B

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202080006222.8

    申请日:2020-02-04

    Inventor: 藤井严 菊地诚

    Abstract: 本发明提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成,该第一喷嘴设置在收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔。第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成,该第二喷嘴设置在收纳箱的一方向上的比中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔。分别位于收纳箱的一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比蒸镀对象物的上述一方向上的长度长,在第二喷嘴的射出蒸镀材料的气化物质的开口端中,一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于中央区域侧的部分距离假想基准面的高度低,所述假想基准面是与第二喷嘴孔的孔轴正交的面。

    成膜用掩模及成膜装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109072423B

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN201780025519.7

    申请日:2017-04-24

    Abstract: 本发明的一个方式涉及的成膜用掩模具有一对第一板部和一对第二板部。上述一对第一板部具有一对第一内周缘部和一对第一外周缘部。上述一对第一内周缘部分别具有在第一轴向上相向且朝向相互分离的方向呈凸形状的第一弯曲部。上述一对第一外周缘部分别与上述一对第一内周缘部在上述第一轴向上相向。上述一对第二板部具有一对第二内周缘部和一对第二外周缘部。上述一对第二内周缘部分别具有在上述第二轴向上相向且朝向相互分离的方向呈凸形状的第二弯曲部。上述一对第二外周缘部分别与上述一对第二内周缘部在上述第二轴向上相向。

    基板搬运机器人及真空处理装置

    公开(公告)号:CN107665845A

    公开(公告)日:2018-02-06

    申请号:CN201710629887.4

    申请日:2017-07-28

    CPC classification number: H01L21/67742 H01L21/67167 H01L21/67196

    Abstract: 本发明提供即使没有对手部的末端进行检测也能进行基板的准确的移动的基板搬运机器人。将手部(40)的定位指部(55)以在支承板(41)上配置石英板(42)的方式构成,在石英板(42)的根部部分处,设置被固定于支承板(41)的固定部(50)。石英板(42)的固定部(50)以外的部分未被固定于支承板(41),即使被加热而支承板(41)延伸,石英板(42)也不延伸,不存在被设置于石英板(42)的末端的末端侧限位器(56)由于热膨胀的移动。

    基板搬运机器人及真空处理装置

    公开(公告)号:CN107665845B

    公开(公告)日:2023-04-14

    申请号:CN201710629887.4

    申请日:2017-07-28

    Abstract: 本发明提供即使没有对手部的末端进行检测也能进行基板的准确的移动的基板搬运机器人。将手部(40)的定位指部(55)以在支承板(41)上配置石英板(42)的方式构成,在石英板(42)的根部部分处,设置被固定于支承板(41)的固定部(50)。石英板(42)的固定部(50)以外的部分未被固定于支承板(41),即使被加热而支承板(41)延伸,石英板(42)也不延伸,不存在被设置于石英板(42)的末端的末端侧限位器(56)由于热膨胀的移动。

    成膜用掩模及成膜装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109072423A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201780025519.7

    申请日:2017-04-24

    Abstract: 本发明的一个方式涉及的成膜用掩模具有一对第一板部和一对第二板部。上述一对第一板部具有一对第一内周缘部和一对第一外周缘部。上述一对第一内周缘部分别具有在第一轴向上相向且朝向相互分离的方向呈凸形状的第一弯曲部。上述一对第一外周缘部分别与上述一对第一内周缘部在上述第一轴向上相向。上述一对第二板部具有一对第二内周缘部和一对第二外周缘部。上述一对第二内周缘部分别具有在上述第二轴向上相向且朝向相互分离的方向呈凸形状的第二弯曲部。上述一对第二外周缘部分别与上述一对第二内周缘部在上述第二轴向上相向。

    基板传送装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104576476B

    公开(公告)日:2018-10-09

    申请号:CN201410550430.0

    申请日:2014-10-16

    Abstract: 本发明提供一种基板传送装置,其能够提高在传送因自重而变形的基板时的基板传送的精确度。本发明的一个实施方式所涉及的基板传送装置(1)具有机械手部(20)、多个定位垫(23a、23b、23c)和至少一个支承垫(24)。机械手部(20)具有用于放置能够因自重而变形的基板(W)的放置面(201)。多个定位垫(23a、23b、23c)以自放置面(201)起的第1高度(H1)支承放置在该放置面(201)上的基板(W)的周缘。至少一个支承垫(24)设置于放置面(201),其支承放置在该放置面(201)上的基板W的下表面,具有高于第1高度(H1)的第2高度(H2)。

    蒸镀源以及真空处理装置

    公开(公告)号:CN113227442A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202080007240.8

    申请日:2020-07-07

    Abstract: 抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞。在蒸镀源中,蒸发容器具有容器主体和顶板,容器主体包括底部和与上述底部连接设置的侧壁部,顶板与上述底部相向且设置有喷出喷嘴,在由上述容器主体和上述顶板包围的空间中容纳有蒸镀材料。第一加热机构与上述侧壁部相向。第二加热机构与上述顶板及上述喷出喷嘴的各自的侧部相向,以在从上述底部朝向上述顶板的方向上与上述第一加热机构分离的方式设置。第一反射器与上述第一加热机构相向,设置在与上述侧壁部相反的一侧。第二反射器与上述第二加热机构相向,设置在与上述侧部相反的一侧,以在上述方向上与上述第一反射器分离的方式设置。

    蒸镀源以及蒸镀装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113039306A

    公开(公告)日:2021-06-25

    申请号:CN202080006222.8

    申请日:2020-02-04

    Inventor: 藤井严 菊地诚

    Abstract: 本发明提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成,该第一喷嘴设置在收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔。第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成,该第二喷嘴设置在收纳箱的一方向上的比中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔。分别位于收纳箱的一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比蒸镀对象物的上述一方向上的长度长,在第二喷嘴的射出蒸镀材料的气化物质的开口端中,一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于中央区域侧的部分距离假想基准面的高度低,所述假想基准面是与第二喷嘴孔的孔轴正交的面。

    基板传送装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104576476A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201410550430.0

    申请日:2014-10-16

    CPC classification number: H01L21/67739 H01L21/67742 H01L2221/68313

    Abstract: 本发明提供一种基板传送装置,其能够提高在传送因自重而变形的基板时的基板传送的精确度。本发明的一个实施方式所涉及的基板传送装置(1)具有机械手部(20)、多个定位垫(23a、23b、23c)和至少一个支承垫(24)。机械手部(20)具有用于放置能够因自重而变形的基板(W)的放置面(201)。多个定位垫(23a、23b、23c)以自放置面(201)起的第1高度(H1)支承放置在该放置面(201)上的基板(W)的周缘。至少一个支承垫(24)设置于放置面(201),其支承放置在该放置面(201)上的基板W的下表面,具有高于第1高度(H1)的第2高度(H2)。

Patent Agency Ranking