公开(公告)号：CN104576476B

公开(公告)日：2018-10-09

申请号：CN201410550430.0

申请日：2014-10-16

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 藤井严 ,  龟崎厚治 ,  江藤谦次 ,  佐佐木康次

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板传送装置，其能够提高在传送因自重而变形的基板时的基板传送的精确度。本发明的一个实施方式所涉及的基板传送装置(1)具有机械手部(20)、多个定位垫(23a、23b、23c)和至少一个支承垫(24)。机械手部(20)具有用于放置能够因自重而变形的基板(W)的放置面(201)。多个定位垫(23a、23b、23c)以自放置面(201)起的第1高度(H1)支承放置在该放置面(201)上的基板(W)的周缘。至少一个支承垫(24)设置于放置面(201)，其支承放置在该放置面(201)上的基板W的下表面，具有高于第1高度(H1)的第2高度(H2)。

公开(公告)号：CN104576476A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201410550430.0

申请日：2014-10-16

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 藤井严 ,  龟崎厚治 ,  江藤谦次 ,  佐佐木康次

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67739 ,  H01L21/67742 ,  H01L2221/68313

Abstract: 本发明提供一种基板传送装置，其能够提高在传送因自重而变形的基板时的基板传送的精确度。本发明的一个实施方式所涉及的基板传送装置(1)具有机械手部(20)、多个定位垫(23a、23b、23c)和至少一个支承垫(24)。机械手部(20)具有用于放置能够因自重而变形的基板(W)的放置面(201)。多个定位垫(23a、23b、23c)以自放置面(201)起的第1高度(H1)支承放置在该放置面(201)上的基板(W)的周缘。至少一个支承垫(24)设置于放置面(201)，其支承放置在该放置面(201)上的基板W的下表面，具有高于第1高度(H1)的第2高度(H2)。

公开(公告)号：CN116895513A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202310352493.4

申请日：2023-04-04

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 小林忠正 ,  山本良明 ,  佐佐木康次 ,  阿部洋一

IPC: H01J37/32 ,  H01J37/20

Abstract: 本发明的等离子体处理装置包括电极凸缘、腔室、绝缘凸缘、处理室、支撑部和高频电源。在安装凸缘与电极凸缘之间，配置有用于限定安装凸缘与电极凸缘之间的相隔距离的绝缘间隔部。绝缘间隔部被埋入于绝缘凸缘中。