蒸镀源以及真空处理装置

    公开(公告)号:CN113227442B

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202080007240.8

    申请日:2020-07-07

    Abstract: 抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞。在蒸镀源中,蒸发容器具有容器主体和顶板,容器主体包括底部和与上述底部连接设置的侧壁部,顶板与上述底部相向且设置有喷出喷嘴,在由上述容器主体和上述顶板包围的空间中容纳有蒸镀材料。第一加热机构与上述侧壁部相向。第二加热机构与上述顶板及上述喷出喷嘴的各自的侧部相向,以在从上述底部朝向上述顶板的方向上与上述第一加热机构分离的方式设置。第一反射器与上述第一加热机构相向,设置在与上述侧壁部相反的一侧。第二反射器与上述第二加热机构相向,设置在与上述侧部相反的一侧,以在上述方向上与上述第一反射器分离的方式设置。

    蒸镀源以及真空处理装置

    公开(公告)号:CN113227442A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202080007240.8

    申请日:2020-07-07

    Abstract: 抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞。在蒸镀源中,蒸发容器具有容器主体和顶板,容器主体包括底部和与上述底部连接设置的侧壁部,顶板与上述底部相向且设置有喷出喷嘴,在由上述容器主体和上述顶板包围的空间中容纳有蒸镀材料。第一加热机构与上述侧壁部相向。第二加热机构与上述顶板及上述喷出喷嘴的各自的侧部相向,以在从上述底部朝向上述顶板的方向上与上述第一加热机构分离的方式设置。第一反射器与上述第一加热机构相向,设置在与上述侧壁部相反的一侧。第二反射器与上述第二加热机构相向,设置在与上述侧部相反的一侧,以在上述方向上与上述第一反射器分离的方式设置。

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