公开(公告)号：CN107710397B

公开(公告)日：2021-02-19

申请号：CN201680034320.6

申请日：2016-06-07

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 织部爱美 ,  萩原宗源 ,  梅村博文 ,  糟谷宪昭 ,  小池润一郎 ,  小泉和彦 ,  藤野英二

IPC: H01L21/683 ,  C23C14/04

Abstract: 本发明提供一种能够确保掩膜与基板之间的紧贴性的基板保持装置。基板保持装置(30)具有掩膜板(311)、中间板(32)、保持板(33)和推压机构(34)。掩膜板(311)由磁性材料构成。中间板(32)构成为，具有与掩膜板(311)相向的第1表面、和与所述第1表面相反一侧的第2表面，所述第1表面能够与配置于掩膜板(311)上的基板(W)接触。保持板(33)以中间板(32)能够在与掩膜板(311)正交的轴向上作相对移动的方式支承该中间板(32)，并且具有磁铁(331)，该磁铁(331)构成为，能够隔着中间板(32)和基板(W)对掩膜板(311)进行磁吸附。推压机构(34)与所述第2表面相向配置，且其构成为能够沿所述轴向对所述第2表面的至少局部进行推压。

公开(公告)号：CN107710397A

公开(公告)日：2018-02-16

申请号：CN201680034320.6

申请日：2016-06-07

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 织部爱美 ,  萩原宗源 ,  梅村博文 ,  糟谷宪昭 ,  小池润一郎 ,  小泉和彦 ,  藤野英二

IPC: H01L21/683 ,  C23C14/04

Abstract: 本发明提供一种能够确保掩膜与基板之间的紧贴性的基板保持装置。基板保持装置(30)具有掩膜板(311)、中间板(32)、保持板(33)和推压机构(34)。掩膜板(311)由磁性材料构成。中间板(32)构成为，具有与掩膜板(311)相向的第1表面、和与所述第1表面相反一侧的第2表面，所述第1表面能够与配置于掩膜板(311)上的基板(W)接触。保持板(33)以中间板(32)能够在与掩膜板(311)正交的轴向上作相对移动的方式支承该中间板(32)，并且具有磁铁(331)，该磁铁(331)构成为，能够隔着中间板(32)和基板(W)对掩膜板(311)进行磁吸附。推压机构(34)与所述第2表面相向配置，且其构成为能够沿所述轴向对所述第2表面的至少局部进行推压。

公开(公告)号：CN102959681B

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：CN201180030323.X

申请日：2011-06-22

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 林卓郎 ,  曽我部浩二 ,  松本浩一 ,  桥本征典 ,  中村久三 ,  萩原宗源 ,  内田宽人 ,  森胜彦 ,  清水康男 ,  坂元盛昭

IPC: C23C16/44 ,  H01L31/18

CPC classification number: B08B7/00 ,  C23C16/24 ,  C23C16/4405 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/50 ,  C23C16/545 ,  H01L31/1876 ,  Y02E10/50 ,  Y02P70/521

Abstract: 本申请公开了一种成膜装置及成膜装置的维护方法。在成膜室的两侧的侧面下部分别设置有各两处、总计四处点火部。点火部在对可燃性的副生成物点火时通电。在成膜室的侧面上形成有用于测定成膜室内的压力的第一检测部。在成膜室的侧面下部形成有第二检测部。在成膜室的上部形成有测定成膜室内的空间温度的第三检测部。

公开(公告)号：CN102959681A

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201180030323.X

申请日：2011-06-22

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 林卓郎 ,  曽我部浩二 ,  松本浩一 ,  桥本征典 ,  中村久三 ,  萩原宗源 ,  内田宽人 ,  森胜彦 ,  清水康男 ,  坂元盛昭

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/44 ,  H01L31/04

CPC classification number: B08B7/00 ,  C23C16/24 ,  C23C16/4405 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/50 ,  C23C16/545 ,  H01L31/1876 ,  Y02E10/50 ,  Y02P70/521

Abstract: 本申请公开了一种成膜装置及成膜装置的维护方法。在成膜室的两侧的侧面下部分别设置有各两处、总计四处点火部。点火部在对可燃性的副生成物点火时通电。在成膜室的侧面上形成有用于测定成膜室内的压力的第一检测部。在成膜室的侧面下部形成有第二检测部。在成膜室的上部形成有测定成膜室内的空间温度的第三检测部。