公开(公告)号：CN105980597A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201580007320.2

申请日：2015-02-03

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 深尾万里 ,  糟谷宪昭

IPC: C23C14/54 ,  C23C14/04 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/042 ,  C23C14/547 ,  C23C14/56

Abstract: 提供能够使膜厚的测定结果立即反映到成膜工序中的薄膜制造装置和薄膜制造方法。在一个成膜单元(11)的成膜室(22)内，在成膜对象物形成构图后的薄膜，然后使其移动至另一成膜单元(11)的成膜室(22)而形成构图后的另一薄膜，此时，在位于成膜单元(11)之间的第一移动室(21)或第二移动室(23)中，从光发送部(32)将偏振光照射至所形成的薄膜之中的与成膜对象物表面接触的测定用薄膜的部分，由光接收部(33)接收反射光，通过椭圆偏振计求出薄膜的膜厚。在测定结果为异常值的情况下，使形成显示异常值的薄膜的成膜室(22)的运转停止。当在多个成膜室(22)形成不同的薄膜时，如果预先以各薄膜的测定用部分分离地定位的方式形成掩模，则即使在二层以上的薄膜形成后，也能够进行膜厚测定。

公开(公告)号：CN107710397A

公开(公告)日：2018-02-16

申请号：CN201680034320.6

申请日：2016-06-07

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 织部爱美 ,  萩原宗源 ,  梅村博文 ,  糟谷宪昭 ,  小池润一郎 ,  小泉和彦 ,  藤野英二

IPC: H01L21/683 ,  C23C14/04

Abstract: 本发明提供一种能够确保掩膜与基板之间的紧贴性的基板保持装置。基板保持装置(30)具有掩膜板(311)、中间板(32)、保持板(33)和推压机构(34)。掩膜板(311)由磁性材料构成。中间板(32)构成为，具有与掩膜板(311)相向的第1表面、和与所述第1表面相反一侧的第2表面，所述第1表面能够与配置于掩膜板(311)上的基板(W)接触。保持板(33)以中间板(32)能够在与掩膜板(311)正交的轴向上作相对移动的方式支承该中间板(32)，并且具有磁铁(331)，该磁铁(331)构成为，能够隔着中间板(32)和基板(W)对掩膜板(311)进行磁吸附。推压机构(34)与所述第2表面相向配置，且其构成为能够沿所述轴向对所述第2表面的至少局部进行推压。

公开(公告)号：CN107710397B

公开(公告)日：2021-02-19

申请号：CN201680034320.6

申请日：2016-06-07

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 织部爱美 ,  萩原宗源 ,  梅村博文 ,  糟谷宪昭 ,  小池润一郎 ,  小泉和彦 ,  藤野英二

IPC: H01L21/683 ,  C23C14/04

Abstract: 本发明提供一种能够确保掩膜与基板之间的紧贴性的基板保持装置。基板保持装置(30)具有掩膜板(311)、中间板(32)、保持板(33)和推压机构(34)。掩膜板(311)由磁性材料构成。中间板(32)构成为，具有与掩膜板(311)相向的第1表面、和与所述第1表面相反一侧的第2表面，所述第1表面能够与配置于掩膜板(311)上的基板(W)接触。保持板(33)以中间板(32)能够在与掩膜板(311)正交的轴向上作相对移动的方式支承该中间板(32)，并且具有磁铁(331)，该磁铁(331)构成为，能够隔着中间板(32)和基板(W)对掩膜板(311)进行磁吸附。推压机构(34)与所述第2表面相向配置，且其构成为能够沿所述轴向对所述第2表面的至少局部进行推压。