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公开(公告)号：CN101641272A
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200880009163.9
申请日：2008-04-15
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B65G49/06 , C23C14/56 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67748 , B65G49/061 , B65G49/062 , B65G49/063 , B65G49/068 , B65G2249/02 , C23C14/34 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67161 , H01L21/6719 , H01L21/67236 , H01L21/67751
Abstract: 一种输送机和成膜装置及其维护方法。在具有框架、支撑纵向放置有基板的托架并输送托架的下部支撑机构、和支撑托架的上部支撑机构的输送机中，框架由下部框架和上部框架构成，下部支撑机构设置于下部框架上，上部支撑架构设置于上部框架上，上部框架能够与下部框架分离而移动。于是，通过旋转上部框架，能够将阴极部件配置在形成于下部框架上方的空间内，因此可以使成膜处理路径与托架输送路径之间的间隔狭窄。因此，由于可以使成膜装置的内部区域狭窄，可以在能够输送托架的输送机以及具有该输送机并具有真空处理装置和输送系统的成膜装置中，使其设置面积狭小化。
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公开(公告)号：CN101641272B
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN200880009163.9
申请日：2008-04-15
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B65G49/06 , C23C14/56 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67748 , B65G49/061 , B65G49/062 , B65G49/063 , B65G49/068 , B65G2249/02 , C23C14/34 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67161 , H01L21/6719 , H01L21/67236 , H01L21/67751
Abstract: 一种输送机和成膜装置及其维护方法。在具有框架、支撑纵向放置有基板的托架并输送托架的下部支撑机构、和支撑托架的上部支撑机构的输送机中，框架由下部框架和上部框架构成，下部支撑机构设置于下部框架上，上部支撑架构设置于上部框架上，上部框架能够与下部框架分离而移动。于是，通过旋转上部框架，能够将阴极部件配置在形成于下部框架上方的空间内，因此可以使成膜处理路径与托架输送路径之间的间隔狭窄。因此，由于可以使成膜装置的内部区域狭窄，可以在能够输送托架的输送机以及具有该输送机并具有真空处理装置和输送系统的成膜装置中，使其设置面积狭小化。
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公开(公告)号：CN108138309B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201680058441.4
申请日：2016-10-05
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明的一个方式所涉及的材料供给装置具有材料供给室、熔化炉、至少一个容器、供给单元、以及输送单元。上述材料供给室设置在蒸镀室的外部，构成为能够维持成减压环境。上述熔化炉设置在上述材料供给室，将蒸发材料熔化。上述容器对在上述熔化炉中熔化的上述蒸发材料的熔融液进行收容。上述供给单元安装在上述熔化炉，从上述熔化炉向上述容器供给上述熔融液。上述输送单元构成为能够将从上述供给单元供给并在上述容器内凝固了的上述蒸发材料的铸块连同上述容器一起向上述蒸镀室输送。
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公开(公告)号：CN108138309A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680058441.4
申请日：2016-10-05
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明的一个方式所涉及的材料供给装置具有材料供给室、熔化炉、至少一个容器、供给单元、以及输送单元。上述材料供给室设置在蒸镀室的外部，构成为能够维持成减压环境。上述熔化炉设置在上述材料供给室，将蒸发材料熔化。上述容器对在上述熔化炉中熔化的上述蒸发材料的熔融液进行收容。上述供给单元安装在上述熔化炉，从上述熔化炉向上述容器供给上述熔融液。上述输送单元构成为能够将从上述供给单元供给并在上述容器内凝固了的上述蒸发材料的铸块连同上述容器一起向上述蒸镀室输送。
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