-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113302332B
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202080007249.9
申请日：2020-08-06
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明涉及稳定的蒸镀速度的控制。本发明的成膜装置具有真空容器、成膜源、收容容器、膜厚传感器以及膜厚控制器。所述成膜源收容在所述真空容器。所述收容容器收容在所述真空容器，能够维持比所述真空容器内的压力高的压力。所述膜厚传感器包含具有共振频率的振荡器，在所述膜厚传感器中，在所述振荡器堆积由从所述成膜源释放的成膜材料。所述膜厚控制器收容在所述收容容器，基于所述成膜材料的堆积引起的所述振荡频率的变化，计算从所述成膜源释放的所述成膜材料的释放量。
-
公开(公告)号：CN118407003A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202311710862.9
申请日：2023-12-12
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置，其即使在交换移动及扫描移动时的移动速度快也能够尽量抑制蒸镀物质的液面的摇晃，使基板面内的薄膜厚度分布均一性良好且生产性良好地成膜。配置在真空室内、用于使蒸镀物质气化或升华并对被处理基板进行蒸镀的真空蒸镀装置用蒸发源具有：收纳箱，其中填充蒸镀物质且在上表面具有气化的蒸镀物质的放出开口；以及加热机构，其能够加热收纳箱内的蒸镀物质；其具备移动机构，其使收纳箱在第一位置和第二位置之间交换移动，并且使位于第一位置或第二位置的收纳箱在一个方向上扫描移动；收纳箱内设置有分隔部件，其具有比面对放出开口的蒸镀物质的上表面部分更向上方突出的高度，将收纳箱的内部空间分隔成多个小空间。
-
公开(公告)号：CN113302332A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202080007249.9
申请日：2020-08-06
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明涉及稳定的蒸镀速度的控制。本发明的成膜装置具有真空容器、成膜源、收容容器、膜厚传感器以及膜厚控制器。所述成膜源收容在所述真空容器。所述收容容器收容在所述真空容器，能够维持比所述真空容器内的压力高的压力。所述膜厚传感器包含具有共振频率的振荡器，在所述膜厚传感器中，在所述振荡器堆积由从所述成膜源释放的成膜材料。所述膜厚控制器收容在所述收容容器，基于所述成膜材料的堆积引起的所述振荡频率的变化，计算从所述成膜源释放的所述成膜材料的释放量。
-
公开(公告)号：CN108138309B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201680058441.4
申请日：2016-10-05
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明的一个方式所涉及的材料供给装置具有材料供给室、熔化炉、至少一个容器、供给单元、以及输送单元。上述材料供给室设置在蒸镀室的外部，构成为能够维持成减压环境。上述熔化炉设置在上述材料供给室，将蒸发材料熔化。上述容器对在上述熔化炉中熔化的上述蒸发材料的熔融液进行收容。上述供给单元安装在上述熔化炉，从上述熔化炉向上述容器供给上述熔融液。上述输送单元构成为能够将从上述供给单元供给并在上述容器内凝固了的上述蒸发材料的铸块连同上述容器一起向上述蒸镀室输送。
-
公开(公告)号：CN108138309A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680058441.4
申请日：2016-10-05
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明的一个方式所涉及的材料供给装置具有材料供给室、熔化炉、至少一个容器、供给单元、以及输送单元。上述材料供给室设置在蒸镀室的外部，构成为能够维持成减压环境。上述熔化炉设置在上述材料供给室，将蒸发材料熔化。上述容器对在上述熔化炉中熔化的上述蒸发材料的熔融液进行收容。上述供给单元安装在上述熔化炉，从上述熔化炉向上述容器供给上述熔融液。上述输送单元构成为能够将从上述供给单元供给并在上述容器内凝固了的上述蒸发材料的铸块连同上述容器一起向上述蒸镀室输送。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.014 seconds)
