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公开(公告)号：CN109545677A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201810903028.4
申请日：2018-08-09
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/302 , H01L21/306 , H01L21/67
Abstract: 本发明供一种基板处理方法以及基板处理装置，能够抑制从喷嘴的喷出口吹溅液体。该基板处理方法包括第一步骤与第二步骤。第一步骤中，将硫酸与双氧水的混合液，通过配管从喷嘴喷向基板。第一步骤之后，在第二步骤中，将双氧水通过配管从喷嘴喷向基板。第一步骤包括：(A)将所述混合液开始导入至所述配管的混合液导入开始步骤；(B)在(A)之后，向所述配管停止导入所述硫酸的混合液导入停止步骤；(C)在所述混合液与所述双氧水的界面部形成气体层的气体层形成步骤；(D)在与(B)同时或其刚结束后，降低导入至所述配管的所述双氧水的流量或者使流量为零的缓冲步骤。
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公开(公告)号：CN109545677B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN201810903028.4
申请日：2018-08-09
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/302 , H01L21/306 , H01L21/67
Abstract: 本发明供一种基板处理方法以及基板处理装置，能够抑制从喷嘴的喷出口吹溅液体。该基板处理方法包括第一步骤与第二步骤。第一步骤中，将硫酸与双氧水的混合液，通过配管从喷嘴喷向基板。第一步骤之后，在第二步骤中，将双氧水通过配管从喷嘴喷向基板。第一步骤包括：(A)将所述混合液开始导入至所述配管的混合液导入开始步骤；(B)在(A)之后，向所述配管停止导入所述硫酸的混合液导入停止步骤；(C)在所述混合液与所述双氧水的界面部形成气体层的气体层形成步骤；(D)在与(B)同时或其刚结束后，降低导入至所述配管的所述双氧水的流量或者使流量为零的缓冲步骤。
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公开(公告)号：CN116525410A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310046722.X
申请日：2023-01-13
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 伊豆田崇
Abstract: 本发明提供一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理方法包含以下步骤：取得衬底信息；选择液体更换步骤及浓度调整步骤中的任一个；第1处理液调整步骤，在所述选择的步骤中选择所述液体更换步骤的情况下，在所述处理槽的所述处理液不满足特定条件时，从所述处理槽排出所述处理槽的所述处理液的至少一部分，对所述处理槽供给硫酸及过氧化氢水；第2处理液调整步骤，在所述选择的步骤中选择所述浓度调整步骤的情况下，一边使所述处理槽的所述处理液经由连接于所述处理槽的配管循环，一边调整所述处理槽的所述处理液的浓度；及一边使在所述第1处理液调整步骤或所述第2处理液调整步骤中调整后的所述处理槽的所述处理液，经由连接于所述处理槽的配管循环，一边将所述衬底浸渍于所述处理槽的所述处理液。
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公开(公告)号：CN117747490A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311204841.X
申请日：2023-09-18
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)具备处理槽(110)、基板保持部(120)、气泡供给部(135)和多个处理液供给部(An)。基板保持部(120)将基板(W)浸渍在贮存于处理槽(110)的处理液(LQ)中。气泡供给部(135)从基板(W)的下方对处理液(LQ)供给多个气泡(BB)。处理槽(110)包括第一侧壁(116)和第二侧壁(117)。多个处理液供给部(An)包括至少1个第一处理液供给部(An)和至少1个第二处理液供给部(An)。至少1个第一处理液供给部(An)配置在第一侧壁(116)侧，向气泡(BB)供给处理液(LQ)。至少1个第二处理液供给部(An)配置在第二侧壁(117)侧，向气泡(BB)供给处理液(LQ)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117747480A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311143818.4
申请日：2023-09-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 伊豆田崇
IPC: H01L21/67 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/687 , B08B3/04
Abstract: 本发明通过重新审视具备分批式模块和单片式模块的装置的结构，提供一种一边可靠地搬送基板一边抑制了制造成本的基板处理装置。本发明着注目于基板处理装置(1)中的特别是取出成为铅垂姿势的基板(W)的排列中的一张基板(W)，使基板(W)的姿势成为水平姿势，并将基板(W)搬送到设于单片基板搬送区域(R3)的附近的预定位置的过程。本发明通过单独执行取出基板的过程和变更基板(W)的姿势的过程，使基板拾取部(80)的结构简单化，能够降低使基板拾取部(80)动作时产生的位置上的误差。
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公开(公告)号：CN109545704B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN201810994507.1
申请日：2018-08-29
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明提供一种药液生成方法、药液生成装置及基板处理装置。一种药液生成方法，生成用以对基板上所形成的膜进行处理的药液，所述药液生成方法包括气体溶解工序，所述气体溶解工序通过将含有氧气的含氧气体及含有惰性气体的含惰性气体供给至药液来使所述含氧气体及所述含惰性气体溶解至药液中，并且通过将供给至所述药液的所述含氧气体与所述含惰性气体的混合比设定为与规定的目标溶解氧浓度相对应的混合比来调整药液的溶解氧浓度。
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公开(公告)号：CN119495558A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202411011122.0
申请日：2024-07-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 伊豆田崇
IPC: H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/311 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明涉及基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：向基板(W)供给第1药液的第1药液工序(步骤S2)；向基板(W)供给漂洗液的漂洗工序(步骤S3)；在使漂洗液的供给停止的状态下使基板(W)旋转而从凹部(320)排出漂洗液的除去工序(步骤S4)；和向漂洗液被除去了的基板(W)供给第2药液的第2药液工序(步骤S5)。在第1药液工序(步骤S2)中，利用第1防护件(61a)挡住从旋转的基板(W)排出的第1药液。在漂洗工序(步骤S3)中，从第1防护件(61a)切换为第2防护件(61b)。在除去工序(步骤S4)及第2药液工序(步骤S5)中，利用第2防护件(61b)挡住从旋转的基板(W)排出的第1漂洗液及第2药液。
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公开(公告)号：CN115938981A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211141533.2
申请日：2022-09-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法是通过衬底处理装置(100)来执行的。衬底处理装置(100)具备处理槽(110)、及配置在处理槽(110)的内部的气泡供给管(21)。衬底处理方法中，衬底保持部(120)将衬底(W)浸渍于处理槽(110)中所贮存的碱性处理液(LQ)中。气泡供给部(200)在衬底(W)浸渍于碱性处理液(LQ)中的状态下，从衬底(W)的下方对碱性处理液(LQ)，从设置在气泡供给管(21)的多个气泡孔(G)的各者供给气泡(BB)。
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公开(公告)号：CN109545704A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201810994507.1
申请日：2018-08-29
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明提供一种药液生成方法、药液生成装置及基板处理装置。一种药液生成方法，生成用以对基板上所形成的膜进行处理的药液，所述药液生成方法包括气体溶解工序，所述气体溶解工序通过将含有氧气的含氧气体及含有惰性气体的含惰性气体供给至药液来使所述含氧气体及所述含惰性气体溶解至药液中，并且通过将供给至所述药液的所述含氧气体与所述含惰性气体的混合比设定为与规定的目标溶解氧浓度相对应的混合比来调整药液的溶解氧浓度。
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