公开(公告)号：CN117393460A

公开(公告)日：2024-01-12

申请号：CN202310762281.3

申请日：2023-06-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 佐佐木光敏 ,  山本学

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  F17D1/14 ,  F17D1/04 ,  F17D3/01

Abstract: 本发明提供能够一边抑制与升降器的干涉一边向基板的表面均匀地供给气泡的基板处理装置。在处理槽的内部形成朝向上方的处理液的层流，基板(W)浸渍于该处理液中。在处理槽的内部配置有八根气泡供给管(51)，这八根气泡供给管(51)从基板的下方向处理液中供给气泡。将八根气泡供给管(51)中的最内侧的两根配置于冲孔板(60)的凹部(65)的内侧，使这两根气泡供给管(51)的高度位置比其他气泡供给管(51)的高度位置低。即使在升降器(20)使基板下降至浸渍位置时，也能够防止背板(22)的前端部(22a)与气泡供给管(51)碰撞。另外，设有包含最内侧的两根气泡供给管(51)的八根气泡供给管(51)，因此能够向基板的表面均匀地供给气泡。

公开(公告)号：CN117747490A

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202311204841.X

申请日：2023-09-18

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 佐佐木光敏 ,  伊豆田崇 ,  山本学

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/10 ,  B08B3/04

Abstract: 本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)具备处理槽(110)、基板保持部(120)、气泡供给部(135)和多个处理液供给部(An)。基板保持部(120)将基板(W)浸渍在贮存于处理槽(110)的处理液(LQ)中。气泡供给部(135)从基板(W)的下方对处理液(LQ)供给多个气泡(BB)。处理槽(110)包括第一侧壁(116)和第二侧壁(117)。多个处理液供给部(An)包括至少1个第一处理液供给部(An)和至少1个第二处理液供给部(An)。至少1个第一处理液供给部(An)配置在第一侧壁(116)侧，向气泡(BB)供给处理液(LQ)。至少1个第二处理液供给部(An)配置在第二侧壁(117)侧，向气泡(BB)供给处理液(LQ)。