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公开(公告)号：CN1200902C
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN01807058.2
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供一种透明涂膜基片，它具有折射指数较小、收缩性能较低的透明膜；该透明膜对基片或在基片上形成的透明导电膜有极好的附着性，并且具有极好的膜强度、防水性、耐化学性等性质。透明涂膜基片由基片和在基片的表面上形成的透明涂膜形成，透明涂膜包含(i)含有具有氟代烷基的聚硅酮的基质，(ii)由壳和封入壳中的多孔物质或空腔构成的无机化合物颗粒，所述多孔物质或空腔在所形成的透明涂膜中保持不变。
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公开(公告)号：CN1673144A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN200510054846.4
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供了一种无机化合物颗粒，它包括：壳，以及封入壳中的多孔物质或空腔。还提供了制备所述无机化合物颗粒的方法，它包括以下步骤：分别制备二氧化硅源(原材料)和非二氧化硅无机化合物源(原材料)的碱性水溶液，或者预先制备二氧化硅源和非二氧化硅无机化合物源的混合物的水溶液；从多孔材料前体颗粒中至少部分地将非二氧化硅的无机化合物(除了硅和氧以外的元素)选择性地除去；将可水解的有机硅化合物或硅酸溶液加入步骤2中制得的多孔材料颗粒(包括壳中有空腔的颗粒的前体)的分散液中。
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公开(公告)号：CN1436156A
公开(公告)日：2003-08-13
申请号：CN01807058.2
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供一种透明涂膜基片，它具有折射指数较小、收缩性能较低的透明膜；该透明膜对基片或在基片上形成的透明导电膜有极好的附着性，并且具有极好的膜强度、防水性、耐化学性等性质。透明涂膜基片由基片和在基片的表面上形成的透明涂膜形成，透明涂膜包含(i)含有具有氟代烷基的聚硅酮的基质，(ii)由壳和封入壳中的多孔物质或空腔构成的无机化合物颗粒，所述多孔物质或空腔在所形成的透明涂膜中保持不变。
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公开(公告)号：CN1506306A
公开(公告)日：2004-06-23
申请号：CN200310121304.5
申请日：2003-12-11
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C01B33/14 , C01B33/141 , C01B33/143
Abstract: 在种粒子分散液中添加规定大小的活性硅酸粒子，可以使种粒子迅速增大。本发明提供一种硅溶胶的制造方法，其特征是在下述(a)的种粒子分散液中，边加热边连续或间断地添加下述(b)的活性硅酸粒子分散液，由此使活性硅酸粒子附着在种粒子上使粒子增大。(a)种粒子的分散液，是通过激光用动态光散射法测定的平均粒径(DLS)在5～1000nm范围内的种粒子的水性分散液，pH在7～12范围内；(b)活性硅酸粒子分散液，是通过激光用动态光散射法测定的平均粒径(DLF)在2～50nm范围内(但是，平均粒径(DLF)小于平均粒径(DLS))、并且用NaOH滴定法测定的平均粒径(DNaF)在0.9～6nm的范围内，再者上述平均粒径(DLF)与上述平均粒径(DNaF)之比(DLF)/(DNaF)在1.8～30范围内的活性硅酸粒子的水性分散液，pH在5～11范围内。
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公开(公告)号：CN1461777A
公开(公告)日：2003-12-17
申请号：CN03138555.9
申请日：2003-05-28
Applicant: 触媒化成工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有硬涂膜的涂膜基材，该硬涂膜与基材的粘附性好、耐擦伤性、膜硬度等均优，且生产性等也得到提高。附有硬涂膜的基材由基材和基材上形成的硬涂膜组成，它具有下述特征：含有母料成分和五氧化锑(Sb2O5)粒子，该五氧化锑粒子的平均粒径在2－100nm的范围，硬涂膜中的五氧化锑粒子的含量在5－95重量％的范围。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1290278A
公开(公告)日：2001-04-04
申请号：CN99802769.3
申请日：1999-01-29
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C08G77/16 , C08G77/06 , C08L83/06 , G02F1/1339
CPC classification number: C08G77/06 , C08G77/16 , G02F1/13392
Abstract: 主要由聚硅氧烷制成的有机聚硅氧烷细颗粒,该聚硅氧烷具有与硅原子直接相连的烃基(a)和与硅原子直接相连的OH基团(b),其中:(i)所述烃基(a)中的碳占所述细颗粒重量的5—35%;(ii)每克细颗粒中OH基团(b)的量占1—8毫克当量;(iii)10%压缩弹性模量为150—900kg/mm2;(iv)平均压缩变形(Cr)m为20—60%;(v)平均弹性回复率(Rr)m为60—90%;(vi)平均粒径为0.5—50微米。
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公开(公告)号：CN1268313C
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN02148605.0
申请日：2002-11-12
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: A61K6/04
CPC classification number: C04B35/63 , A61K6/0008 , A61K6/0076 , A61K6/0088 , A61K6/0235 , A61K6/024 , A61K6/0245 , A61K6/0255 , C04B35/62655 , C04B38/009 , C04B2111/00836 , C04B2235/3213 , C04B2235/3215 , C04B2235/3217 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3232 , C04B2235/3244 , C04B2235/3284 , C04B2235/3409 , C04B2235/3418 , C04B2235/5409 , C04B2235/5436 , C04B2235/9646 , C04B12/04 , C04B22/08 , C04B28/24 , C04B40/0082 , A61K6/083 , C08L43/04 , C08L33/14 , C08L33/10
Abstract: 本发明提供由二氧化硅与二氧化硅以外的无机氧化物组成的、非晶质的、X射线不透明性高的牙科材料用无机粒子。该牙科材料用无机粒子，由含量为70-98重量%的二氧化硅和选自Zr、Ti、La、Ba、Sr、Hf、Y、Zn、Al、B中1种或2种以上元素的氧化物组成，其中二氧化硅的5-70重量%来自于酸性硅酸溶液，二氧化硅的30-95重量%来自于硅溶胶。该牙科材料用无机粒子，其平均粒径在1-10μm的范围内，比表面积在50-350m2/g的范围内，细孔容积在0.05-0.5ml/g的范围内，由X射线衍射得到的结晶性为无定形，折射率在1.47-1.60的范围内。
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公开(公告)号：CN1488698A
公开(公告)日：2004-04-14
申请号：CN03157777.6
申请日：2003-08-28
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C09D183/00 , C09D5/30 , H01J5/08 , C03C17/30
Abstract: 本发明提供了透明薄膜形成用涂布液、利用该涂布液形成的带透明导电性薄膜的基体材料及具备该基体材料的显示装置。使用该涂布液形成透明薄膜时不会产生裂缝，且在导电层形成于下层时，包括导电层在内均匀地收缩，因此可形成不会产生裂缝、膜强度和导电性得到提高的透明薄膜。本发明的透明薄膜形成用涂布液包含由(i)四烷氧基硅烷的水解物和(ii)具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的水解物形成的基质前体，且基质前体中的(ii)的比例按固体成分计在0.5～50重量％的范围内。上述基质前体为四烷氧基硅烷和具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的混合物的同时水解物。
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公开(公告)号：CN1482854A
公开(公告)日：2004-03-17
申请号：CN03150181.8
申请日：2003-07-18
Applicant: 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: H05K9/0096 , C08K3/08 , C08K3/10 , C08K3/36 , C09D1/00 , C09D5/24 , C09D183/02 , C09D183/04 , H01B1/16 , H01B1/18
Abstract: 本发明公开了一种用于形成透明导电薄膜的涂层液，包括平均颗粒直径1－200nm的导电微粒、4－200nm的二氧化硅颗粒和极性溶剂。二氧化硅颗粒为由平均2－10个颗粒连接成的链式形式，其中碱的含量按碱金属M计不超过1000ppm。本发明还公开了一种带透明导电薄膜的基层，包括基质、在基质上形成并含有平均颗粒直径1－200nm的导电微粒和4－200nm的二氧化硅颗粒和或由平均2－10个颗粒连接而成的链式二氧化硅颗粒的透明导电微粒层，及设置在该微粒层上且折射系数低于透明导电微粒层的透明薄膜。本发明进一步公开了一种应用该带透明导电薄膜的基层的显示设备。该涂层液可形成具有低表面电阻、优良的抗静电性能、优良的电磁屏蔽性能、高薄膜强度和对基质的优良粘附性的透明导电薄膜。
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公开(公告)号：CN100398583C
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200380102613.6
申请日：2003-10-27
Applicant: 触媒化成工业株式会社 , 富士通株式会社
IPC: C08G77/08 , C09D183/04 , C09D183/02 , C09D5/25 , H01L21/31 , C01B33/12
CPC classification number: H01L21/02126 , C08G77/08 , C09D183/04 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/3122 , H01L21/316
Abstract: 本发明提供一种用于形成具有2.5或2.5以下较小的介电常数、杨氏模量为6.0GPa或6.0GPa以上、且疏水性优良的低介电常数无定形二氧化硅类被膜的涂布液及其配制方法。该涂布液为含有以如下方法获得的硅化合物的溶液：将原硅酸四烷基酯(TAOS)及特定烷氧基硅烷(AS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解而得到硅化合物；或使原硅酸四烷基酯(TAOS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解或部分水解后，与特定烷氧基硅烷(AS)或其水解产物或部分水解产物混合，再根据需要使其部分或全部水解而得到硅化合物。另外，该涂布液是将上述成分按特定比例混合，并在特定的操作条件下进行配制的。
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