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公开(公告)号：CN1200902C
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN01807058.2
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供一种透明涂膜基片，它具有折射指数较小、收缩性能较低的透明膜；该透明膜对基片或在基片上形成的透明导电膜有极好的附着性，并且具有极好的膜强度、防水性、耐化学性等性质。透明涂膜基片由基片和在基片的表面上形成的透明涂膜形成，透明涂膜包含(i)含有具有氟代烷基的聚硅酮的基质，(ii)由壳和封入壳中的多孔物质或空腔构成的无机化合物颗粒，所述多孔物质或空腔在所形成的透明涂膜中保持不变。
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公开(公告)号：CN1673144A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN200510054846.4
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供了一种无机化合物颗粒，它包括：壳，以及封入壳中的多孔物质或空腔。还提供了制备所述无机化合物颗粒的方法，它包括以下步骤：分别制备二氧化硅源(原材料)和非二氧化硅无机化合物源(原材料)的碱性水溶液，或者预先制备二氧化硅源和非二氧化硅无机化合物源的混合物的水溶液；从多孔材料前体颗粒中至少部分地将非二氧化硅的无机化合物(除了硅和氧以外的元素)选择性地除去；将可水解的有机硅化合物或硅酸溶液加入步骤2中制得的多孔材料颗粒(包括壳中有空腔的颗粒的前体)的分散液中。
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公开(公告)号：CN1436156A
公开(公告)日：2003-08-13
申请号：CN01807058.2
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供一种透明涂膜基片，它具有折射指数较小、收缩性能较低的透明膜；该透明膜对基片或在基片上形成的透明导电膜有极好的附着性，并且具有极好的膜强度、防水性、耐化学性等性质。透明涂膜基片由基片和在基片的表面上形成的透明涂膜形成，透明涂膜包含(i)含有具有氟代烷基的聚硅酮的基质，(ii)由壳和封入壳中的多孔物质或空腔构成的无机化合物颗粒，所述多孔物质或空腔在所形成的透明涂膜中保持不变。
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公开(公告)号：CN1989070B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200580024339.4
申请日：2005-07-19
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C01B33/18 , C09D201/00
CPC classification number: C01B33/193 , C01B33/18 , C08K3/36 , C08K7/26 , C09C1/30 , C09D7/61 , C09D7/67 , C09D7/68 , Y10T428/2995 , Y10T428/31935
Abstract: 为了得到低折射率的二氧化硅类微粒，制成外壳内部具有多孔物质及/或空腔的中空球状二氧化硅类微粒。通过边调整二氧化硅源与除二氧化硅以外的无机氧化物源的添加比率，边使多孔复合氧化物微粒(一次粒子)成长，然后除去二氧化硅以外的无机氧化物，制备在外壳内部具有空腔的中空球状二氧化硅类微粒的分散液。然后根据需要清洗二氧化硅类微粒分散液后，在常温～300℃的范围内熟化，进一步在50～300℃的范围内进行水热处理。
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公开(公告)号：CN1498145A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN02807186.7
申请日：2002-03-25
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: B22F1/02
CPC classification number: B22F1/0022 , B22F1/0003 , B22F1/0018 , B22F1/02 , B22F9/24 , B22F2998/00 , B82Y30/00 , C09D5/24 , C22C32/0015 , H01B1/02 , H01B1/22 , Y10T428/2982 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996
Abstract: 本发明的主题是提供表面电阻低约102至104Ω/□的金属粒子微粒子，其具有良好的抗静电性能、抗反射性能和电磁屏蔽性能，并适用于形成具有良好可靠性和耐用性的透明导电涂层膜，本发明还提供制备金属粒子微粒子的方法。本发明提供的金属粒子微粒子包含铁和非铁金属，其平均粒径范围为1至200nm，铁含量范围为0.1至3.0重量％。优选非铁金属为选自Au、Ag、Pd、Pt、Rh、Ru、Cu、Ni、Co、Sn、Ti、In、Al、Ta和Sb的一种或多种金属。在根据本发明的金属粒子微粒子中，金属粒子微粒子的部分表面可以氧化物和/或氢氧化物的形式存在。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100478411C
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN03157777.6
申请日：2003-08-28
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C09D183/00 , C09D5/30 , H01J5/08 , C03C17/30
Abstract: 本发明提供了透明薄膜形成用涂布液、利用该涂布液形成的带透明导电性薄膜的基体材料及具备该基体材料的显示装置。使用该涂布液形成透明薄膜时不会产生裂缝，且在导电层形成于下层时，包括导电层在内均匀地收缩，因此可形成不会产生裂缝、膜强度和导电性得到提高的透明薄膜。本发明的透明薄膜形成用涂布液包含由(i)四烷氧基硅烷的水解物和(ii)具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的水解物形成的基质前体，且基质前体中的(ii)的比例按固体成分计在0.5～50重量%的范围内。上述基质前体为四烷氧基硅烷和具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的混合物的同时水解物。
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公开(公告)号：CN101225263A
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200710307345.1
申请日：2007-12-27
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C09D7/12 , C09D183/00 , C09D133/04 , G02B1/10
Abstract: 本发明提供可以通过将透明被膜形成用涂料1次涂布并干燥而形成与基材的密合性、强度等良好的同时，防反射性能和防眩性能良好，且生产性和经济性也良好的透明被膜的透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材。所述透明被膜形成涂料是由与基体形成成分的亲和性互不相同的低折射率微粒及高折射率微粒、基体形成成分、聚合引发剂和溶剂形成的透明被膜形成涂料，其特征在于，低折射率微粒及高折射率微粒都以硅烷偶联剂进行了表面处理，经表面处理的低折射率微粒(A)的折射率(nA)在1.20～1.45的范围内，平均粒径在5～200nm的范围内，表面电荷量(QA)在5～80μeq/g的范围内，经表面处理的高折射率微粒(B)的折射率(nB)比(nA)高，平均粒径在0.5～5μm的范围内，表面电荷量(QB)在25～100μeq/g的范围内，低折射率微粒(A)的浓度以固体成分计在0.1～10重量％的范围内，高折射率微粒(B)的浓度以固体成分计在0.1～10重量％的范围内，基体形成成分的以固体成分计的浓度在1～30重量％的范围内。
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公开(公告)号：CN1847305A
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN200610073199.6
申请日：2006-04-12
Applicant: 触媒化成工业株式会社 , 共荣社化学株式会社
Abstract: 本发明提供作为防反射膜有用的耐擦伤性、耐化学试剂性、透明性、防反射性能等优良的用于形成低折射率膜的组合物。该用于形成低折射率膜的组合物由含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂、和经通式RnSiX(4－n)表示的硅烷偶合剂处理的中空二氧化硅类微粒组成。式中，R：碳原子数为1～4的烷氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、全氟(甲基)丙烯酰基，X：碳原子数为1～4的烷氧基、硅烷醇基、卤原子或氢原子。
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公开(公告)号：CN1278805C
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN03136718.6
申请日：2003-05-20
Applicant: 触媒化成工业株式会社
Abstract: 本发明提供能用于形成防带电性和电磁屏蔽性优良，且制造可靠性和成本也非常理想的透明导电性覆膜的铟系金属微粒及其分散溶胶。该铟系金属微粒的特征是，平均粒径在2～200nm的范围内。上述铟系金属微粒可以只含有铟金属，也可以含有铟金属和选自Sb、Sn、Ag、Au、Zn、Cu、Bi、Cd的1种以上的金属成分。上述铟系金属微粒分散到水及/或有机溶剂而形成铟系金属微粒分散溶胶。该铟系金属微粒的制造方法的特征是，在含铟化合物及酮化合物、且溶剂中的醇含量在40重量%以上的混合醇溶液中加入还原剂。
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公开(公告)号：CN1626584A
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN200410090548.6
申请日：2004-11-08
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C09C3/10 , C09C1/28 , C09D133/00
CPC classification number: C01G30/005 , B82Y30/00 , C01B33/146 , C01F7/02 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/40 , H01C17/06533
Abstract: 本发明提供了一种链氧化锑细颗粒团，它包含平均粒径为5－50nm、以链的形式连接并且平均连接数为2－30的氧化锑细颗粒。较佳地，所述细颗粒团用于形成硬涂膜。所述细颗粒团可通过以下方法制备：用阳离子交换树脂处理碱金属锑酸盐水溶液以制备锑酸(凝胶)分散液，然后用阴离子交换树脂处理所述分散液，和/或向所述分散液中加入碱。本发明还提供了一种具有膜的基材，它包含基材和硬涂膜，所述硬涂膜包含链无机氧化物细颗粒团和基质，其中，平均有2－30个无机氧化物细颗粒以链的形式连接。作为无机氧化物颗粒，优选二氧化硅颗粒或二氧化硅－氧化铝颗粒，更优选多孔颗粒和/或内部具有空穴的空心颗粒。通过形成该硬涂膜，可以得到具有硬涂膜的基材，它改善了膜对基材的粘着性和抗划伤性，防止了灰尘的附着，并且不会使产率下降。
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