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公开(公告)号：CN1673144A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN200510054846.4
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供了一种无机化合物颗粒，它包括：壳，以及封入壳中的多孔物质或空腔。还提供了制备所述无机化合物颗粒的方法，它包括以下步骤：分别制备二氧化硅源(原材料)和非二氧化硅无机化合物源(原材料)的碱性水溶液，或者预先制备二氧化硅源和非二氧化硅无机化合物源的混合物的水溶液；从多孔材料前体颗粒中至少部分地将非二氧化硅的无机化合物(除了硅和氧以外的元素)选择性地除去；将可水解的有机硅化合物或硅酸溶液加入步骤2中制得的多孔材料颗粒(包括壳中有空腔的颗粒的前体)的分散液中。
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公开(公告)号：CN1436156A
公开(公告)日：2003-08-13
申请号：CN01807058.2
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供一种透明涂膜基片，它具有折射指数较小、收缩性能较低的透明膜；该透明膜对基片或在基片上形成的透明导电膜有极好的附着性，并且具有极好的膜强度、防水性、耐化学性等性质。透明涂膜基片由基片和在基片的表面上形成的透明涂膜形成，透明涂膜包含(i)含有具有氟代烷基的聚硅酮的基质，(ii)由壳和封入壳中的多孔物质或空腔构成的无机化合物颗粒，所述多孔物质或空腔在所形成的透明涂膜中保持不变。
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公开(公告)号：CN1200902C
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN01807058.2
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供一种透明涂膜基片，它具有折射指数较小、收缩性能较低的透明膜；该透明膜对基片或在基片上形成的透明导电膜有极好的附着性，并且具有极好的膜强度、防水性、耐化学性等性质。透明涂膜基片由基片和在基片的表面上形成的透明涂膜形成，透明涂膜包含(i)含有具有氟代烷基的聚硅酮的基质，(ii)由壳和封入壳中的多孔物质或空腔构成的无机化合物颗粒，所述多孔物质或空腔在所形成的透明涂膜中保持不变。
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公开(公告)号：CN105612273B
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201580001705.8
申请日：2015-09-04
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: C25B1/46 , C02F1/461 , C02F1/4618 , C02F2001/46185 , C02F2201/46115 , C25B9/08 , C25B9/10 , C25B11/035 , C25B13/02 , C25B13/04
Abstract: 根据实施方式，本发明的电解装置(10)具备：由多孔质膜(24)构成的隔膜(24a)，该多孔质膜(24)具有每1cm2的透水量在20KPa的差压下为0.0024～0.6mL/分钟的透水性；第一电极(20)，该第一电极(20)以与隔膜相对置的方式设置；以及第二电极(22)，该第二电极(22)隔着隔膜与第一电极相对置，其中，施加在多孔质膜的两侧的水压差在±20kPa以内。
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公开(公告)号：CN107405416A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201580077384.X
申请日：2015-09-11
Applicant: 株式会社东芝
IPC: A61L2/20 , A23L3/3409 , A61L9/01 , A61L9/14
Abstract: 本发明的保存方法和杀菌方法，在将对象物保存在预定的空间内时，将通过电解被电解液而生成的电解液气化，使气化了的电解液的气化物在上述空间内循环，通过这样将上述空间内杀菌，同时将上述空间内所含的水分回收。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1153252C
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN98103268.0
申请日：1998-07-08
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J29/868 , H01J2229/882 , H01J2229/8918
Abstract: 本发明是一种带有含有导电性微粒的第一层，具备为覆盖第一层设置的含有SiO2和导电性微粒的第二层的导电性防反射膜和有该导电性防反射膜的阴极射线管。本发明的导电性防反射膜基本上可完全防止AEF的发生和光反射，同时能够由表面容易获得导通，生产率和耐用性优良。此外，本发明的阴极射线管可长时间显示画质优良的图象。
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公开(公告)号：CN1011273B
公开(公告)日：1991-01-16
申请号：CN88105825
申请日：1988-12-28
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J29/88 , H01J29/868
Abstract: 一种阴极射线管1，具有壳体2(包括具有侧壁部分7的面板5和容纳发射至少一束电子的电子枪的颈部3)，面板5内表面涂敷有依靠电子束轰击发出可见光的荧光层，外表面覆盖有抗静电膜8，为了防止静电电荷积聚，依靠连接元件9把抗静电膜8电连接至环绕着侧壁部分7的金属绷紧条6，连接元件9是主要由一种导电物质和一种至少含非晶氧化硅或氢氧化硅的粘结剂构成的导电氧化物。
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公开(公告)号：CN1009780B
公开(公告)日：1990-09-26
申请号：CN88102520
申请日：1988-04-28
Applicant: 株式会社东芝 , 多摩化学工业株式会社
CPC classification number: H01J29/868
Abstract: 本发明为阴极射线管提供一种足够的抗静电性质，它系由含有SiO2或P2O5为主要成分，以及一种吸湿性金属盐成分，在射线管前屏外表面上形成一层玻璃膜而实现。
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公开(公告)号：CN207031036U
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201590000893.8
申请日：2015-02-23
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/46
Abstract: 本实用新型的一个实施方式的电解装置(1)具备电解槽(10)、电解质液供给部(20)、排出配管(20b)和阀，其中，上述电解槽(10)具备第一隔膜、第二隔膜、阴极(15b)和阴极(15b)，上述第一隔膜分隔出流过电解质液的中间室(18a)与阳极室(18b)，上述第二隔膜分隔出上述中间室(18a)与阴极室(18c)，上述阴极(15b)与上述第一隔膜相对置，并且设置在上述阳极室(18a)，上述阴极(15b)与上述第二隔膜相对置，并且设置在上述阴极室(18c)，上述电解质液供给部(20)向上述中间室(18a)供给上述电解质液，上述排出配管(20b)将从上述中间室(18a)内流过后的电解质液排出，上述阀设置在上述排出配管(20b)，并且将上述中间室(18a)内的电解质液设定为静水状态，上述电解质液供给部(20)具备水压施加部(30)，该水压施加部(30)以上述静水状态对上述中间室(18a)内的电解质液施加静水压。
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公开(公告)号：CN106659811B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201580043868.2
申请日：2015-09-11
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明涉及一种空间杀菌装置，其包含向被处理空间供给气状和/或雾状的次氯酸溶液的次氯酸溶液供给部，所述空间杀菌装置使被处理空间中的次氯酸浓度为400ppb～500ppm。本发明获得了能够规定不受次氯酸溶液的不良影响且可对被处理空间内充分地进行杀菌、除臭的次氯酸浓度并维持该浓度的空间杀菌装置。
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