半导体发光装置及光耦合装置

    公开(公告)号:CN115084326A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202110965770.X

    申请日:2021-08-23

    Abstract: 实施方式涉及半导体发光装置及光耦合装置。实施方式的半导体发光装置具备基板、第1导电型的第1半导体层、活性层和第2导电型的第2半导体层。上述基板具有第1能带隙。上述第1半导体层设在上述基板上,具有比上述第1能带隙宽的第2能带隙。上述活性层设在上述第1半导体层上,包括具有比上述第1及第2能带隙窄的第3能带隙的量子阱层和设在上述第1半导体层与上述量子阱层之间的第1势垒层。上述第2半导体层设在上述活性层上。上述基板的折射率比上述第1半导体层的折射率大,上述第1半导体层的折射率与上述第1势垒层的折射率相同或比上述第1势垒层的折射率大。

    半导体发光装置及光耦合装置

    公开(公告)号:CN115084326B

    公开(公告)日:2024-12-20

    申请号:CN202110965770.X

    申请日:2021-08-23

    Abstract: 实施方式涉及半导体发光装置及光耦合装置。实施方式的半导体发光装置具备基板、第1导电型的第1半导体层、活性层和第2导电型的第2半导体层。上述基板具有第1能带隙。上述第1半导体层设在上述基板上,具有比上述第1能带隙宽的第2能带隙。上述活性层设在上述第1半导体层上,包括具有比上述第1及第2能带隙窄的第3能带隙的量子阱层和设在上述第1半导体层与上述量子阱层之间的第1势垒层。上述第2半导体层设在上述活性层上。上述基板的折射率比上述第1半导体层的折射率大,上述第1半导体层的折射率与上述第1势垒层的折射率相同或比上述第1势垒层的折射率大。

    光半导体元件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112447888A

    公开(公告)日:2021-03-05

    申请号:CN202010145989.0

    申请日:2020-03-05

    Abstract: 实施方式提供一种降低晶片面内的光输出的变动的光半导体元件。实施方式的光半导体元件具有基板、发光层、和分布布拉格反射器。发光层具有AlGaAs多量子阱层。分布布拉格反射器设置在基板与发光层之间,周期性地层叠了第1层与第2层的对。第1层包含AlxGa1-xAs,第2层包含Inz(AlyGa1-y)1-zP。第1层的折射率n1比第2层的折射率n2高。以所述分布布拉格反射器的反射率的波长分布中的频带的中心波长为λ0,第1层具有比λ0/(4n1)大的厚度。第2层具有比λ0/(4n2)小的厚度。

    半导体发光元件
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1367542A

    公开(公告)日:2002-09-04

    申请号:CN02105300.6

    申请日:2002-01-25

    CPC classification number: H01L33/08 H01L27/15

    Abstract: 提供一种半导体发光元件,不需要复杂的制造工序和制造技术就可大幅度提高光取出效率。该半导体发光元件,具有:活性层(通过注入电流产生第一发光);吸收发光部(吸收所述第一发光的一部分、产生中心波长比所述第一发光的长的第二发光)。所述第一发光的中心波长和所述第二发光的中心波长之差,在其混合光的发光光谱不丧失单峰性的范围内或在第一发光L1的光谱的半值宽度的0.9倍以下的范围内。

    半导体发光元件
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1224113C

    公开(公告)日:2005-10-19

    申请号:CN02105300.6

    申请日:2002-01-25

    CPC classification number: H01L33/08 H01L27/15

    Abstract: 提供一种半导体发光元件,不需要复杂的制造工序和制造技术就可大幅度提高光取出效率。该半导体发光元件,包括:通过注入电流产生第一发光的有源层;以及吸收所述第一发光的一部分、产生中心波长比所述第一发光的长的第二发光的吸收发光部,且所述第一发光的中心波长和所述第二发光的中心波长之差,在其混合光的发光光谱不丧失单峰性的范围内。

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