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公开(公告)号:CN1421928A
公开(公告)日:2003-06-04
申请号:CN02148236.5
申请日:2002-09-27
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L23/522 , H01L23/532 , H01L21/768
CPC classification number: H01L21/76835 , H01L21/76802 , H01L21/76828 , H01L21/76834 , H01L21/76885 , H01L23/5283 , H01L23/53238 , H01L23/5329 , H01L23/53295 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 一种具有埋入型导电层的半导体器件及其制造方法。在半导体器件中,在第一层间绝缘层中形成埋入型导电层,上述导电层具有比上述第一层间绝缘层表面高的表面。另外,用具有平坦表面的绝缘膜覆盖上述第一层间绝缘层和上述导电层,在该绝缘膜中形成蚀刻选择比比上述绝缘膜高的的第二层间绝缘层。在上述半导体器件的制造方法中,在半导体衬底层上形成第一层间绝缘层,在第一层间绝缘层中形成沟,在第一层间绝缘层上形成导电层,用上述导电层掩埋沟,研磨导电层形成后的衬底表面,形成露出第一层间绝缘层和导电层的平坦面。还蚀刻去除研磨引起的上述第一层间绝缘层表面的损伤层,在蚀刻后的衬底表面上使用涂布法,形成绝缘膜。之后,在上述绝缘膜上形成蚀刻选择比比绝缘膜高的第二层间绝缘层。
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公开(公告)号:CN1231969C
公开(公告)日:2005-12-14
申请号:CN02148236.5
申请日:2002-09-27
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L23/522 , H01L23/532 , H01L21/768
CPC classification number: H01L21/76835 , H01L21/76802 , H01L21/76828 , H01L21/76834 , H01L21/76885 , H01L23/5283 , H01L23/53238 , H01L23/5329 , H01L23/53295 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 一种具有埋入型导电层的半导体器件及其制造方法。在半导体器件中,在第一层间绝缘层中形成埋入型导电层,上述导电层具有比上述第一层间绝缘层表面高的表面。另外,用具有平坦表面的绝缘膜覆盖上述第一层间绝缘层和上述导电层,在该绝缘膜中形成蚀刻选择比比上述绝缘膜高的的第二层间绝缘层。在上述半导体器件的制造方法中,在半导体衬底层上形成第一层间绝缘层,在第一层间绝缘层中形成沟,在第一层间绝缘层上形成导电层,用上述导电层掩埋沟,研磨导电层形成后的衬底表面,形成露出第一层间绝缘层和导电层的平坦面。还蚀刻去除研磨引起的上述第一层间绝缘层表面的损伤层,在蚀刻后的衬底表面上使用涂布法,形成绝缘膜。之后,在上述绝缘膜上形成蚀刻选择比比绝缘膜高的第二层间绝缘层。
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公开(公告)号:CN100380655C
公开(公告)日:2008-04-09
申请号:CN200510062802.6
申请日:2005-02-03
Applicant: 株式会社东芝
Inventor: 梶田明広
IPC: H01L23/525 , H01L21/768 , H01L21/00
CPC classification number: H01L23/5258 , H01L2924/0002 , H01L2924/3011 , H01L2924/00
Abstract: 提供一种半导体器件,具有通过改变熔丝元件的电阻来控制其功能的熔丝元件,该熔丝元件即使进行激光照射也不熔断熔丝,该半导体器件包括:半导体衬底;形成于所述半导体衬底上方的第1布线层;形成于所述第1布线层上方的第2布线层;将所述第1布线层和第2布线层间进行连接的至少一个作为熔丝元件的栓塞;以及在形成于所述第2布线层上方的一部分绝缘膜中与所述栓塞对应设置的开口部。而且,包含可以通过向所述开口部照射激光而在所述栓塞内形成的空隙。
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公开(公告)号:CN1655351A
公开(公告)日:2005-08-17
申请号:CN200510062802.6
申请日:2005-02-03
Applicant: 株式会社东芝
Inventor: 梶田明広
IPC: H01L23/525 , H01L21/768 , H01L21/00
CPC classification number: H01L23/5258 , H01L2924/0002 , H01L2924/3011 , H01L2924/00
Abstract: 提供一种半导体器件,具有通过改变熔丝元件的电阻来控制其功能的熔丝元件,该熔丝元件即使进行激光照射也不熔断熔丝,该半导体器件包括:半导体衬底;形成于所述半导体衬底上方的第1布线层;形成于所述第1布线层上方的第2布线层;将所述第1布线层和第2布线层间进行连接的至少一个作为熔丝元件的栓塞;以及在形成于所述第2布线层上方的一部分绝缘膜中与所述栓塞对应设置的开口部。而且,包含可以通过向所述开口部照射激光而在所述栓塞内形成的空隙。
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