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公开(公告)号：CN101647114A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200880010093.9
申请日：2008-04-03
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/8247 , H01L27/115 , H01L29/788 , H01L29/792
CPC classification number: H01L29/792 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/11548 , H01L27/11551 , H01L27/11556 , H01L27/11575 , H01L27/11578 , H01L27/11582 , H01L29/7881 , H01L29/7926
Abstract: 本发明的半导体存储装置能够密集地配置向字线的引出配线。本发明提供一种三维地层叠了存储器单元的半导体存储装置。具备：能够电气地进行改写的串联连接了多个存储器单元的多个存储串；经由选择晶体管被连接到存储串的一端的位线，其中，上述存储串具备：柱状半导体；形成在柱状半导体的周围的第一绝缘膜；形成在第一绝缘膜的周围的电荷积蓄层；形成在电荷积蓄层的周围的第二绝缘膜；形成在第二绝缘膜的周围的多个电极，存储串的多个电极与其他的存储串的多个电极被共用，分别是2维扩展的导体层，导体层的端部分别在与位线平行的方向上形成为阶梯状。
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公开(公告)号：CN103441127A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201310382975.0
申请日：2008-04-03
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L27/115 , H01L21/822
CPC classification number: H01L29/792 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/11548 , H01L27/11551 , H01L27/11556 , H01L27/11575 , H01L27/11578 , H01L27/11582 , H01L29/7881 , H01L29/7926
Abstract: 本发明的半导体存储装置能够密集地配置向字线的引出配线。本发明提供一种三维地层叠了存储器单元的半导体存储装置。具备：能够电气地进行改写的串联连接了多个存储器单元的多个存储串；经由选择晶体管被连接到存储串的一端的位线，其中，上述存储串具备：柱状半导体；形成在柱状半导体的周围的第一绝缘膜；形成在第一绝缘膜的周围的电荷积蓄层；形成在电荷积蓄层的周围的第二绝缘膜；形成在第二绝缘膜的周围的多个电极，存储串的多个电极与其他的存储串的多个电极被共用，分别是2维扩展的导体层，导体层的端部分别在与位线平行的方向上形成为阶梯状。
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公开(公告)号：CN101911287B
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN200880122659.7
申请日：2008-12-25
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/8247 , H01L27/115 , H01L29/788 , H01L29/792
CPC classification number: H01L29/792 , H01L27/115 , H01L27/11556 , H01L27/11568 , H01L29/66833 , H01L29/7926
Abstract: 通过在硅衬底上交替地层叠多个介电膜和电极膜形成层叠体。接下来，在层叠体中形成沿层叠方向延伸的通孔。接下来，执行选择性氮化处理，从而在通孔的内表面的与电极膜对应的区域中选择性地形成由氮化硅制成的电荷层。接下来，执行高压氧化处理，从而在电荷层和电极膜之间形成由氧化硅制成的阻止层。接下来，在通孔的内侧表面上形成由氧化硅制成的隧道层。由此，可制造出其中电荷层被分割用于每个电极膜的闪速存储器。
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公开(公告)号：CN103441127B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201310382975.0
申请日：2008-04-03
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L27/115 , H01L21/822
CPC classification number: H01L29/792 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/11548 , H01L27/11551 , H01L27/11556 , H01L27/11575 , H01L27/11578 , H01L27/11582 , H01L29/7881 , H01L29/7926
Abstract: 本发明的半导体存储装置能够密集地配置向字线的引出配线。本发明提供一种三维地层叠了存储器单元的半导体存储装置。具备：能够电气地进行改写的串联连接了多个存储器单元的多个存储串；经由选择晶体管被连接到存储串的一端的位线，其中，上述存储串具备：柱状半导体；形成在柱状半导体的周围的第一绝缘膜；形成在第一绝缘膜的周围的电荷积蓄层；形成在电荷积蓄层的周围的第二绝缘膜；形成在第二绝缘膜的周围的多个电极，存储串的多个电极与其他的存储串的多个电极被共用，分别是2维扩展的导体层，导体层的端部分别在与位线平行的方向上形成为阶梯状。
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公开(公告)号：CN102037557B
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN200880120172.5
申请日：2008-12-09
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/8247 , H01L27/10 , H01L27/115 , H01L29/788 , H01L29/792
CPC classification number: H01L27/11582 , G11C16/0483 , H01L27/1052 , H01L27/11551 , H01L27/11556 , H01L27/11573 , H01L27/11575 , H01L27/11578 , H01L29/513
Abstract: 一种非易失性半导体存储器件具有多个存储器串，在每一个存储器串中，多个电可重写的存储器基元被串联连接。每一个所述存储器串包括：第一半导体层，每一个所述第一半导体层都具有沿相对于衬底的垂直方向延伸的柱状部分的对和被形成为耦合所述柱状部分的对的下端的耦合部分；电荷存储层，其被形成为围绕所述柱状部分的侧表面；以及第一导电层，其被形成为围绕所述柱状部分的侧表面和所述电荷存储层。所述第一导电层用作所述存储器基元的栅极电极。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102037557A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200880120172.5
申请日：2008-12-09
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/8247 , H01L27/10 , H01L27/115 , H01L29/788 , H01L29/792
CPC classification number: H01L27/11582 , G11C16/0483 , H01L27/1052 , H01L27/11551 , H01L27/11556 , H01L27/11573 , H01L27/11575 , H01L27/11578 , H01L29/513
Abstract: 一种非易失性半导体存储器件具有多个存储器串，在每一个存储器串中，多个电可重写的存储器基元被串联连接。每一个所述存储器串包括：第一半导体层，每一个所述第一半导体层都具有沿相对于衬底的垂直方向延伸的柱状部分的对和被形成为耦合所述柱状部分的对的下端的耦合部分；电荷存储层，其被形成为围绕所述柱状部分的侧表面；以及第一导电层，其被形成为围绕所述柱状部分的侧表面和所述电荷存储层。所述第一导电层用作所述存储器基元的栅极电极。
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公开(公告)号：CN102089878B
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN200980126764.2
申请日：2009-07-01
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/8247 , H01L27/115 , H01L29/788 , H01L29/792
CPC classification number: H01L29/7926 , G11C16/0466 , H01L27/11565 , H01L27/11578 , H01L27/11582
Abstract: 本发明提供了一种具有高可靠性电荷存储层的非易失性半导体存储器器件。多个绝缘薄膜和多个电极薄膜14被交替堆叠在衬底11上，并在其上设置了沿X方向延伸的多个选择栅电极17和沿Y方向延伸的多个位线BL。提供U形硅构件33，每一个构件均由穿过电极薄膜14和选择栅电极17、其上端连接到位线BL的多个硅柱31和连接置于对角位置的一对硅柱31的下部的连接构件32构成。每一层的电极薄膜14被针对各选择栅电极17划分。通过连接构件32相互连接的一对硅柱31穿过不同的电极薄膜14和不同的选择栅电极17。共同连接到一个位线BL的所有的U形硅构件33被共同连接到另一位线BL。
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公开(公告)号：CN102089878A
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN200980126764.2
申请日：2009-07-01
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/8247 , H01L27/115 , H01L29/788 , H01L29/792
CPC classification number: H01L29/7926 , G11C16/0466 , H01L27/11565 , H01L27/11578 , H01L27/11582
Abstract: 本发明提供了一种具有高可靠性电荷存储层的非易失性半导体存储器器件。多个绝缘薄膜和多个电极薄膜14被交替堆叠在衬底11上，并在其上设置了沿X方向延伸的多个选择栅电极17和沿Y方向延伸的多个位线BL。提供U形硅构件33，每一个构件均由穿过电极薄膜14和选择栅电极17、其上端连接到位线BL的多个硅柱31和连接置于对角位置的一对硅柱31的下部的连接构件32构成。每一层的电极薄膜14被针对各选择栅电极17划分。通过连接构件32相互连接的一对硅柱31穿过不同的电极薄膜14和不同的选择栅电极17。共同连接到一个位线BL的所有的U形硅构件33被共同连接到另一位线BL。
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公开(公告)号：CN101911287A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200880122659.7
申请日：2008-12-25
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/8247 , H01L27/115 , H01L29/788 , H01L29/792
CPC classification number: H01L29/792 , H01L27/115 , H01L27/11556 , H01L27/11568 , H01L29/66833 , H01L29/7926
Abstract: 通过在硅衬底上交替地层叠多个介电膜和电极膜形成层叠体。接下来，在层叠体中形成沿层叠方向延伸的通孔。接下来，执行选择性氮化处理，从而在通孔的内表面的与电极膜对应的区域中选择性地形成由氮化硅制成的电荷层。接下来，执行高压氧化处理，从而在电荷层和电极膜之间形成由氧化硅制成的阻止层。接下来，在通孔的内侧表面上形成由氧化硅制成的隧道层。由此，可制造出其中电荷层被分割用于每个电极膜的闪速存储器。
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公开(公告)号：CN100550392C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200710088470.8
申请日：2007-03-27
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L27/115 , H01L23/522 , H01L29/49 , H01L21/8247 , H01L21/768 , H01L21/28
CPC classification number: H01L27/11582 , G11C16/0483 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/115 , H01L27/11556 , H01L27/11573 , H01L27/11578
Abstract: 提出了一种具有新结构所述的非易失性半导体存储器件，其中存储单元以三维状态层叠，从而可以减小芯片面积。本发明的非易失性半导体存储器件是具有多个存储串的非易失性半导体存储器件，其中多个电可编程存储单元串联连接。该存储串包括柱状半导体；形成在该柱状半导体周围的第一绝缘膜；形成在该第一绝缘膜周围的电荷存储层；形成在该电荷存储层周围的第二绝缘膜；以及形成在该第二绝缘膜周围的第一至第n电极(n是不小于2的自然数)。其中该存储串的第一至第n电极以及其它存储串的第一至第n电极分别形成以二维状态伸展的第一至第n导体层。
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