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公开(公告)号：CN106348287B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201610373450.4
申请日：2016-05-31
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C01B32/205
CPC classification number: C01B31/04 , C01B32/20 , C01P2006/10 , C01P2006/32
Abstract: 本发明提供不使用导热糊剂而接触电阻小的石墨片及其制造方法。本发明使用一种石墨片，该石墨片的表面粗糙度(Ra)为10μm以上且不足40μm，在上述石墨片的表面内的任意80mm的距离之间，距离80mm内的表面凹凸的变化率为0.01％以上且0.135％以下。另外，本发明使用一种石墨片的制造方法，其是将高分子膜在不活泼气体中进行热处理的石墨片的制造方法，对上述高分子膜进行的热处理在上述不活泼气体的气氛中温度为2400℃以上且3200℃以下，并且在温度为2000℃以上的条件下施以10kg/cm2以上且100kg/cm2以下的加压。
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公开(公告)号：CN107235727A
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201710164495.5
申请日：2017-03-17
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C04B35/524 , C04B35/622 , H05K7/20
CPC classification number: C09K5/14 , C01B32/20 , C01B32/205 , C01P2006/32 , C01P2006/90 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B2235/6562 , C04B2235/9607 , H05K7/2039
Abstract: 本发明提供能够用于狭小空间用的热传送材的、具有可挠曲部的石墨。使用包含传送热的传送部、和具有挠性的可挠曲部的石墨。另外，提供上述传送部的空隙率为1％以上且30％以下、且上述可挠曲部的空隙率大于30％且为50％以下的石墨。进一步，提供一种石墨的制造方法，其包括：对至少1个原料膜进行热处理，得到至少1个碳质膜的工序、准备包含上述至少1个碳质膜的单层结构体或多层结构体的准备工序、和在不活泼气氛中对上述单层结构体或多层结构体的至少一部分进行加热加压的工序。
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公开(公告)号：CN103258802B
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201310041563.0
申请日：2013-02-01
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: H01L23/373
CPC classification number: H05K7/20509 , F28F13/003 , F28F21/02 , H01L23/3677 , H01L23/373 , H01L33/641 , H01L2924/0002 , Y10T428/24331 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨结构体及使用该石墨结构体的电子器件，该石墨结构体是将高热传导性材料的15μm以下的石墨板(1)层叠而成的石墨结构体。贯通所述石墨板(1)的层叠体的表面和背面的贯通孔(2)的内周面由厚度为10~200nm的Ti层(3)覆盖，并且在所述贯通孔(2)的内侧形成有连通孔(4)。根据该结构，能够维持石墨的高热导电率并实现薄型化和高可靠性。
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公开(公告)号：CN103958611B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201280056764.1
申请日：2012-11-12
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C08L101/00 , C08J5/18 , C08K3/04 , C08K7/00 , C09K5/08
CPC classification number: C09K5/14 , C08J5/18 , C08J2323/16 , C08K7/00 , C08K2201/001 , H05K9/0007 , H05K9/0083
Abstract: 本发明涉及一种各向异性导热组合物，其含有鳞片状石墨粒子、和使所述鳞片状石墨粒子分散的树脂成分，在鳞片状石墨粒子中，当设定基底面上的最大径为a、与所述基底面正交的厚度为c时，a/c以平均值计为30以上，鳞片状石墨粒子的含量多于40质量％且为90质量％以下。该各向异性导热组合物含有具有特有的形状的鳞片状石墨粒子，因此，在片材化时，能够高效地形成各向异性导热路径。所以，能够提供适合作为使热从高温部扩散到低温部的导热路径的片材状的成型品。
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公开(公告)号：CN107353006A
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201710247329.1
申请日：2017-04-14
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C04B35/524 , C04B35/622 , C04B35/64 , C04B38/00 , G06F1/20
CPC classification number: C01B32/22 , C01B32/20 , C01P2002/70 , C01P2006/32 , C09K5/14 , C04B35/524 , C04B35/522 , C04B35/622 , C04B35/64 , C04B38/0022 , C04B2235/656 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/661 , C04B2235/9607 , G06F1/203 , C04B38/0074
Abstract: 本发明提供即使是具有100μm以上的厚度的石墨也具有高的热传导率和柔软性的石墨板。使用一种石墨板，其空隙的比例为1％以上且30％以下、且上述空隙以外为石墨。另外，使用一种石墨板的制造方法，其包括：将高分子膜在400～2000℃进行热处理的玻璃状碳制造工序、将上述玻璃状碳制造工序中得到的玻璃状碳至少重叠1片以上的成形准备工序、和在不活泼气氛中将上述玻璃状碳在比上述玻璃状碳制造工序高的温度下加压而成形的成形工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106348287A
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201610373450.4
申请日：2016-05-31
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C01B32/205
CPC classification number: C01B31/04 , C01B32/20 , C01P2006/10 , C01P2006/32
Abstract: 本发明提供不使用导热糊剂而接触电阻小的石墨片及其制造方法。本发明使用一种石墨片，该石墨片的表面粗糙度(Ra)为10μm以上且不足40μm，在上述石墨片的表面内的任意80mm的距离之间，距离80mm内的表面凹凸的变化率为0.01％以上且0.135％以下。另外，本发明使用一种石墨片的制造方法，其是将高分子膜在不活泼气体中进行热处理的石墨片的制造方法，对上述高分子膜进行的热处理在上述不活泼气体的气氛中温度为2400℃以上且3200℃以下，并且在温度为2000℃以上的条件下施以10kg/cm2以上且100kg/cm2以下的加压。
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公开(公告)号：CN104350009A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201380028581.3
申请日：2013-05-24
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C01B31/02
CPC classification number: B03C1/30 , B02C19/06 , B02C23/00 , B02C23/08 , B03C2201/18 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/184 , C01B32/19 , C01B32/20 , C01B2204/02
Abstract: 本发明使用通过对分散体(303)施加磁场而从分散体(303)分离单层石墨烯(201)的石墨烯的制造方法，分散体(303)中浮游有单层石墨烯(201)、多层石墨烯(202)、石墨(203)。在上述磁场施加工序中，利用单层石墨烯(201)、多层石墨烯(202)、石墨(203)的抗磁性的强度之差，使单层石墨烯(201)、多层石墨烯(202)、石墨(203)在溶剂中位于不同的位置而进行分离。
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公开(公告)号：CN107235727B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN201710164495.5
申请日：2017-03-17
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 本发明提供能够用于狭小空间用的热传送材的、具有可挠曲部的石墨。使用包含传送热的传送部、和具有挠性的可挠曲部的石墨。另外，提供上述传送部的空隙率为1％以上且30％以下、且上述可挠曲部的空隙率大于30％且为50％以下的石墨。进一步，提供一种石墨的制造方法，其包括：对至少1个原料膜进行热处理，得到至少1个碳质膜的工序、准备包含上述至少1个碳质膜的单层结构体或多层结构体的准备工序、和在不活泼气氛中对上述单层结构体或多层结构体的至少一部分进行加热加压的工序。
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公开(公告)号：CN104229778B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201410276391.X
申请日：2014-06-19
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C01B32/194 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明涉及石墨烯分离方法、石墨烯分离装置、石墨烯层形成方法及石墨烯层形成装置。本发明的石墨烯分离方法用于解决现有技术问题，其包括以下工序：对含石墨粒子、石墨烯和溶剂的容器施加磁场，利用所述磁场在所述溶剂中将所述石墨粒子和所述石墨烯分离到不同位置的分离工序；以及从所述容器所设置的喷出口取出所述溶剂和所述石墨烯的取出工序。
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公开(公告)号：CN104350009B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201380028581.3
申请日：2013-05-24
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C01B32/184
CPC classification number: B03C1/30 , B02C19/06 , B02C23/00 , B02C23/08 , B03C2201/18 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/184 , C01B32/19 , C01B32/20 , C01B2204/02
Abstract: 本发明使用通过对分散体(303)施加磁场而从分散体(303)分离单层石墨烯(201)的石墨烯的制造方法，分散体(303)中浮游有单层石墨烯(201)、多层石墨烯(202)、石墨(203)。在上述磁场施加工序中，利用单层石墨烯(201)、多层石墨烯(202)、石墨(203)的抗磁性的强度之差，使单层石墨烯(201)、多层石墨烯(202)、石墨(203)在溶剂中位于不同的位置而进行分离。
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