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公开(公告)号：CN102124145A
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200980132110.0
申请日：2009-06-17
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: C23F1/18 , C23F1/02 , H01L2224/16225 , H01L2224/48091 , H01L2224/73204 , H01L2224/73265 , H01L2924/181 , H05K3/384 , H05K3/385 , H05K2203/0315 , H05K2203/1157 , Y10T29/49982 , Y10T428/12438 , Y10T428/12771 , Y10T428/24917 , H01L2924/00012 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明的课题在于提供通过铜的表面处理不会形成超过1μm的凹凸、确保铜表面与绝缘层的粘接强度、可提高配线间的绝缘可靠性的铜的表面处理方法及铜。为了解决该课题通过具有以下工序的方法实施铜的表面处理：在铜表面上离散地形成与铜相比的贵金属的工序；之后使用含氧化剂的碱性溶液对上述铜表面进行氧化处理的工序；将上述氧化铜溶解后去的工序。
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公开(公告)号：CN101137768A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200680007928.6
申请日：2006-03-10
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供一种通过铜的表面处理，不会形成超过1μm的凹凸并可确保铜表面与绝缘层的粘接强度，可提高配线间的绝缘可靠性的铜的表面处理方法及铜；为了解决此课题，提供包括将比铜更惰性的金属离散形成于铜表面的工序，以及其后将所述铜表面用含有氧化剂的碱性溶液进行氧化处理的工序的铜的表面处理方法，以及通过该方法被实施了表面处理的铜。
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公开(公告)号：CN104988503A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201510493175.5
申请日：2009-06-17
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: C23F1/18 , C23F1/02 , H01L2224/16225 , H01L2224/48091 , H01L2224/73204 , H01L2224/73265 , H01L2924/181 , H05K3/384 , H05K3/385 , H05K2203/0315 , H05K2203/1157 , Y10T29/49982 , Y10T428/12438 , Y10T428/12771 , Y10T428/24917 , H01L2924/00012 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明的课题在于提供通过铜的表面处理不会形成超过1μm的凹凸、确保铜表面与绝缘层的粘接强度、可提高配线间的绝缘可靠性的铜的表面处理方法及铜。为了解决该课题通过具有以下工序的方法实施铜的表面处理：在铜表面上离散地形成与铜相比的贵金属的工序；之后使用含氧化剂的碱性溶液对上述铜表面进行氧化处理的工序；将上述氧化铜溶解后去的工序。
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公开(公告)号：CN101137768B
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN200680007928.6
申请日：2006-03-10
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供一种通过铜的表面处理，不会形成超过1μm的凹凸并可确保铜表面与绝缘层的粘接强度，可提高配线间的绝缘可靠性的铜的表面处理方法及铜；为了解决此课题，提供包括将比铜更惰性的金属离散形成于铜表面的工序，以及其后将所述铜表面用含有氧化剂的碱性溶液进行氧化处理的工序的铜的表面处理方法，以及通过该方法被实施了表面处理的铜。
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