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公开(公告)号：CN101146408A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200710161762.X
申请日：2003-05-28
Applicant: 新光电气工业株式会社
CPC classification number: H05K1/0269 , H01L2924/0002 , H05K3/0005 , H05K3/0082 , H05K3/064 , H05K3/125 , H05K2203/013 , H05K2203/107 , H05K2203/162 , H01L2924/00
Abstract: 一种布线形成系统，包括：采用根据关于布线板的设计数据产生的曝光数据直接曝光未曝光板的无掩模曝光单元；采用曝光数据和由无掩模曝光单元曝光并显影的板的图像数据测试显影之后的板的显影后检查单元；腐蚀显影板的腐蚀单元；以及采用根据设计数据和由腐蚀单元腐蚀的板的图像数据产生的腐蚀检查数据测试形成在腐蚀板上的腐蚀图形的腐蚀后检查单元。
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公开(公告)号：CN100539049C
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200410004694.2
申请日：2004-03-11
Applicant: 新光电气工业株式会社
IPC: H01L21/48 , H01L21/60 , H01L23/495 , H01L23/50 , G03F7/20
CPC classification number: B41J29/393 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 用于在衬底的两侧上形成相对于衬底互为镜像关系的图形的图形绘制装置，所述图形绘制装置依据规定的数据，通过使用例如无掩膜曝光装置或喷墨构图装置的直接绘制装置在衬底的两侧上直接绘制图形，从而形成在衬底的两侧上的图形。
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公开(公告)号：CN101052257A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200710091076.X
申请日：2007-04-06
Applicant: 新光电气工业株式会社
Inventor： 关川和成
CPC classification number: H01S5/0683 , H01S5/042 , H01S5/0617 , H01S5/4025
Abstract: 提供一种能够容易在短时间内实现更换作业的构成为具有多个激光二极管的光源、控制该光源的整体的发光输出的光源控制方法、以及更换该光源中的多个激光二极管中任一个的光源更换方法。具有多个激光二极管LD的光源(1)根据校正数据控制光源(1)的整体发光输出，该校正数据按照包括激光二极管LD和控制该激光二极管LD的发光输出的专用控制板(47)的组的每一个而生成，该校正数据规定了用于驱动控制板(47)的控制值和控制板(47)根据该控制值进行驱动时的激光二极管LD的发光输出的测定值的对应关系，在更换该光源(1)内的激光二极管LD中任一个时，把激光二极管LD和与其对应的控制板(47)及与它们对应的校正数据作为一组进行更换。
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公开(公告)号：CN100386854C
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN03138379.3
申请日：2003-05-28
Applicant: 新光电气工业株式会社
CPC classification number: H05K1/0269 , H01L2924/0002 , H05K3/0005 , H05K3/0082 , H05K3/064 , H05K3/125 , H05K2203/013 , H05K2203/107 , H05K2203/162 , H01L2924/00
Abstract: 一种布线形成系统，包括：采用根据关于布线板的设计数据产生的曝光数据直接曝光未曝光板的无掩模曝光单元；采用曝光数据和由无掩模曝光单元曝光并显影的板的图像数据测试显影之后的板的显影后检查单元；腐蚀显影板的腐蚀单元；以及采用根据设计数据和由腐蚀单元腐蚀的板的图像数据产生的腐蚀检查数据测试形成在腐蚀板上的腐蚀图形的腐蚀后检查单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1428656A
公开(公告)日：2003-07-09
申请号：CN02159553.4
申请日：2002-12-27
Applicant: 新光电气工业株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/70466 , H05K3/0082
Abstract: 一种光学曝光方法和装置，用于在印刷布线板或半导体板上形成图案。以具有不同照射面积和不同扫描速度的多个光束照射要被曝光的表面的单个曝光区，例如，以具有较小照射面积的光束照射外围区，而以具有较大照射面积的光束照射内部区。
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公开(公告)号：CN101146408B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200710161762.X
申请日：2003-05-28
Applicant: 新光电气工业株式会社
CPC classification number: H05K1/0269 , H01L2924/0002 , H05K3/0005 , H05K3/0082 , H05K3/064 , H05K3/125 , H05K2203/013 , H05K2203/107 , H05K2203/162 , H01L2924/00
Abstract: 一种布线形成系统，包括：采用根据关于布线板的设计数据产生的曝光数据直接曝光未曝光板的无掩模曝光单元；采用曝光数据和由无掩模曝光单元曝光并显影的板的图像数据测试显影之后的板的显影后检查单元；腐蚀显影板的腐蚀单元；以及采用根据设计数据和由腐蚀单元腐蚀的板的图像数据产生的腐蚀检查数据测试形成在腐蚀板上的腐蚀图形的腐蚀后检查单元。
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公开(公告)号：CN1531039A
公开(公告)日：2004-09-22
申请号：CN200410004694.2
申请日：2004-03-11
Applicant: 新光电气工业株式会社
IPC: H01L21/48 , H01L21/60 , H01L23/495 , H01L23/50 , G03F7/20
CPC classification number: B41J29/393 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 用于在衬底的两侧上形成相对于衬底互为镜像关系的图形的图形绘制装置，所述图形绘制装置依据规定的数据，通过使用例如无掩膜曝光装置或喷墨构图装置的直接绘制装置在衬底的两侧上直接绘制图形，从而形成在衬底的两侧上的图形。
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公开(公告)号：CN1260620C
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN02159553.4
申请日：2002-12-27
Applicant: 新光电气工业株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/70466 , H05K3/0082
Abstract: 一种光学曝光方法和装置，用于在印刷布线板或半导体板上形成图案。以具有不同照射面积和不同扫描间距的多个光束照射要被曝光的表面的单个曝光区，例如，以具有较小照射面积的光束照射外围区，而以具有较大照射面积的光束照射内部区。
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公开(公告)号：CN1462065A
公开(公告)日：2003-12-17
申请号：CN03138379.3
申请日：2003-05-28
Applicant: 新光电气工业株式会社
CPC classification number: H05K1/0269 , H01L2924/0002 , H05K3/0005 , H05K3/0082 , H05K3/064 , H05K3/125 , H05K2203/013 , H05K2203/107 , H05K2203/162 , H01L2924/00
Abstract: 一种布线形成系统，包括：采用根据关于布线板的设计数据产生的曝光数据直接曝光未曝光板的无掩模曝光单元；采用曝光数据和由无掩模曝光单元曝光并显影的板的图像数据测试显影之后的板的显影后检查单元；腐蚀显影板的腐蚀单元；以及采用根据设计数据和由腐蚀单元腐蚀的板的图像数据产生的腐蚀检查数据测试形成在腐蚀板上的腐蚀图形的腐蚀后检查单元。
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