一种高低柱结构消色差超透镜及设计方法

    公开(公告)号:CN119620258A

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202411836832.7

    申请日:2024-12-13

    Abstract: 本发明涉及一种高低柱结构消色差超透镜及设计方法,其中,消色差超透镜由多个基元周期性排列构成,所述基元为高度和半径各不相同的微纳圆柱。在设计时,首先构建基元库,所述基元库中每个基元均为微纳圆柱,通过仿真软件改变所述微纳圆柱的高度和半径,得到不同入射波长下基元库中每个基元的相位及透过率;然后,以所述消色差超透镜的总相位差最小为目标采用粒子群算法进行优化,得到各个位置的基元结构;最后,根据得到的基元结构从基元库中选出合适的基元进行周期性排列,得到消色差超透镜。本发明能够增大口径和数值孔径,同时实现带宽消色差。

    一种基于物理规律的人体异常行为检测方法

    公开(公告)号:CN115862056A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202211444402.1

    申请日:2022-11-18

    Abstract: 本发明公开了一种基于物理规律的人体异常行为检测方法,解决检测时视觉特征易受观测噪声影响的问题。本发明包括:通过视觉表示模块定位人体区域以及关节部位,分别得到粗粒度视觉特征以及细粒度视觉特征;通过物理直觉模块的粗粒度部分和细粒度部分分别对输入的粗粒度和细粒度视觉特征处理,输出模拟人体所受力以及人体各关节所受力,计算各关节点的加速度,更新人体姿态;将视觉表示模块与物理直觉模块相结合进行人体异常行为检测。本发明方法同时考虑了视觉线索和物理约束,从而能够得到人体行为的不受观测噪声影响的鲁棒表征,进行能更加准确合理地进行人体异常行为检测。

    超表面透镜与探测器一体集成的红外光学系统及制作方法

    公开(公告)号:CN112987203B

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN202110374283.6

    申请日:2021-04-07

    Abstract: 本发明提供一种超表面透镜与探测器一体集成的红外光学系统,包括沿光入射方向依次同轴设置的超表面透镜、光阑和成像探测器焦平面阵列,并封装集成在杜瓦中;超表面透镜由衬底和微纳结构的阵列构成,不同的微纳结构具有相同的高度、相同的指向角度和不同的横截面尺寸;各微纳结构的横截面尺寸基于微纳结构的参数空间和电磁波经过各微纳结构后的相位分布确定;该相位分布根据超表面透镜的成像要求所得到的校正后的相位分布来匹配确定。本发明还提供相应的制作方法。本发明的超表面透镜与探测器一体集成的红外光学系统利用超表面透镜取代现有红外光学系统中的成像透镜组及探测器的窗口片,实现一体集成封装,从而实现了红外光学系统的轻量化。

    紫外和可见光共透镜双光路成像探测系统及其制作方法

    公开(公告)号:CN112684522B

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN202011350398.3

    申请日:2020-11-26

    Abstract: 本发明提供了一种紫外和可见光共透镜双光路成像探测系统,包括依次设置的超表面透镜、两探测器和图像处理系统,超表面透镜的微纳结构超表面为具有相同的高度、指向角度和不同的横截面尺寸的微纳结构的阵列;各微纳结构的横截面尺寸基于微纳结构的参数空间和电磁波经过各微纳结构后的相位分布确定;相位分布根据成像要求来确定,成像要求是:超表面透镜在可见光和紫外光的工作波段下的焦点是同一焦平面上的第一和第二焦点;参数空间通过基于时域有限差分算法的电磁仿真手段对横截面尺寸进行参数扫描,来建立;两探测器的探头位于第一和第二焦点。本发明还提供其制作方法。该系统可在实现电晕检测功能的同时,兼顾系统的小型化、轻量化。

    一种无序功能基元构型的光学器件

    公开(公告)号:CN113740939A

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN202111128857.8

    申请日:2021-09-26

    Abstract: 本发明提供一种无序功能基元构型的光学器件,包括沿电磁波传播方向依次设置的衬底和无序功能基元的非周期微纳结构阵列,所述衬底的表面为平面或曲面,无序功能基元的非周期微纳结构阵列是多个具有无序的内部结构的功能基元在平面或曲面上非周期分布而形成的微纳结构阵列;光学器件中所分布的各功能基元的内部结构根据光学器件的相位分布确定。本发明的光学器件以无序结构作为功能基元,一方面消除基于同质材料的规则构型的功能基元之间的强耦合现象,另一方面利用无序结构的随机性和多样性,增加光学器件的设计自由度,拓展功能基元参数空间,从而显著提高光场调控能力和光学器件性能。

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