用于生产激光芯片的方法

    公开(公告)号:CN107078455B

    公开(公告)日:2019-12-24

    申请号:CN201580060577.4

    申请日:2015-08-27

    Abstract: 本发明涉及一种用于生产激光芯片(140)的方法,包括如下的步骤:用于提供具有顶侧(101)和底侧(102)的半导体晶片(100)的步骤,其中半导体晶片具有沿着限定的断裂方向(10)一个接在另一个之后地布置的多个集成激光二极管结构(141);用于在半导体晶片的顶侧上创建多个凹处(200)的步骤,所述凹处被沿着破裂方向一个接在另一个之后地布置,其中每个凹处具有在破裂方向上一个接在另一个之后的前边界表面(210)和后边界表面(220),其中,在至少一个凹处的情况下,后边界表面相对于半导体晶片的顶侧倾斜在95°和170°之间的角度;以及用于在垂直于半导体晶片的顶侧定向并延伸通过凹处的破裂平面处在破裂方向上使半导体晶片破裂的步骤。

    用于生产激光芯片的方法

    公开(公告)号:CN107078455A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201580060577.4

    申请日:2015-08-27

    Abstract: 本发明涉及一种用于生产激光芯片(140)的方法,包括如下的步骤:用于提供具有顶侧(101)和底侧(102)的半导体晶片(100)的步骤,其中半导体晶片具有沿着限定的断裂方向(10)一个接在另一个之后地布置的多个集成激光二极管结构(141);用于在半导体晶片的顶侧上创建多个凹处(200)的步骤,所述凹处被沿着破裂方向一个接在另一个之后地布置,其中每个凹处具有在破裂方向上一个接在另一个之后的前边界表面(210)和后边界表面(220),其中,在至少一个凹处的情况下,后边界表面相对于半导体晶片的顶侧倾斜在95°和170°之间的角度;以及用于在垂直于半导体晶片的顶侧定向并延伸通过凹处的破裂平面处在破裂方向上使半导体晶片破裂的步骤。

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