-
公开(公告)号:CN109814334A
公开(公告)日:2019-05-28
申请号:CN201910241581.0
申请日:2019-03-28
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种单层及多层金属纳米结构的制备方法,步骤如下:采用热纳米压印工艺获取柔性模板,得到与原始母模板互补的纳米结构;采用薄膜沉积工艺,在上述柔性模板纳米结构凸起和凹槽部分分别形成金属薄膜;采用滴胶旋涂工艺,在目标基底旋涂紫外固化纳米压印光刻胶;采用紫外固化纳米压印工艺,利用紫外固化键合力,将柔性模板结构区域凸起部分的表层金属转印到涂有光刻胶介质层的目标基底。利用该方法,在目标基底上重复上述涂胶、转印工艺,得到多层金属纳米结构。