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公开(公告)号：CN101314153B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200810001965.7
申请日：2008-01-04
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 高木善则
IPC: B05B15/02
Abstract: 本发明提供一种在长时间内都能够充分干净地清洗喷嘴的喷嘴清洗装置。该清洗单元(61)具有：一对飞散防止板(73)；具备惰性气体喷出用狭缝(77、78)的四个惰性气体喷出用单元(75)；隔板(74)；由支撑构件支撑的下面清洗刷(82)、右侧面清洗刷(83)以及左侧面清洗刷(81)；支撑第一喷嘴(87)、第二喷嘴(84)以及第三喷嘴(85、86)的一对喷嘴用单元(76)。当清洗单元配置于清洗区域时，下面清洗刷配置于能够抵接于狭缝喷嘴下端部下面的位置；右侧面清洗刷配置于朝向狭缝喷嘴的长度方向能够抵接于下端部右侧面的位置；左侧面清洗刷配置于向着狭缝喷嘴的长度方向能够抵接于下端部左侧面的位置。
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公开(公告)号：CN100418641C
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200510107679.5
申请日：2005-09-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及其方法，能够使狭缝喷嘴状态最佳化，抑制涂覆不均。在狭缝喷嘴(41)中，将第一突出部(410)的第一突出面(410a)配置在比第二突出部(411)的第二突出面(411a)仅低高度差D的位置。进行让狭缝喷嘴(41)沿与正式涂覆处理中的狭缝喷嘴(41)的扫描方向((+X)方向)的相反方向((-X)方向)扫描的同时，向作为预备涂覆构件的辊(71)涂覆抗蚀液的预备涂覆处理。进行使通过预备涂覆处理被正常化的狭缝喷嘴(41)沿(+X)方向扫描的同时向基板(90)涂覆抗蚀液的正式涂覆处理。
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公开(公告)号：CN100404146C
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200510087408.8
申请日：2005-07-21
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够防止对象物的检出精度的降低，同时减轻作业者的负担。在基板处理装置上设置有构成检出传感器(450)的投光部(450a)和受光部(450b)。使受光部(450b)从接受由投光部(450a)照射的激光的直接光的位置向(+Z)方向偏移，配置在可接受由对象物反射的反射光的位置上。基板处理装置，在受光部(450b)接受激光的情况下，判定存在对象物，控制细缝喷嘴的移动机构。
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公开(公告)号：CN1315583C
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN200410057514.7
申请日：2004-08-12
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明涉及一种可防止与细缝喷嘴接触的对象物的检测精度低下的基板处理装置。在基板处理装置中，设有检测与细缝喷嘴接触的对象物的检测传感器(450、451、452)。设定各检测传感器(450、451、452)的激光在Y轴方向的错开的位置上集束。由此，各检测传感器(450、451、452)的有效检测范围(E1～E3)分担细缝喷嘴的扫描范围(EO)而进行检查。基于各检测传感器(450、451、452)的检测结果，当任意一个检测传感器(450、451、452)检测出对象物时，细缝喷嘴的移动停止，并显示警告信息。
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公开(公告)号：CN1739865A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200510087408.8
申请日：2005-07-21
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够防止对象物的检出精度的降低，同时减轻作业者的负担。在基板处理装置上设置有构成检出传感器(450)的投光部(450a)和受光部(450b)。使受光部(450b)从接受由投光部(450a)照射的激光的直接光的位置向(+Z)方向偏移，配置在可接受由对象物反射的反射光的位置上。基板处理装置，在受光部(450b)接受激光的情况下，判定存在对象物，控制细缝喷嘴的移动机构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101181706A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200710139907.6
申请日：2007-08-03
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种基板处理装置，能够正确地测定从狭缝喷嘴喷出的处理液的状态。该基板处理装置设置有在狭缝喷嘴(41)的二次侧设置的抽取空气用的配管(42)。使配管(42)与设置在狭缝喷嘴(41)的一次侧的配管(63)不直接连通而独立，并且，使配管(42)直接与狭缝喷嘴(41)内的流路(410)连通。在配管(42)上设置压力传感器(413)，将测定值传送到控制部(8)。由泵(61)将抗蚀液供给到狭缝喷嘴(41)，并利用压力传感器(413)来测定此时的配管(42)内的压力。
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公开(公告)号：CN1915537A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610107524.6
申请日：2006-07-20
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 防止异物引起问题的同时，防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。在狭缝涂敷机中，在狭缝喷嘴的行进方向侧，设置用于排除异物的保护构件。在开始涂敷处理时，狭缝喷嘴从基板的正上方外部水平移动到应开始涂敷处理的开始位置。此时，在喷出口的位置从基板的正上方外部到基板的端部时，使喷出口高度为与涂敷处理相同的基准高度(步骤S11～S13)。另一方面，在喷出口的位置从基板的端部到开始位置时，使喷出口高度高于基准高度(步骤S14～S16)。因此，能够防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。另外，由于保护构件的下端由两个板构成，所以即使是在上升中前方的板接触不到的异物，后方的板也会接触到。
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公开(公告)号：CN1757440A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200510106831.8
申请日：2005-09-23
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 高木善则
Abstract: 本发明提供可高精度地检测可能与狭缝喷嘴接触的异物等的狭缝式涂敷机。可挠性平板(61)配置在狭缝喷嘴(1)的行进前方侧(+X侧)，激光向平板(61)的后方侧(－X侧)照射。在涂敷处理中在狭缝喷嘴(1)应该行进的基板90上，存在异物等被检测物体(NG)的情况下，在被检测物体(NG)与狭缝喷嘴(1)接触之前，被检测物体(NG)与平板(61)接触。平板(61)一旦与被检测物体(NG)接触，其一部分会发生挠性变形向－X侧相对移动，遮断激光。基于此激光受光量的减少，可以检测出被检测物体(NG)。
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公开(公告)号：CN1669680A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN200510009408.6
申请日：2005-02-21
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种喷嘴清洗装置及基板处理装置，能够提高喷出喷嘴的清洗处理的清洗效果。在清洗细缝喷嘴(41)的清洗部(74)上，设置接近细缝喷嘴(41)的喷出口(41a)的下方的导向块(743)。此外，在设置喷出氮气的气体喷嘴(710)和喷出漂洗液(LQ)的清洗喷嘴(750)的同时，利用吸引装置吸引细缝喷嘴(41)的喷出口(41a)的下方。通过设定导向块(743)的X轴方向的厚度为喷出口(41a)的X轴方向的宽度或其以上的厚度，从而进行调整，使得吸引装置的吸引力不直接作用到喷出口(41a)上。由此，可以使吸引装置的吸引力上升，提高清洗效果。
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公开(公告)号：CN100542683C
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200710088631.3
申请日：2007-03-16
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种注射泵、使用了注射泵的基板处理装置以及基板处理方法，除去附着在活塞的侧面上的处理液和颗粒，并且能够维持活塞与密封部件之间的润滑性。基板处理装置(1)的注射泵(8)，在缸体(81)的后部侧形成的后方室(85)内，将清洗液供给到活塞(82)的侧面上。因此，在活塞(82)的侧面所附着的抗蚀液和颗粒被清洗液冲洗掉，而被从活塞(82)的侧面除去。此外，向后方室85内供给的清洗液的一部分，附着在第一密封部件(83b)、第二密封部件(87b)、以及活塞(82)的表面上，发挥润滑剂的作用。因此，维持着第一密封部件(83b)以及第二密封部件(87b)与活塞(82)之间的润滑性。
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