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公开(公告)号：CN100418641C
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200510107679.5
申请日：2005-09-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及其方法，能够使狭缝喷嘴状态最佳化，抑制涂覆不均。在狭缝喷嘴(41)中，将第一突出部(410)的第一突出面(410a)配置在比第二突出部(411)的第二突出面(411a)仅低高度差D的位置。进行让狭缝喷嘴(41)沿与正式涂覆处理中的狭缝喷嘴(41)的扫描方向((+X)方向)的相反方向((-X)方向)扫描的同时，向作为预备涂覆构件的辊(71)涂覆抗蚀液的预备涂覆处理。进行使通过预备涂覆处理被正常化的狭缝喷嘴(41)沿(+X)方向扫描的同时向基板(90)涂覆抗蚀液的正式涂覆处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101181706A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200710139907.6
申请日：2007-08-03
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种基板处理装置，能够正确地测定从狭缝喷嘴喷出的处理液的状态。该基板处理装置设置有在狭缝喷嘴(41)的二次侧设置的抽取空气用的配管(42)。使配管(42)与设置在狭缝喷嘴(41)的一次侧的配管(63)不直接连通而独立，并且，使配管(42)直接与狭缝喷嘴(41)内的流路(410)连通。在配管(42)上设置压力传感器(413)，将测定值传送到控制部(8)。由泵(61)将抗蚀液供给到狭缝喷嘴(41)，并利用压力传感器(413)来测定此时的配管(42)内的压力。
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公开(公告)号：CN101276148B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200810091385.1
申请日：2005-09-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及其方法，能够使狭缝喷嘴状态最佳化，抑制涂覆不均。在狭缝喷嘴(41)中，将第一突出部(410)的第一突出面(410a)配置在比第二突出部(411)的第二突出面(411a)仅低高度差D的位置。进行让狭缝喷嘴(41)沿与正式涂覆处理中的狭缝喷嘴(41)的扫描方向((+X)方向)的相反方向((-X)方向)扫描的同时，向作为预备涂覆构件的辊(71)涂覆抗蚀液的预备涂覆处理。进行使通过预备涂覆处理被正常化的狭缝喷嘴(41)沿(+X)方向扫描的同时向基板(90)涂覆抗蚀液的正式涂覆处理。
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公开(公告)号：CN1757441A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200510107679.5
申请日：2005-09-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及其方法，能够使狭缝喷嘴状态最佳化，抑制涂覆不均。在狭缝喷嘴(41)中，将第一突出部(410)的第一突出面(410a)配置在比第二突出部(411)的第二突出面(411a)仅低高度差D的位置。进行让狭缝喷嘴(41)沿与正式涂覆处理中的狭缝喷嘴(41)的扫描方向((+X)方向)的相反方向((－X)方向)扫描的同时，向作为预备涂覆构件的辊(71)涂覆抗蚀液的预备涂覆处理。进行使通过预备涂覆处理被正常化的狭缝喷嘴(41)沿(+X)方向扫描的同时向基板(90)涂覆抗蚀液的正式涂覆处理。
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公开(公告)号：CN101181706B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200710139907.6
申请日：2007-08-03
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种基板处理装置，能够正确地测定从狭缝喷嘴喷出的处理液的状态。该基板处理装置设置有在狭缝喷嘴(41)的二次侧设置的抽取空气用的配管(42)。使配管(42)与设置在狭缝喷嘴(41)的一次侧的配管(63)不直接连通而独立，并且，使配管(42)直接与狭缝喷嘴(41)内的流路(410)连通。在配管(42)上设置压力传感器(413)，将测定值传送到控制部(8)。由泵(61)将抗蚀液供给到狭缝喷嘴(41)，并利用压力传感器(413)来测定此时的配管(42)内的压力。
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公开(公告)号：CN101276148A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810091385.1
申请日：2005-09-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及其方法，能够使狭缝喷嘴状态最佳化，抑制涂覆不均。在狭缝喷嘴(41)中，将第一突出部(410)的第一突出面(410a)配置在比第二突出部(411)的第二突出面(411a)仅低高度差D的位置。进行让狭缝喷嘴(41)沿与正式涂覆处理中的狭缝喷嘴(41)的扫描方向((+X)方向)的相反方向((－X)方向)扫描的同时，向作为预备涂覆构件的辊(71)涂覆抗蚀液的预备涂覆处理。进行使通过预备涂覆处理被正常化的狭缝喷嘴(41)沿(+X)方向扫描的同时向基板(90)涂覆抗蚀液的正式涂覆处理。
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