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公开(公告)号：CN1915537A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610107524.6
申请日：2006-07-20
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 防止异物引起问题的同时，防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。在狭缝涂敷机中，在狭缝喷嘴的行进方向侧，设置用于排除异物的保护构件。在开始涂敷处理时，狭缝喷嘴从基板的正上方外部水平移动到应开始涂敷处理的开始位置。此时，在喷出口的位置从基板的正上方外部到基板的端部时，使喷出口高度为与涂敷处理相同的基准高度(步骤S11～S13)。另一方面，在喷出口的位置从基板的端部到开始位置时，使喷出口高度高于基准高度(步骤S14～S16)。因此，能够防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。另外，由于保护构件的下端由两个板构成，所以即使是在上升中前方的板接触不到的异物，后方的板也会接触到。
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公开(公告)号：CN100404146C
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200510087408.8
申请日：2005-07-21
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够防止对象物的检出精度的降低，同时减轻作业者的负担。在基板处理装置上设置有构成检出传感器(450)的投光部(450a)和受光部(450b)。使受光部(450b)从接受由投光部(450a)照射的激光的直接光的位置向(+Z)方向偏移，配置在可接受由对象物反射的反射光的位置上。基板处理装置，在受光部(450b)接受激光的情况下，判定存在对象物，控制细缝喷嘴的移动机构。
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公开(公告)号：CN1315583C
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN200410057514.7
申请日：2004-08-12
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明涉及一种可防止与细缝喷嘴接触的对象物的检测精度低下的基板处理装置。在基板处理装置中，设有检测与细缝喷嘴接触的对象物的检测传感器(450、451、452)。设定各检测传感器(450、451、452)的激光在Y轴方向的错开的位置上集束。由此，各检测传感器(450、451、452)的有效检测范围(E1～E3)分担细缝喷嘴的扫描范围(EO)而进行检查。基于各检测传感器(450、451、452)的检测结果，当任意一个检测传感器(450、451、452)检测出对象物时，细缝喷嘴的移动停止，并显示警告信息。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1757439A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200510099926.1
申请日：2005-09-08
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 西冈贤太郎
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，在可以正确控制喷出口与基板之间的距离的同时，喷嘴的制作也容易。在基板处理装置(1)中，测定作为与成为处理对象的基板垂直的方向上的位置的垂直位置的线性量规(81、82)，测定向处理对象的基板喷出处理液的细缝喷嘴(41)的喷出口(41c)以及测定部位(P，P’)的垂直位置，利用该垂直位置测定结果，通过使细缝喷嘴(41)沿与基板垂直的方向移动的升降机构(43、44)进行细缝喷嘴(41)的升降控制。
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公开(公告)号：CN1739865A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200510087408.8
申请日：2005-07-21
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够防止对象物的检出精度的降低，同时减轻作业者的负担。在基板处理装置上设置有构成检出传感器(450)的投光部(450a)和受光部(450b)。使受光部(450b)从接受由投光部(450a)照射的激光的直接光的位置向(+Z)方向偏移，配置在可接受由对象物反射的反射光的位置上。基板处理装置，在受光部(450b)接受激光的情况下，判定存在对象物，控制细缝喷嘴的移动机构。
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公开(公告)号：CN1757439B
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200510099926.1
申请日：2005-09-08
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 西冈贤太郎
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，在可以正确控制喷出口与基板之间的距离的同时，喷嘴的制作也容易。在基板处理装置(1)中，测定作为与成为处理对象的基板垂直的方向上的位置的垂直位置的线性量规(81、82)，测定向处理对象的基板喷出处理液的细缝喷嘴(41)的喷出口(41c)以及测定部位(P，P’)的垂直位置，利用该垂直位置测定结果，通过使细缝喷嘴(41)沿与基板垂直的方向移动的升降机构(43、44)进行细缝喷嘴(41)的升降控制。
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公开(公告)号：CN1915537B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200610107524.6
申请日：2006-07-20
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 防止异物引起问题的同时，防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。在狭缝涂敷机中，在狭缝喷嘴的行进方向侧，设置用于排除异物的保护构件。在开始涂敷处理时，狭缝喷嘴从基板的正上方外部水平移动到应开始涂敷处理的开始位置。此时，在喷出口的位置从基板的正上方外部到基板的端部时，使喷出口高度为与涂敷处理相同的基准高度(步骤S11～S13)。另一方面，在喷出口的位置从基板的端部到开始位置时，使喷出口高度高于基准高度(步骤S14～S16)。因此，能够防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。另外，由于保护构件的下端由两个板构成，所以即使是在上升中前方的板接触不到的异物，后方的板也会接触到。
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公开(公告)号：CN1589975A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410057514.7
申请日：2004-08-12
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明涉及一种可防止与细缝喷嘴接触的对象物的检测精度低下的基板处理装置。在基板处理装置中，设有检测与细缝喷嘴接触的对象物的检测传感器(450、451、452)。设定各检测传感器(450、451、452)的激光在Y轴方向的错开的位置上集束。由此，各检测传感器(450、451、452)的有效检测范围(E1～E3)分担细缝喷嘴的扫描范围(E0)而进行检查。基于各检测传感器(450、451、452)的检测结果，当任意一个检测传感器(450、451、452)检测出对象物时，细缝喷嘴的移动停止，并显示警告信息。
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