一种用于小型板式贮PMD管理装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119771098A

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202411851193.1

    申请日:2024-12-16

    Abstract: 本发明提供了一种用于小型板式贮PMD管理装置,具体属于气液分离技术领域;通过大叶片组件和小叶片组件都采用垂直式叶片,叶片之间采用插接式安装结构,利用微重力下表面张力驱动液体原理,采用板式液体管理技术,利用液体的表面张力完成液体的传输和蓄留,设计叶片为中间镂空结构和小叶片,减轻了结构重量,两者结合实现微重力下的液体蓄留功能,从而实现无加气的排液,还可以抑制液体的晃动,优化了整体结构,减轻了重量,结构简单,可靠性高。本发明包括大叶片组件和小叶片组件,还包括叶片定位轴和集液器组件,大叶片组件由第一大叶片和第二大叶片组成,小叶片组件由第一小叶片、第二小叶片、第三小叶片和第四小叶片组成。

    一种适用于航天器电推进的高纯氙气提纯装置

    公开(公告)号:CN118108194A

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202310576943.8

    申请日:2023-05-22

    Abstract: 本发明公开了一种适用于航天器电推进的高纯氙气提纯装置,包括:氙气罐、液氮罐、六个阀门、纯化器、真空泵、真空计、高压容器、高低温装置、电子称、压力/温度传感器、纯度检测系统和存储容器;高压容器置于高低温装置内,高低温装置置于电子称上,压力/温度传感器和真空计分别与高压容器连接;氙气罐分别通过管路A和管路B与高压容器连接;管路A上设置有第一阀门、纯化器和第二阀门;液氮罐通过管路C与高低温装置连接,真空泵、存储容器通过管路D、E与高压容器连接,纯度检测系统通过管路F与存储容器连接;管路B、C、D、E上分别设置有一个阀门。本发明实现了对较低纯度氙气的提纯,使提纯后的氙气的纯度满足宇航级电推进的要求。

    一种用于工作台Z轴方向宏动的运动装置

    公开(公告)号:CN113917798B

    公开(公告)日:2022-10-14

    申请号:CN202111110721.4

    申请日:2021-09-22

    Abstract: 本发明的实施例提供了一种用于工作台Z轴方向宏动的运动装置,包括:工作台;四个校正模块,所述校正模块与所述工作台相连接,所述校正模块包括可发生柔性形变的柔性结构;以及四个驱动模块,所述驱动模块的顶部与所述校正模块一一对应连接,各所述驱动模块底部与宏动台相连接;其中,四个所述驱动模块的投影的连线构成四边形,各所述驱动模块驱动对应的所述校正模块沿Z轴方向移动;当任意两个所述驱动模块驱动对应的所述校正模块沿Z轴方向移动时,所述柔性结构发生柔性形变,实现所述工作台的位置调整。

    一种基于惯性/多普勒计程仪加阻尼状态的组合导航方法

    公开(公告)号:CN114964235A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202210545260.1

    申请日:2022-05-19

    Abstract: 本发明提供一种基于惯性/多普勒计程仪加阻尼状态的组合导航方法,包括:获取算法调试所需数据源作为训练样本;对训练样本进行各航行状态下的速度,加速度,角速度,角加速度的特征分析,获取系统的航行状态判据;通过训练样本,对多普勒计程仪组合导航滤波进行精确建模;通过训练样本,对阻尼导航网络参数进行最优设计;根据载体航行状态判据获得运载体的运动状态,对输出的速度信息进行切换,最终获得综合系统的优化速度,分别对组合导航和阻尼导航的速度输出进行频谱分析,实现对低频速度误差的抑制。该方法具有良好的实际工程应用价值,旨在解决传统的组合导航速度收敛慢、速度误差大,进而导致定位误差大的问题。

    一种用于光刻机的隔振装置

    公开(公告)号:CN113917791B

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202111109804.1

    申请日:2021-09-22

    Abstract: 本发明涉及光刻设备技术领域,公开了一种用于光刻机的隔振装置,其包括基座、隔振平台、悬挂部、第一隔振机构、第二隔振机构和控制器,控制器可控制第一隔振机构对外界环境传递到隔振平台的振动或隔振平台上其他部件产生的振动进行减振处理,使得隔振平台下的悬挂部受到的振动干扰最小化,为安装在悬挂部上的工件台提供稳定的外部工作环境,控制器可控制第二隔振机构对工件台自身产生的振动进行减振处理,从而维持内部工作环境的稳定,也即,第一隔振机构和第二隔振机构相配合,协同优化了悬挂部内部和外部的隔振效果,为光刻机工件台及整机提供了稳定的运作环境,提高了工件台的运动精度。

    一种用于光刻机的隔振装置

    公开(公告)号:CN113917791A

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202111109804.1

    申请日:2021-09-22

    Abstract: 本发明涉及光刻设备技术领域,公开了一种用于光刻机的隔振装置,其包括基座、隔振平台、悬挂部、第一隔振机构、第二隔振机构和控制器,控制器可控制第一隔振机构对外界环境传递到隔振平台的振动或隔振平台上其他部件产生的振动进行减振处理,使得隔振平台下的悬挂部受到的振动干扰最小化,为安装在悬挂部上的工件台提供稳定的外部工作环境,控制器可控制第二隔振机构对工件台自身产生的振动进行减振处理,从而维持内部工作环境的稳定,也即,第一隔振机构和第二隔振机构相配合,协同优化了悬挂部内部和外部的隔振效果,为光刻机工件台及整机提供了稳定的运作环境,提高了工件台的运动精度。

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