一种n-SiC衬底AlGaN基垂直结构谐振腔紫外LED芯片及制备方法

    公开(公告)号:CN105957934B

    公开(公告)日:2018-02-13

    申请号:CN201610263454.7

    申请日:2016-04-26

    Applicant: 吉林大学

    Abstract: 一种n‑SiC衬底AlGaN基垂直结构谐振腔紫外LED芯片及其制备方法,属于半导体发光器件领域。其依次由下电极层、n‑SiC衬底、n‑Alx0Ga1‑x0N导电缓冲层、n‑AlGaN基DBR下反射层、n‑Alx1Ga1‑x1N电流扩展层、AlGaN基极化诱导隧道结、p‑Alx2Ga1‑x2N空穴注入层、AlGaN基量子阱有源区、n‑Alx3Ga1‑x3N电子注入层、n‑AlGaN基DBR上反射层和上电极层构成,0.1≤x0、x1、x2、x3≤0.9。采用与AlGaN晶格更匹配的SiC衬底,改善AlGaN质量,提高内量子效率;利用谐振腔结构,增强TE模偏振光,提高器件光提取效率;通过隧道结实现结构倒置,减弱了极化电场的影响,提高量子阱内载流子复合发光效率。本发明进一步拓展了半导体紫外发光器件的应用范围。

    基于PbSe量子点多波长近红外LED的制备方法

    公开(公告)号:CN104091864B

    公开(公告)日:2017-01-25

    申请号:CN201410345455.7

    申请日:2014-07-19

    Applicant: 吉林大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于PbSe量子点多波长近红外LED的制备方法及气体检测方法。制备方法分为计算PbSe量子点的尺寸,制备PbSe量子点,制备PbSe量子点与无影胶的混合溶液,沉积混合溶液、制备近红外多波长LED(1)等四个步骤。应用该装置的气体检测方法为:制备近红外多波长LED(1),将所要检测的气体填充进气室光线透过凸透镜(2)、通过气室(3)和凸透镜(4)并由红外光谱仪(5)接收,对被测气体进行标定,测量气体浓度。本发明所设计的装置可实现多种气体的同时检测,灵敏度高、稳定性好、价格低廉、荧光产率高。(3),近红外多波长LED(1)接通电源后发出光线,

    基于PbSe量子点多波长近红外LED的气体检测方法

    公开(公告)号:CN106323900A

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201610860545.9

    申请日:2014-07-19

    Applicant: 吉林大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于PbSe量子点多波长近红外LED的气体检测方法。包括五个步骤:第一步、制备近红外多波长LED(1),第二步、将所要检测的气体填充进气室(3),第三步、近红外多波长LED(1)接通电源后发出光线,光线透过凸透镜(5)接收,第四步、对被测气体进行标定,第五步、利用上述标定后的系统,对被测气体浓度进行检测,实现气体浓度的测量。本发明可实现多种气体的同时检测,灵敏度高、稳定性好、价格低廉、荧光产率高。(2)、通过气室(3)和凸透镜(4)并由红外光谱仪

    一种带有极化诱导p型掺杂层的氮极性蓝紫光LED芯片及制备方法

    公开(公告)号:CN107978661B

    公开(公告)日:2019-12-24

    申请号:CN201711092025.9

    申请日:2017-11-08

    Applicant: 吉林大学

    Abstract: 一种带有极化诱导p型掺杂层的氮极性蓝紫光LED芯片及制备方法,属于半导体发光器件技术领域。由(0001)面蓝宝石衬底、低温GaN缓冲层、氮极性GaN模板层、n‑GaN电子注入层、多量子阱有源层、极化诱导p型掺杂空穴注入层组成,其中氮极性GaN模板层中有SiNx掩膜层,极化诱导p型掺杂空穴注入层上设置有p电极,n‑GaN电子注入层有一裸露台面,在其上设置有n电极;本发明采用斜切的蓝宝石衬底,提高外延片的晶体质量及表面平整度;氮极性GaN模板层中原位插入SiNx掩膜,有效阻挡位错同时降低非故意掺杂的浓度,提高内量子效率;采用Al组分线性增加的掺Mg的AlGaN制作形成为极化诱导p型掺杂空穴注入层,提高空穴的浓度,提高电注入效率。

    一种带有极化诱导p型掺杂层的氮极性蓝紫光LED芯片及制备方法

    公开(公告)号:CN107978661A

    公开(公告)日:2018-05-01

    申请号:CN201711092025.9

    申请日:2017-11-08

    Applicant: 吉林大学

    Abstract: 一种带有极化诱导p型掺杂层的氮极性蓝紫光LED芯片及制备方法,属于半导体发光器件技术领域。由(0001)面蓝宝石衬底、低温GaN缓冲层、氮极性GaN模板层、n-GaN电子注入层、多量子阱有源层、极化诱导p型掺杂空穴注入层组成,其中氮极性GaN模板层中有SiNx掩膜层,极化诱导p型掺杂空穴注入层上设置有p电极,n-GaN电子注入层有一裸露台面,在其上设置有n电极;本发明采用斜切的蓝宝石衬底,提高外延片的晶体质量及表面平整度;氮极性GaN模板层中原位插入SiNx掩膜,有效阻挡位错同时降低非故意掺杂的浓度,提高内量子效率;采用Al组分线性增加的掺Mg的AlGaN制作形成为极化诱导p型掺杂空穴注入层,提高空穴的浓度,提高电注入效率。

    一种n-SiC衬底AlGaN基垂直结构谐振腔紫外LED芯片及制备方法

    公开(公告)号:CN105957934A

    公开(公告)日:2016-09-21

    申请号:CN201610263454.7

    申请日:2016-04-26

    Applicant: 吉林大学

    CPC classification number: H01L33/04 H01L33/007 H01L33/025 H01L33/105

    Abstract: 一种n‑SiC衬底AlGaN基垂直结构谐振腔紫外LED芯片及其制备方法,属于半导体发光器件领域。其依次由下电极层、n‑SiC衬底、n‑Alx0Ga1‑x0N导电缓冲层、n‑AlGaN基DBR下反射层、n‑Alx1Ga1‑x1N电流扩展层、AlGaN基极化诱导隧道结、p‑Alx2Ga1‑x2N空穴注入层、AlGaN基量子阱有源区、n‑Alx3Ga1‑x3N电子注入层、n‑AlGaN基DBR上反射层和上电极层构成,0.1≤x0、x1、x2、x3≤0.9。采用与AlGaN晶格更匹配的SiC衬底,改善AlGaN质量,提高内量子效率;利用谐振腔结构,增强TE模偏振光,提高器件光提取效率;通过隧道结实现结构倒置,减弱了极化电场的影响,提高量子阱内载流子复合发光效率。本发明进一步拓展了半导体紫外发光器件的应用范围。

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