CIGS吸收件的形成方法
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104916734B

    公开(公告)日:2018-02-13

    申请号:CN201410222156.4

    申请日:2014-05-23

    Inventor: 陈世伟

    CPC classification number: H01L31/0322 H01L31/022466 Y02E10/541 Y02P70/521

    Abstract: 本发明提供了一种形成CIGS吸收件的方法,其中,选择至少一种源微粒并将其制备为粉末或凝胶;在衬底上沉积该粉末或凝胶,压缩该粉末或凝胶,并对该粉末或凝胶退火。在一些实施例中,将多种源微粒制备为粉末,并在沉积、压缩、退火粉末之前混合粉末。在其他实施例中,将多种源微粒独立地沉积为层,共同地压缩这些层,并对这些层共同地退火。在又一些实施例中,将多种源微粒独立地沉积为层,对这些层独立地压缩,并对这些层共同地退火。

    半导体封装件及其制造方法

    公开(公告)号:CN111192858A

    公开(公告)日:2020-05-22

    申请号:CN201910232291.X

    申请日:2019-03-26

    Abstract: 一种半导体封装件包括重布线结构、至少一个半导体装置、散热组件及包封材料。所述至少一个半导体装置设置在所述重布线结构上且电连接到所述重布线结构。所述散热组件设置在所述重布线结构上且包括凹陷部分及延伸部分,所述凹陷部分接纳所述至少一个半导体装置,所述延伸部分连接到所述凹陷部分且接触所述重布线结构,其中所述凹陷部分接触所述至少一个半导体装置。所述包封材料设置在所述重布线结构之上,其中所述包封材料填充所述凹陷部分且包封所述至少一个半导体装置。

Patent Agency Ranking