半导体封装件及其制造方法

    公开(公告)号:CN111192858A

    公开(公告)日:2020-05-22

    申请号:CN201910232291.X

    申请日:2019-03-26

    Abstract: 一种半导体封装件包括重布线结构、至少一个半导体装置、散热组件及包封材料。所述至少一个半导体装置设置在所述重布线结构上且电连接到所述重布线结构。所述散热组件设置在所述重布线结构上且包括凹陷部分及延伸部分,所述凹陷部分接纳所述至少一个半导体装置,所述延伸部分连接到所述凹陷部分且接触所述重布线结构,其中所述凹陷部分接触所述至少一个半导体装置。所述包封材料设置在所述重布线结构之上,其中所述包封材料填充所述凹陷部分且包封所述至少一个半导体装置。

    集成电路封装件和方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113808960B

    公开(公告)日:2024-11-19

    申请号:CN202110693215.6

    申请日:2021-06-22

    Abstract: 提供了封装结构及其形成方法。一种方法包括在插件晶圆的第一面上形成第一电连接器和第二电连接器。使用第一电连接器,将集成电路管芯接合至插件晶圆的第一面。邻近集成电路管芯,将加强件结构连接至插件晶圆的第一面。在平面图中,加强件结构覆盖第二电连接器。用第一密封剂密封集成电路管芯和加强件结构。将插件晶圆和加强件结构单个化,以形成堆叠结构。本申请的实施例提供了集成电路封装件和方法。

    半导体封装件及其制造方法

    公开(公告)号:CN111192858B

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN201910232291.X

    申请日:2019-03-26

    Abstract: 一种半导体封装件包括重布线结构、至少一个半导体装置、散热组件及包封材料。所述至少一个半导体装置设置在所述重布线结构上且电连接到所述重布线结构。所述散热组件设置在所述重布线结构上且包括凹陷部分及延伸部分,所述凹陷部分接纳所述至少一个半导体装置,所述延伸部分连接到所述凹陷部分且接触所述重布线结构,其中所述凹陷部分接触所述至少一个半导体装置。所述包封材料设置在所述重布线结构之上,其中所述包封材料填充所述凹陷部分且包封所述至少一个半导体装置。

    封装结构及其形成方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119833490A

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202411906009.9

    申请日:2024-12-23

    Inventor: 吴懿轩 庄立朴

    Abstract: 提供了封装结构及其形成方法。封装结构包括第一再分布结构以及附接至第一再分布结构的第一侧并且彼此间隔开的第一封装组件和第二封装组件。封装结构还包括附接至第一再分布结构的第二侧的第一半导体管芯以及密封剂。封装结构还包括形成在第一半导体管芯上方的热扩散器层,并且热扩散器层的热导率大于密封剂的热导率。封装结构还包括穿过热扩散器层形成的导电部件以及形成在热扩散器层上方的第二再分布结构。此外,第二再分布结构通过导电部件电连接至第一半导体管芯。

    集成电路封装件和方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113808960A

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202110693215.6

    申请日:2021-06-22

    Abstract: 提供了封装结构及其形成方法。一种方法包括在插件晶圆的第一面上形成第一电连接器和第二电连接器。使用第一电连接器,将集成电路管芯接合至插件晶圆的第一面。邻近集成电路管芯,将加强件结构连接至插件晶圆的第一面。在平面图中,加强件结构覆盖第二电连接器。用第一密封剂密封集成电路管芯和加强件结构。将插件晶圆和加强件结构单个化,以形成堆叠结构。本申请的实施例提供了集成电路封装件和方法。

    半导体封装件及其形成方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119965170A

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN202510071543.0

    申请日:2025-01-16

    Abstract: 本公开提供了半导体封装件及其形成方法。半导体封装件包括氧化物层以及位于氧化物层的第一侧上的波导和光子组件。半导体封装件还包括与光子组件相邻并且配置为向光子组件提供热能的加热器元件。半导体封装件还包括位于氧化物层的与第一侧相对的第二侧上的再分布结构。再分布结构包括多个介电层和位于介电层中的导电部件。此外,半导体封装件包括嵌入再分布结构的介电层中并且直接位于光子组件下方的热电冷却器件。

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