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公开(公告)号:CN112151676A
公开(公告)日:2020-12-29
申请号:CN202010955885.6
申请日:2014-11-17
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L49/02 , H01L23/522 , H01L23/532 , H01L21/768
Abstract: 本发明提供了具有石墨烯结构的电容器、包括其的半导体器件及其形成方法。电容器包括具有多个第一石墨烯层的第一石墨烯结构。电容器还包括位于第一石墨烯结构上方的介电层。电容器还包括位于介电层上方的第二石墨烯结构,其中,第二石墨烯结构具有多个第二石墨烯层。
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公开(公告)号:CN105679839A
公开(公告)日:2016-06-15
申请号:CN201410657766.7
申请日:2014-11-17
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 本发明提供了具有石墨烯结构的电容器、包括其的半导体器件及其形成方法。电容器包括具有多个第一石墨烯层的第一石墨烯结构。电容器还包括位于第一石墨烯结构上方的介电层。电容器还包括位于介电层上方的第二石墨烯结构,其中,第二石墨烯结构具有多个第二石墨烯层。
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公开(公告)号:CN112151676B
公开(公告)日:2024-08-27
申请号:CN202010955885.6
申请日:2014-11-17
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H10N97/00 , H01L23/522 , H01L23/532 , H01L21/768
Abstract: 本发明提供了具有石墨烯结构的电容器、包括其的半导体器件及其形成方法。电容器包括具有多个第一石墨烯层的第一石墨烯结构。电容器还包括位于第一石墨烯结构上方的介电层。电容器还包括位于介电层上方的第二石墨烯结构,其中,第二石墨烯结构具有多个第二石墨烯层。
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