光刻系统及其清洁方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112305869A

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN202010572938.6

    申请日:2020-06-22

    Abstract: 提供一种光刻系统及其清除方法。光刻系统包含光源产生器。光源产生器包含反射镜、液滴产生器以及液滴捕集器。液滴产生器和液滴捕集器彼此面对,且安置在环绕反射镜的区域处。清洁方法包含:经由光源产生器的装载埠将液滴产生器移出光源产生器;经由相同装载埠将铲总成插入到光源产生器中;使用附接到铲总成的管道镜来辨识由液滴产生器产生的液滴所形成的沉积物的位置;使用铲总成来移除和收集沉积物;以及经由装载埠将铲总成与管道镜一起从光源产生器中撤出。

    极紫外辐射源装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110837208A

    公开(公告)日:2020-02-25

    申请号:CN201910760764.3

    申请日:2019-08-16

    Abstract: 一种极紫外辐射源装置,包含腔室且腔室包围极紫外光收集镜。极紫外光收集镜配置以收集以及引导在腔室中产生的极紫外辐射。至少三个排放口配置以从腔室移除残余物。在一些实施例中,排放口对称地排列在垂直于极紫外光收集镜的光轴的平面上。在一些实施例中,三个排放孔中的任二相邻的排放口之间的角度为120度。在一些实施例中,四个排放孔中的任二相邻的排放口之间的角度为90度。在一些实施例中,腔室配置以维持压力在0.1毫巴至10毫巴的范围内。

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