-
公开(公告)号:CN1256795A
公开(公告)日:2000-06-14
申请号:CN99800135.X
申请日:1999-02-15
Applicant: 古河电气工业株式会社
IPC: H01L33/00
Abstract: 半导体发光二极管(10)被形成在n型GaAs基片上并包含:AlGaInP基双异质结结构,其中激活层(16)被夹在镀层(14,18)之间;上P型接触层20;环形上电极(22)有孔(28),光是通过上p型接触层(20)和上电极(22)的孔(28)发射。上p型接触层(20)是由含有0.5或更高Al含量的AlGaAs或AlGaAsP构成的半导体层,并且在5×1018cm-3或更高载流子浓度掺杂杂质。该半导体发光二极管以要求的发射图形和较高强度发射光并能以相对简单工艺制造。
-
公开(公告)号:CN1487334A
公开(公告)日:2004-04-07
申请号:CN03147478.0
申请日:2003-07-14
Applicant: 古河电气工业株式会社
CPC classification number: B82Y20/00 , H01S5/0265 , H01S5/12 , H01S5/2222 , H01S5/2224 , H01S5/2226 , H01S5/3072 , H01S5/3409 , H01S5/34306
Abstract: 包括形成在第一导电型衬底上的DFB激光二极管和EA调制器的EA-DFB模块有一个台式带,一个形成在台式带两侧面上的电流阻挡结构和一个形成在台式带顶部及电流阻挡结构上的第二InP包层。电流阻挡结构包括一个掺Fe的半绝缘膜、一个第一导电型埋层和一个载流子耗尽层。载流子耗尽层减小第一导电型埋层和第二InP包层之间边界处的寄生电容。
-