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公开(公告)号:CN114429929A
公开(公告)日:2022-05-03
申请号:CN202210074403.5
申请日:2022-01-21
IPC: H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本申请公开了一种基片转运装置,包括真空发生器、气体吹送器、转运机构和吹扫器;转运机构包括托架;托架适于平移,其设有用于承载基片的承载面;承载面设有若干吸附孔;各吸附孔均连通真空发生器;吹扫器安装于托架且设有吹气通道;吹气通道连通气体吹送器,其相对承载面倾斜朝上延伸且出气口朝向承载面所在一侧;吹气通道的出气口的下端设有倾斜朝下的第一导风面;第一导风面所在平面与承载面所在平面的交线相对吸附于承载面上的基片的任意部位均较靠近于吹气通道的出气口。采用上述技术方案的基片转运装置能够可靠地对基片进行转运,降低基片受损风险,以及保证基片及其表面上的光刻胶的清洁度。
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公开(公告)号:CN118720932A
公开(公告)日:2024-10-01
申请号:CN202410956533.0
申请日:2024-07-17
Applicant: 厦门大学
Abstract: 本发明公开一种面向高陡度光学元件加工的多主轴加工工具头,包括传感器装置、抛光部件和磨削加工部件;抛光部件包括抛光主轴箱壳体、第一加工工具、第二加工工具、力矩电机、角接触滚珠轴承、液压膨胀夹和双头中空主轴;双头中空主轴从抛光主轴箱壳体向外延伸出两端,液压膨胀夹设置在双头中空主轴的两端上,用于固定第一、第二加工工具;磨削加工部件包括用于装夹光学元件的磨削主轴、用于对光学元件进行磨削加工的圆弧砂轮、为圆弧砂轮提供动力的皮带轮传动装置;抛光部件的双头中空主轴和磨削加工部件的磨削主轴呈垂直分布。本发明可根据加工工艺需求灵活更换加工工具,整体结构紧凑,有效避免加工干涉,适合加工大口径高陡度光学元件。
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公开(公告)号:CN115793619A
公开(公告)日:2023-03-14
申请号:CN202211659292.0
申请日:2022-12-22
Applicant: 厦门大学
IPC: G05B23/02
Abstract: 本发明公开一种流量控制器测试装置,包括测试组及模拟组,所述测试组具有油路块,所述油路块内设油路,所述油路配置有流量传感器及压力传感器;所述模拟组具有滑动相连的滑轨及滑块,所述滑块之上架设有负载气缸,所述负载气缸向滑块施压,所述滑块具有油腔;待测试的流量控制器通过所述油路块内的油路与所述滑块的油腔连通。本发明利用流量及压力传感器的实时数据,利用数据之间的变化程度,判断该流量控制传感器的性能,从而判断该流量控制器是否可以应用在设定的液体静压导轨上,实现单个流量控制器的性能测试;同时,还能利用流量控制器测试装置挑选出性能相近且能满足设定的液体静压导轨需求的流量控制器。
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公开(公告)号:CN115793619B
公开(公告)日:2024-10-01
申请号:CN202211659292.0
申请日:2022-12-22
Applicant: 厦门大学
IPC: G05B23/02
Abstract: 本发明公开一种流量控制器测试装置,包括测试组及模拟组,所述测试组具有油路块,所述油路块内设油路,所述油路配置有流量传感器及压力传感器;所述模拟组具有滑动相连的滑轨及滑块,所述滑块之上架设有负载气缸,所述负载气缸向滑块施压,所述滑块具有油腔;待测试的流量控制器通过所述油路块内的油路与所述滑块的油腔连通。本发明利用流量及压力传感器的实时数据,利用数据之间的变化程度,判断该流量控制传感器的性能,从而判断该流量控制器是否可以应用在设定的液体静压导轨上,实现单个流量控制器的性能测试;同时,还能利用流量控制器测试装置挑选出性能相近且能满足设定的液体静压导轨需求的流量控制器。
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