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公开(公告)号：CN103755148A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201410045558.1
申请日：2014-02-08
Applicant: 厦门大学
IPC: C03C15/00
Abstract: 一种在线可控式光学元件刻蚀装置，涉及光学元件刻蚀装置。设有缓冲液存储容器、刻蚀反应发生装置、伺服电机、密封盖、可旋转多功能夹具、在线浓度计、恒温箱；不同容器内装不同刻蚀溶液，容器下端通过导管与密封盖相连，导管直接通入刻蚀反应发生装置中，导管中部设有开关，伺服电机安装在密封盖中部，伺服电机与可旋转多功能夹具中轴相连；在线浓度计设在刻蚀反应发生装置外部下端，可旋转多功能夹具实现光学元件的固定及刻蚀液的搅拌；可旋转多功能夹具设有竖直中轴、四对横向分支，四对横向分支内设有光学元件定位槽，竖直中轴上设有四条分支槽；每对横向分支一端伸入分支槽内部，每对横向分支中的另一个横向分支沿分支槽上下移动。
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公开(公告)号：CN103398686A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201310365963.7
申请日：2013-08-20
Applicant: 厦门大学
IPC: G01B21/04
Abstract: 一种大口径非球面光学元件精密检测平台Z轴配重装置，涉及三坐标测量机。设连接支板、导轨、滑块、Z轴运动组件、测头、拉线、测量组件、凹形滑轨、配重组件及控制电路；导轨设于连接支板左侧，Z轴运动组件与滑块连接，测头设于Z轴运动组件上，Z轴运动组件与测量组件下端之间经第一拉线连接，测量组件位于连接支板左侧，测量组件设壳体、传感器压力件和压电传感器，凹形滑轨设于连接支板上端，配重组件设磁流变液容器、磁流变液和质量块，磁流变液容器置于连接支板右侧，磁流变液盛于磁流变液容器内，质量块浸入磁流变液中，质量块上端经第二拉线与测量组件的壳体上端连接，第二拉线与凹形滑轨滑动配合，控制电路设信号转换装置和电极。
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公开(公告)号：CN103322938A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310236649.9
申请日：2013-06-15
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种光学元件定点蚀刻及观测装置，涉及光学元件。设有支架、三维移动平台、三维移动平台直线电机、光学元件夹具、蚀刻结构、伺服电机、Z轴承载板、显微镜和计算机；三维移动平台设于支架上方，光学元件夹具安装于支架上端台面上，蚀刻结构设有蚀刻头和蚀刻液容器，蚀刻液容器设有蚀刻液进口阀门，蚀刻头安装于蚀刻液容器的蚀刻液出口端，蚀刻头下端设有蚀刻液出口，蚀刻液出口与蚀刻液容器连通，伺服电机安装在Z轴承载板上，Z轴承载板安装于三维移动平台上，伺服电机输出轴与固连有接板，显微镜与蚀刻结构固于连接板的两端，计算机内安装有运动控制卡，计算机与三维移动平台直线电机电连接，三维移动平台直线电机输出轴接三维移动平台。
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公开(公告)号：CN103268853A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310237071.9
申请日：2013-06-15
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种光学元件定量刻蚀及清洗装置，涉及一种刻蚀及清洗装置。设有第一直线电机、第二直线电机、支架、底座、刻蚀容器、清洗容器、机械手、数据显示器、超声波传感器、微型水泵、过滤器、喷头、微控制器和超声波发射装置；第一直线电机、第二直线电机、机械手和数据显示器均安装在支架上，支架设于底座上，刻蚀容器和清洗容器置于支架正下方且呈左右设置，超声波传感器安装在刻蚀容器的液仓底部，超声波发射装置安装在清洗容器的液仓底部，清洗容器中安置微型水泵、过滤器和喷头，微型水泵、过滤器和喷头串联连通，超声波传感器信号输出端接微控制器信号输入端，微控制器输出端分别接第一直线电机和第二直线电机，数据显示器与微控制器电连接。
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公开(公告)号：CN102975112A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210568634.8
申请日：2012-12-24
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B37/04 , B24B37/005
Abstract: 一种在线可控抛光装置，涉及一种化学机械抛光设备。设有浮动盘、伸缩架、引导滑块、调节滑块、可拆卸夹持工具、压电传感器、底座和电磁铁；所述浮动盘上设有6条滑槽，伸缩架顶端与引导滑块相连，引导滑块嵌入滑槽内，伸缩架底端与调节滑块相连，调节滑块嵌入滑槽内，引导滑块上装有可拆卸夹持工具，压电传感器固定于浮动盘表面，浮动盘嵌入底座内且底部4个角落装有电磁铁，底座内与其相对应的位置也分别装有电磁铁。克服了现有的抛光装置对工件的尺寸和表面要求严格等问题，通过尺寸调整结构和压电传感器控制系统的互相配合，可以根据工件的尺寸大小和表面形貌进行尺寸和压力调整，从而达到固定工件和保证工件表面受力实时均匀的目的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102873594A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210366271.X
申请日：2012-09-27
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B1/04
Abstract: 一种高度可调的倾角式超声振动加工装置，涉及一种光电产业与半导体产业硬脆性材料加工装置。提供一种固定磨粒超声椭圆振动的角度与高度可调，可提高加工效率的一种高度可调的倾角式超声振动加工装置。氧化铈固结磨料砂轮与应变片式压力传感器粘贴在超声振子的底部，超声振子与弹簧座固定，弹簧座上装有2个弹簧，弹簧座与微动平台固定，微动平台固定在转轴的凹槽上，转轴与主轴相连接，主轴通过联轴器与旋转电机连接，旋转电机与旋转电机转接板和电机支撑板固定在箱体上，倾角旋转臂将倾角旋转电机与箱体连接，倾角旋转电机与倾角旋转电机锁板固定。
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公开(公告)号：CN101767312A
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN201010116003.3
申请日：2010-02-23
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B41/06
Abstract: 楔块式倾角可调非球面加工夹具，涉及一种加工夹具。提供一种具有夹具安装方便、结构紧凑、定位精度较高、使用较灵活等特点，用于楔形非球面加工时工件的定位和夹紧的楔块式倾角可调非球面加工夹具。设有工作台、中间平台、底座、回转平台、工作台回转轴、工作台回转轴固定座、工作台电机、工作台电机与丝杆联轴器、工作台丝杆、工作台丝杆螺帽、工作台丝杆固定座、上圆弧面楔块、底座回转轴、底座回转轴固定座、底座电机、底座电机与丝杆联轴器、底座丝杆、底座丝杆螺帽、底座丝杆固定座、下圆弧面楔块、回转平台电机、齿轮、齿条、底座与回转平台紧定螺钉、底座与回转平台连接轴。
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公开(公告)号：CN101670552A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910112549.9
申请日：2009-09-15
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种基于快速抛光技术的材料去除率控制系统，涉及一种材料去除率控制系统。提供一种基于快速抛光技术的材料去除率控制系统。设有工控机系统、数控系统、伺服系统、数控抛光机床和材料去除率检测系统。工控机系统输出端与数控系统输入端连接，数控系统输出端与伺服系统输入端连接，伺服系统输出端与数控抛光机床的电机连接，电机驱动3个加工轴：工件旋转轴、工件横移轴和抛光盘旋转轴联动，对工件进行加工，数控抛光机床加工后的工件输出并送入材料去除率检测系统进行材料去除率检测。材料去除率检测系统设有空调恒温系统、激光干涉仪和千分尺。工件加工后送入空调恒温系统，利用激光干涉仪和千分尺测量实际加工后工件材料去除率。
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公开(公告)号：CN103331694B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310314412.8
申请日：2013-07-24
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B39/06
Abstract: 一种抛光区域可调式抛光装置，涉及抛光装置。设有工作台、夹具、抛光盘自转机构、抛光盘倾斜机构；所述工作台设有底座、X轴承载板、X轴导轨、X轴滑块、X轴直线电机、Y轴承载板、Y轴导轨、Y轴滑块、Y轴直线电机、Z轴承载板、Z轴导轨、Z轴滑块、Z轴直线电机和竖直板；所述抛光盘自转机构设有抛光盘、端面抛光垫、圆面抛光垫、伺服电机及电机座；所述抛光盘倾斜机构设有一个旋转圆盘、弧形齿条、齿轮、伺服电机和电机座。可根据工件不同尺寸和形貌调整抛光位置和抛光方式，实现工件局部抛光、全局抛光和角度抛光，调整灵活，方便可行。
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公开(公告)号：CN103438800B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201310383473.X
申请日：2013-08-29
Applicant: 厦门大学
IPC: G01B11/00
Abstract: 用于大口径光学元件精密检测平台的空间误差计算方法，涉及光学元件检测。将空间误差分解为X、Y平面内误差和该平面沿Z轴运动后由Z轴所引起的误差，综合利用这两部分误差值，通过分别对X、Y两轴联动误差、Z轴定位误差进行多项式拟合以及将Z轴实际运动轨迹分别向ZO1X和ZO1Y平面垂直投影和解多个相关直角三角形的方法计算出空间误差值。因为所应用的误差值均可通过已有设备进行测量，从而实现了大口径光学元件精密检测平台的空间误差计算。
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