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公开(公告)号：CN103331694B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310314412.8
申请日：2013-07-24
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B39/06
Abstract: 一种抛光区域可调式抛光装置，涉及抛光装置。设有工作台、夹具、抛光盘自转机构、抛光盘倾斜机构；所述工作台设有底座、X轴承载板、X轴导轨、X轴滑块、X轴直线电机、Y轴承载板、Y轴导轨、Y轴滑块、Y轴直线电机、Z轴承载板、Z轴导轨、Z轴滑块、Z轴直线电机和竖直板；所述抛光盘自转机构设有抛光盘、端面抛光垫、圆面抛光垫、伺服电机及电机座；所述抛光盘倾斜机构设有一个旋转圆盘、弧形齿条、齿轮、伺服电机和电机座。可根据工件不同尺寸和形貌调整抛光位置和抛光方式，实现工件局部抛光、全局抛光和角度抛光，调整灵活，方便可行。
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公开(公告)号：CN103419121B
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201310347476.8
申请日：2013-08-09
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B37/04 , B24B37/34 , B24B49/14 , H01L21/304
Abstract: 一种基于温度可监控的磁悬浮抛光装置，涉及一种化学机械抛光设备。设有底座、防水罩、抛光盘、电热丝、导电环、温控器、计算机、弹力电磁条圈、接收磁条圈、止浮轨、工件夹具、温度传感器、无线接收模块和抛光液添加装置；防水罩绕设于底座上端周边；抛光盘固于防水罩上端，底部设有涡状凹槽；电热丝嵌于涡状凹槽内，电热丝与温控器电连接，温控器与计算机连接，弹力电磁条圈固于底座上表面，接收磁条圈固于抛光盘底面，弹力电磁条圈与接收磁条圈的磁性相同，止浮轨固于底座上且压住弹力电磁条圈，传感器设于夹具周边，传感器上设有无线传输模块，无线传输模块与设于计算机上的无线接收模块无线信号连接，抛光液添加装置设于抛光盘侧边上方。
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公开(公告)号：CN103268853B
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201310237071.9
申请日：2013-06-15
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种光学元件定量刻蚀及清洗装置，涉及一种刻蚀及清洗装置。设有第一直线电机、第二直线电机、支架、底座、刻蚀容器、清洗容器、机械手、数据显示器、超声波传感器、微型水泵、过滤器、喷头、微控制器和超声波发射装置；第一直线电机、第二直线电机、机械手和数据显示器均安装在支架上，支架设于底座上，刻蚀容器和清洗容器置于支架正下方且呈左右设置，超声波传感器安装在刻蚀容器的液仓底部，超声波发射装置安装在清洗容器的液仓底部，清洗容器中安置微型水泵、过滤器和喷头，微型水泵、过滤器和喷头串联连通，超声波传感器信号输出端接微控制器信号输入端，微控制器输出端分别接第一直线电机和第二直线电机，数据显示器与微控制器电连接。
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公开(公告)号：CN103586754B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201310608245.8
申请日：2013-11-26
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/00 , B24B13/005
Abstract: 一种光学元件抛光装置，涉及抛光装置。设有抛光液存储容器、调节阀、轴承、抛光头、湿度传感器、光学元件夹具、抛光盘、防护罩、导管、水泵、过滤器和喷头；抛光液存储容器中心与抛光头主轴间相连；抛光液存储容器底部设三段弧形开口，调节阀安装在抛光液存储容器底部内侧；抛光头上表面与抛光液存储容器下表面接触但不固定，抛光头上表面对应抛光液存储容器内调节阀的位置开设凹槽，凹槽下部设4个通孔；夹具周围分布传感器；抛光盘内部均布4条引流槽，抛光盘上表面对应引流槽位置开设通孔，通孔连接抛光盘上表面与引流槽；防护罩与抛光盘主轴连接；防护罩下方与导管一端相连，导管中设水泵和过滤器，导管另一端与喷头连接，喷头正对抛光垫。
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公开(公告)号：CN103586754A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201310608245.8
申请日：2013-11-26
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/00 , B24B13/005
CPC classification number: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B57/00
Abstract: 一种光学元件抛光装置，涉及抛光装置。设有抛光液存储容器、调节阀、轴承、抛光头、湿度传感器、光学元件夹具、抛光盘、防护罩、导管、水泵、过滤器和喷头；抛光液存储容器中心与抛光头主轴间相连；抛光液存储容器底部设三段弧形开口，调节阀安装在抛光液存储容器底部内侧；抛光头上表面与抛光液存储容器下表面接触但不固定，抛光头上表面对应抛光液存储容器内调节阀的位置开设凹槽，凹槽下部设4个通孔；夹具周围分布传感器；抛光盘内部均布4条引流槽，抛光盘上表面对应引流槽位置开设通孔，通孔连接抛光盘上表面与引流槽；防护罩与抛光盘主轴连接；防护罩下方与导管一端相连，导管中设水泵和过滤器，导管另一端与喷头连接，喷头正对抛光垫。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103273423B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201310249723.0
申请日：2013-06-21
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B49/00
Abstract: 一种砂轮磨削声发射监测装置，涉及一种声发射监测装置。设有锁紧法兰、磁性转轴、壳体、环形磁极、永磁体、磁性滑道盘、限位块、环形锥面磁极、锥齿轮、手柄、挡圈、堵塞、端盖、磁流变液、声发射传感器座、声发射传感器和检测电路；锁紧法兰与外部磨床砂轮锁紧，磁性转轴左端与锁紧法兰连接，磁性转轴设有中空孔，中空孔开口端设有堵塞，中空孔盛有磁流变液，中空孔与磁性转轴外表面连通；壳体套在磁性转轴上；环形磁极和环形锥面磁极位于壳体内且均套设于磁性转轴上，环形锥面磁极左端与磁性滑道盘连接，磁性滑道盘左端与永磁体螺接，环形锥面磁极右端与锥齿轮啮合，检测电路设于壳体外部且与声发射传感器电连接。
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公开(公告)号：CN103755148A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201410045558.1
申请日：2014-02-08
Applicant: 厦门大学
IPC: C03C15/00
Abstract: 一种在线可控式光学元件刻蚀装置，涉及光学元件刻蚀装置。设有缓冲液存储容器、刻蚀反应发生装置、伺服电机、密封盖、可旋转多功能夹具、在线浓度计、恒温箱；不同容器内装不同刻蚀溶液，容器下端通过导管与密封盖相连，导管直接通入刻蚀反应发生装置中，导管中部设有开关，伺服电机安装在密封盖中部，伺服电机与可旋转多功能夹具中轴相连；在线浓度计设在刻蚀反应发生装置外部下端，可旋转多功能夹具实现光学元件的固定及刻蚀液的搅拌；可旋转多功能夹具设有竖直中轴、四对横向分支，四对横向分支内设有光学元件定位槽，竖直中轴上设有四条分支槽；每对横向分支一端伸入分支槽内部，每对横向分支中的另一个横向分支沿分支槽上下移动。
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公开(公告)号：CN103419121A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201310347476.8
申请日：2013-08-09
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B37/04 , B24B37/34 , B24B49/14 , H01L21/304
Abstract: 一种基于温度可监控的磁悬浮抛光装置，涉及一种化学机械抛光设备。设有底座、防水罩、抛光盘、电热丝、导电环、温控器、计算机、弹力电磁条圈、接收磁条圈、止浮轨、工件夹具、温度传感器、无线接收模块和抛光液添加装置；防水罩绕设于底座上端周边；抛光盘固于防水罩上端，底部设有涡状凹槽；电热丝嵌于涡状凹槽内，电热丝与温控器电连接，温控器与计算机连接，弹力电磁条圈固于底座上表面，接收磁条圈固于抛光盘底面，弹力电磁条圈与接收磁条圈的磁性相同，止浮轨固于底座上且压住弹力电磁条圈，传感器设于夹具周边，传感器上设有无线传输模块，无线传输模块与设于计算机上的无线接收模块无线信号连接，抛光液添加装置设于抛光盘侧边上方。
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公开(公告)号：CN103322938A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310236649.9
申请日：2013-06-15
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种光学元件定点蚀刻及观测装置，涉及光学元件。设有支架、三维移动平台、三维移动平台直线电机、光学元件夹具、蚀刻结构、伺服电机、Z轴承载板、显微镜和计算机；三维移动平台设于支架上方，光学元件夹具安装于支架上端台面上，蚀刻结构设有蚀刻头和蚀刻液容器，蚀刻液容器设有蚀刻液进口阀门，蚀刻头安装于蚀刻液容器的蚀刻液出口端，蚀刻头下端设有蚀刻液出口，蚀刻液出口与蚀刻液容器连通，伺服电机安装在Z轴承载板上，Z轴承载板安装于三维移动平台上，伺服电机输出轴与固连有接板，显微镜与蚀刻结构固于连接板的两端，计算机内安装有运动控制卡，计算机与三维移动平台直线电机电连接，三维移动平台直线电机输出轴接三维移动平台。
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公开(公告)号：CN103268853A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310237071.9
申请日：2013-06-15
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种光学元件定量刻蚀及清洗装置，涉及一种刻蚀及清洗装置。设有第一直线电机、第二直线电机、支架、底座、刻蚀容器、清洗容器、机械手、数据显示器、超声波传感器、微型水泵、过滤器、喷头、微控制器和超声波发射装置；第一直线电机、第二直线电机、机械手和数据显示器均安装在支架上，支架设于底座上，刻蚀容器和清洗容器置于支架正下方且呈左右设置，超声波传感器安装在刻蚀容器的液仓底部，超声波发射装置安装在清洗容器的液仓底部，清洗容器中安置微型水泵、过滤器和喷头，微型水泵、过滤器和喷头串联连通，超声波传感器信号输出端接微控制器信号输入端，微控制器输出端分别接第一直线电机和第二直线电机，数据显示器与微控制器电连接。
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