一种平面碳膜电极的制备方法

    公开(公告)号:CN103072938B

    公开(公告)日:2015-07-08

    申请号:CN201210556923.6

    申请日:2012-12-18

    Abstract: 本发明公开了一种平面碳膜电极的制备方法,涉及电化学微纳米加工技术领域。具体步骤是:将光刻胶均匀地旋涂在导电基体上,随后在具有一定压力的惰性气体保护下,通过程序升温使光刻胶依次发生软化和碳化,并最终形成导电碳膜;最后采用树脂封装制成平面碳膜电极。由于采用程序升温使光刻胶层在发生碳化前先发生软化,利用并通过增加气体压力,延长在软化温度下的滞留时间,进一步增强光刻胶层的自流平作用,制得具有极高面形精度的大面积碳膜电极。

    一种电化学刻蚀加工聚合物材料表面的方法

    公开(公告)号:CN103342334A

    公开(公告)日:2013-10-09

    申请号:CN201310172181.1

    申请日:2013-05-10

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明公开了一种电化学刻蚀加工聚合物材料表面的方法,涉及聚合物材料表面的微纳米加工技术领域,具体步骤是:将表面带有微图案的金属或合金材质的工具电极与聚合物工件表面相接触,并浸入工作溶液中;另在工作溶液中设置对电极和参比电极;通过电化学控制系统调控工具电极的电位使之表面发生电化学阳极氧化反应,产生金属氧化物纳米膜,再由金属氧化物纳米膜化学刻蚀聚合物材料表面;刻蚀完毕后,关闭电化学控制系统,将工具电极从聚合物材料表面移开,即可。该方法所需的设备简单、价廉,对导电或非导电材质的聚合物表面均可实现高效、高精度的批量刻蚀加工。

    一种平面碳膜电极的制备方法

    公开(公告)号:CN103072938A

    公开(公告)日:2013-05-01

    申请号:CN201210556923.6

    申请日:2012-12-18

    Abstract: 本发明公开了一种平面碳膜电极的制备方法,涉及电化学微纳米加工技术领域。具体步骤是:将光刻胶均匀地旋涂在导电基体上,随后在具有一定压力的惰性气体保护下,通过程序升温使光刻胶依次发生软化和碳化,并最终形成导电碳膜;最后采用树脂封装制成平面碳膜电极。由于采用程序升温使光刻胶层在发生碳化前先发生软化,利用并通过增加气体压力,延长在软化温度下的滞留时间,进一步增强光刻胶层的自流平作用,制得具有极高面形精度的大面积碳膜电极。

    一种电化学刻蚀加工聚合物材料表面的方法

    公开(公告)号:CN103342334B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201310172181.1

    申请日:2013-05-10

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明公开了一种电化学刻蚀加工聚合物材料表面的方法,涉及聚合物材料表面的微纳米加工技术领域,具体步骤是:将表面带有微图案的金属或合金材质的工具电极与聚合物工件表面相接触,并浸入工作溶液中;另在工作溶液中设置对电极和参比电极;通过电化学控制系统调控工具电极的电位使之表面发生电化学阳极氧化反应,产生金属氧化物纳米膜,再由金属氧化物纳米膜化学刻蚀聚合物材料表面;刻蚀完毕后,关闭电化学控制系统,将工具电极从聚合物材料表面移开,即可。该方法所需的设备简单、价廉,对导电或非导电材质的聚合物表面均可实现高效、高精度的批量刻蚀加工。

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