一种雾相输运化学气相沉积生长氧化镓的薄膜生长系统

    公开(公告)号:CN116288693A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310211232.0

    申请日:2023-03-07

    Abstract: 本发明属于化学气相沉积的材料生长方法技术领域,具体地说,是一种雾相输运化学气相沉积生长氧化镓的薄膜生长系统,包括气流导管、气流喷管、气流输运管道、气流恒温装置和温度监测装置,气流喷管和温度监测装置通过法兰部分嵌套于气流输运管道内部,气流恒温装置位于气流输运管道内部。气流恒温装置提高了薄膜生长区的热导率,实现薄膜生长区的温场均匀化,气流喷管提前对低温气流进行加热,降低气流对薄膜生长区的温场影响,从而获得更均匀的薄膜生长温度,温度监测可以准确的获得薄膜生长区的温度,从而实现最优的生长环境。本发明为实现高均匀度和高纯度的氧化镓外延薄膜制备提供一种有效的生长系统。

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