一种通过合金反应源在PECVD系统制备铟掺杂氧化镓薄膜的方法

    公开(公告)号:CN118064866A

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202410265223.4

    申请日:2024-03-08

    Abstract: 本发明提供了一种通过合金反应源在PECVD系统制备铟掺杂氧化镓薄膜的方法,属于半导体材料制备技术领域。该方法将液态金属镓与金属铟颗粒充分混合成合金作为反应源,在PECVD系统中以适当的条件与氧气反应,在衬底上生长铟掺杂的氧化镓薄膜。本发明提供的掺杂方法是一种实用的PECVD生长铟掺杂氧化镓薄膜的技术,可以制备高纯度铟掺杂的氧化镓薄膜,并可通过控制反应源中的金属比例,实现掺杂浓度的精确调控,从而实现对薄膜的性能调控。本发明提供的合金源制备铟掺杂氧化镓薄膜技术可重复性好、工艺简单、成本低,有利于规模化生产和进一步的应用。

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