一种分析α-Ga2O3生长情况的雾化学气相沉积系统及方法

    公开(公告)号:CN117926217A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202410090329.5

    申请日:2024-01-23

    Abstract: 本发明公开了一种半导体材料技术领域的分析α‑Ga2O3生长情况的雾化学气相沉积系统及方法,旨在解决现有技术中Mist‑CVD系统连续生长亚稳定相α‑Ga2O3的初始成核过程中存在生成物均匀性较差的问题,其包括构建雾化学气相沉积系统的三维模型,对三维模型进行网格划分生成网格文件;将网格文件导入计算流体力学仿真软件中,设定三维模型的边界条件,并选定多相流求解器;利用多相流求解器对三维模型内反应进行计算;根据计算结果对α‑Ga2O3生长情况进行分析等步骤。本发明可以有效对α‑Ga2O3在雾化学气相沉积系统在的生长情况进行分析,促进生成物α‑Ga2O3的生长均匀性。

    一种研究α-Ga2O3生长的雾化学沉积系统及其构建方法

    公开(公告)号:CN115862750A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202211661988.7

    申请日:2022-12-23

    Abstract: 本发明公开了一种半导体材料技术领域的研究α‑Ga2O3生长的雾化学沉积系统及其构建方法,旨在解决现有技术中所使用的Mist‑CVD系统以水平式系统为主,存在大尺寸生长时均匀性较差的问题,其构建方法包括以下步骤:建立二维腔体模型,设定其边界类型,并进行网格划分,生成网格文件;用计算流体力学仿真软件读取网格文件,设置相应条件及参数,并选定计算模型和求解器;利用求解器进行迭代求解;查看求解得到的各项计算结果。本发明通过Mist‑CVD反应腔进行二维网格建模,分析其流场和反应物分布,并深入研究壁面温度等生长参数对生成物质量及均匀性的影响,进而对实现大面积均匀外延提供优化参数。

    一种肖特基二极管
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114664933A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202210151840.2

    申请日:2022-02-18

    Abstract: 本发明公开了一种肖特基二极管,包括从上往下依次设置的阳极区、漂移区、衬底区和阴极区,还包括场板区,场板区设置于阳极区中间,场板区被分割成栅结构,场板区和漂移区的材料均为α‑Ga2O3。本发明在阳极区中间增加栅结构的场板区,场板区和漂移区均采用α‑Ga2O3材料,栅结构的场板区能优化电流拥挤效应,改善电极与漂移区接触面处电场分布,提高了器件的击穿电压,基于α‑Ga2O3的漂移区,可采用增加厚度的方式抑制垂直泄漏电流,并且也能提高器件耐压,使器件最大击穿场强超过10MV/cm,解决目前功率二极管漏电流高,耐压偏低的问题。

    一种基于NFC技术的卡牌游戏防作弊系统及方法

    公开(公告)号:CN113457113A

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202110733117.0

    申请日:2021-06-30

    Abstract: 本发明提出了一种基于NFC技术的卡牌游戏防作弊系统,该系统包括带有NFC标签的卡牌系统、NFC读写器系统、服务器和游戏比赛系统,所述带有NFC标签的卡牌系统中每张卡牌存储的ID编码信息均不相同并且独一无二;所述NFC读写器系统和游戏比赛系统均与服务器时刻保持连接;所述带有NFC标签的卡牌系统进入NFC读写器系统的识别区域依次进行读取,然后在手机上进行游戏比赛。本发明能够避免游戏过程中魔术换牌,无故丢牌藏牌的作弊行为。

    一种基于NFC技术的卡牌游戏防作弊系统及方法

    公开(公告)号:CN113457113B

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202110733117.0

    申请日:2021-06-30

    Abstract: 本发明提出了一种基于NFC技术的卡牌游戏防作弊系统,该系统包括带有NFC标签的卡牌系统、NFC读写器系统、服务器和游戏比赛系统,所述带有NFC标签的卡牌系统中每张卡牌存储的ID编码信息均不相同并且独一无二;所述NFC读写器系统和游戏比赛系统均与服务器时刻保持连接;所述带有NFC标签的卡牌系统进入NFC读写器系统的识别区域依次进行读取,然后在手机上进行游戏比赛。本发明能够避免游戏过程中魔术换牌,无故丢牌藏牌的作弊行为。

    一种研究α-Ga2O3生长的雾化学沉积系统及其构建方法

    公开(公告)号:CN115862750B

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202211661988.7

    申请日:2022-12-23

    Abstract: 本发明公开了一种半导体材料技术领域的研究α‑Ga2O3生长的雾化学沉积系统及其构建方法,旨在解决现有技术中所使用的Mist‑CVD系统以水平式系统为主,存在大尺寸生长时均匀性较差的问题,其构建方法包括以下步骤:建立二维腔体模型,设定其边界类型,并进行网格划分,生成网格文件;用计算流体力学仿真软件读取网格文件,设置相应条件及参数,并选定计算模型和求解器;利用求解器进行迭代求解;查看求解得到的各项计算结果。本发明通过Mist‑CVD反应腔进行二维网格建模,分析其流场和反应物分布,并深入研究壁面温度等生长参数对生成物质量及均匀性的影响,进而对实现大面积均匀外延提供优化参数。

    一种肖特基二极管
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114664933B

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202210151840.2

    申请日:2022-02-18

    Abstract: 本发明公开了一种肖特基二极管,包括从上往下依次设置的阳极区、漂移区、衬底区和阴极区,还包括场板区,场板区设置于阳极区中间,场板区被分割成栅结构,场板区和漂移区的材料均为α‑Ga2O3。本发明在阳极区中间增加栅结构的场板区,场板区和漂移区均采用α‑Ga2O3材料,栅结构的场板区能优化电流拥挤效应,改善电极与漂移区接触面处电场分布,提高了器件的击穿电压,基于α‑Ga2O3的漂移区,可采用增加厚度的方式抑制垂直泄漏电流,并且也能提高器件耐压,使器件最大击穿场强超过10MV/cm,解决目前功率二极管漏电流高,耐压偏低的问题。

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