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公开(公告)号：CN104726826A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201510137803.6
申请日：2015-03-27
Applicant: 南通南京大学材料工程技术研究院
Abstract: 本发明公开了一种超高硬度的Ti-Ni形状记忆合金薄膜的制备方法，采用磁控溅射法制备了Ti/Ni多层膜，以Ni/Ti/Ni/Ti/Ni的顺序沉积，在衬底和Ni层间添加5nm厚的Ti粘接层，严格控制Ti、Ni单层的调制比和调制周期，其中首次采用原位热沉积和高真空加热退火相结合来实现多层膜的合金化，制得的Ti-Ni合金薄膜无明显氧化现象；合金薄膜的硬度远高于共溅射合金薄膜的硬度，具有超高的硬度，并且该方法制备的合金薄膜具有优异的伪弹性。该方法通过引入界面强化作用，薄膜具有超高硬度；采用热沉积和高真空退火方法结合，既有利于Ti、Ni层的扩散和固相反应，实现充分合金化，又能避免合金化过程中薄膜氧化。该方法还具有很强的适用性，可以推广到其他种类合金薄膜的制备上。本发明操作简单，重复性好，清洁无污染，实现效果良好。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103954059A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201410091209.3
申请日：2014-06-11
Applicant: 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 , 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种太阳能选择吸收复合涂层，依次包括底层金属片、热扩散阻挡层、吸收层和减反射层，其中热扩散阻挡层为Ta纳米层，吸收层为AlN-Ag纳米层，减反射层为AlN纳米层。本发明还公开了这种涂层的制备方法，包括底层金属片预处理、沉积吸收复合涂层和退火处理工序，其中沉积吸收复合涂层工序为采用三靶室温直流磁控溅射法，以金属Al、Ag和Ta为溅射靶材沉积吸收涂层采用电场进行退火处理。本发明将高熔点金属Ta引入吸收涂层作为扩散阻挡层，显著提高了涂层的热稳性以及界面结合力。采用电场退火对涂层进行处理，提高了涂层的吸收率。本发明操作简单方便，可控性好，清洁无污染，适合大规模产业化。
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公开(公告)号：CN108611603B
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201810437232.1
申请日：2018-05-09
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明涉及一种金属多层膜的制备方法，先将单晶硅片依次由丙酮和乙醇超声清洗，吹干后放入超高真空磁控溅射设备基片台上，准备镀膜；采用直流磁控溅射法，将金属靶材放在真空室靶台上，在本底真空度为1.0×10‑5～2.5×10‑5Pa的条件下，通入氩气，调节真空度为5～7Pa，进行预溅射；将真空度调至0.5～1Pa，进行镀膜，先镀Cu层，功率为65～80W，然后Ag层，功率为30～50W，Ag膜与Cu膜的沉积速率为0.2nm/s，依次交替沉积，得到Cu/Ag多层膜。本发明操作简单，条件易于控制，重复性好，制得的多层膜层界清晰、厚度均匀、表面光滑平整，具有优良的电学和力学性能，适用于微电子行业。
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公开(公告)号：CN108611603A
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201810437232.1
申请日：2018-05-09
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明涉及一种金属多层膜的制备方法，先将单晶硅片依次由丙酮和乙醇超声清洗，吹干后放入超高真空磁控溅射设备基片台上，准备镀膜；采用直流磁控溅射法，将金属靶材放在真空室靶台上，在本底真空度为1.0×10-5～2.5×10-5Pa的条件下，通入氩气，调节真空度为5～7Pa，进行预溅射；将真空度调至0.5～1Pa，进行镀膜，先镀Cu层，功率为65～80W，然后Ag层，功率为30～50W，Ag膜与Cu膜的沉积速率为0.2nm/s，依次交替沉积，得到Cu/Ag多层膜。本发明操作简单，条件易于控制，重复性好，制得的多层膜层界清晰、厚度均匀、表面光滑平整，具有优良的电学和力学性能，适用于微电子行业。
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公开(公告)号：CN103954059B
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201410091209.3
申请日：2014-06-11
Applicant: 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 , 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种太阳能选择吸收复合涂层，依次包括底层金属片、热扩散阻挡层、吸收层和减反射层，其中热扩散阻挡层为Ta纳米层，吸收层为AlN-Ag纳米层，减反射层为AlN纳米层。本发明还公开了这种涂层的制备方法，包括底层金属片预处理、沉积吸收复合涂层和退火处理工序，其中沉积吸收复合涂层工序为采用三靶室温直流磁控溅射法，以金属Al、Ag和Ta为溅射靶材沉积吸收涂层采用电场进行退火处理。本发明将高熔点金属Ta引入吸收涂层作为扩散阻挡层，显著提高了涂层的热稳性以及界面结合力。采用电场退火对涂层进行处理，提高了涂层的吸收率。本发明操作简单方便，可控性好，清洁无污染，适合大规模产业化。
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公开(公告)号：CN104930735A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201510129849.3
申请日：2015-03-24
Applicant: 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 , 南京大学
CPC classification number: Y02E10/40
Abstract: 本发明公开了一种太阳能吸收膜。依次包括底层金属片Cu、吸收层和反应溅射形成的AlN减反射层，吸收层包括若干个吸收周期层，每个周期层包括两层有效吸收层膜，该效吸收层膜从上往下依次为金属层Ni膜和陶瓷吸收层TiNxOy-Ni膜，该金属层Ni膜厚度为5～8nm；还公开了其制备方法，包括底层金属片预处理、沉积吸收层和高真空热退火工序，沉积吸收层工序为采用三靶直流磁控溅射法，以纯度99.9wt%的TiO2、99.99wt%的金属Ni和99.99wt%的金属Al为溅射靶材进行沉积涂层。本发明的太阳能吸收层，采用多级层构与成分梯度的设计思路，使得吸收层兼具多级层构与成分梯度的特点，吸收/发射比达到最优化，还具备耐腐蚀、抗氧化的特性，保证了涂层的工作可靠性，可以进一步提升蓝钛选择吸收涂层的综合性能。
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