基于SiCx织构的硅量子点浮栅非易失性存储器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103346168A

    公开(公告)日:2013-10-09

    申请号:CN201310248583.5

    申请日:2013-06-20

    Abstract: 本发明公开了一种基于SiCx织构的硅量子点浮栅非易失性半导体存储器及其制备方法,包括硅衬底,在硅衬底上掺杂形成的源导电区和漏导电区,以及在源漏之间的载流子沟道上依次生长的隧穿氧化层、电荷存储层、控制栅氧化层及金属栅层;所述电荷存储层包括SiCx织构和横纵向均匀分布于SiCx织构中的硅量子点。本发明有效利用硅量子点-SiCx织构间的隧穿势垒,构成了控制栅氧化层-SiCx织构-Si量子点-SiCx织构-隧穿氧化层双阶梯势垒电荷存储结构;不仅可实现电荷的有效分立存储,增强电荷保持特性,还允许器件具有更薄的隧穿氧化层,加快了电荷的擦写速度,使存储器的综合性能得到全面提升,并为器件的尺寸进一步缩小提供了技术支持。

    一种掺杂硅量子点发光二极管器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN103618037B

    公开(公告)日:2017-04-19

    申请号:CN201310606319.4

    申请日:2013-11-25

    Abstract: 本发明公开了一种掺杂硅量子点发光二极管,包括硅衬底,沉积银纳米颗粒层,以及在银纳米颗粒结构上沉积多层分布均匀且包含掺杂硅量子点的SiNx薄膜,透明导电薄膜AZO层以及Si3N4钝化层。还公开了该发光二极管的制备方法,利用掺杂硅量子点‑SiNx薄膜的电致发光特性,构成发光二极管的发光有源层;利用掺杂可以钝化量子点,同时掺杂硅量子点与硅衬底形成的p‑n结增强电子空穴的辐射复合。此外,利用银纳米结构增加电致发光的强度,提高了发光器件的发光效率,且与传统的CMOS工艺兼容。

    基于SiCx织构的硅量子点浮栅非易失性存储器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103346168B

    公开(公告)日:2016-02-24

    申请号:CN201310248583.5

    申请日:2013-06-20

    Abstract: 本发明公开了一种基于SiCx织构的硅量子点浮栅非易失性半导体存储器及其制备方法,包括硅衬底,在硅衬底上掺杂形成的源导电区和漏导电区,以及在源漏之间的载流子沟道上依次生长的隧穿氧化层、电荷存储层、控制栅氧化层及金属栅层;所述电荷存储层包括SiCx织构和横纵向均匀分布于SiCx织构中的硅量子点。本发明有效利用硅量子点-SiCx织构间的隧穿势垒,构成了控制栅氧化层-SiCx织构-Si量子点-SiCx织构-隧穿氧化层双阶梯势垒电荷存储结构;不仅可实现电荷的有效分立存储,增强电荷保持特性,还允许器件具有更薄的隧穿氧化层,加快了电荷的擦写速度,使存储器的综合性能得到全面提升,并为器件的尺寸进一步缩小提供了技术支持。

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