一种掺杂硅量子点发光二极管器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN103618037B

    公开(公告)日:2017-04-19

    申请号:CN201310606319.4

    申请日:2013-11-25

    Abstract: 本发明公开了一种掺杂硅量子点发光二极管,包括硅衬底,沉积银纳米颗粒层,以及在银纳米颗粒结构上沉积多层分布均匀且包含掺杂硅量子点的SiNx薄膜,透明导电薄膜AZO层以及Si3N4钝化层。还公开了该发光二极管的制备方法,利用掺杂硅量子点‑SiNx薄膜的电致发光特性,构成发光二极管的发光有源层;利用掺杂可以钝化量子点,同时掺杂硅量子点与硅衬底形成的p‑n结增强电子空穴的辐射复合。此外,利用银纳米结构增加电致发光的强度,提高了发光器件的发光效率,且与传统的CMOS工艺兼容。

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