采用真空烘烤工艺提升MCP增益的方法

    公开(公告)号:CN115631984A

    公开(公告)日:2023-01-20

    申请号:CN202211236994.8

    申请日:2022-10-10

    Abstract: 本发明提供一种采用真空烘烤工艺提升MCP增益的方法,在使用皮料玻璃管和芯料玻璃棒作为基础,经两次拉丝、排屏、热熔压、切片、粗磨、抛光、腐蚀、氢还原、镀膜工艺,获得微通道板原片,微通道板膜层已完成。在此之后,再将微通道板原片置于真空环境中,以预设的烘烤温度进行高温烘烤后,获得高增益的微通道板。本发明通过在制备获得微通道板原片之后,将微通道板原片再置于真空环境中,以预设的烘烤温度进行高温烘烤后,通过高温高真空的烘烤,将镀膜工艺中可能吸附的各种气态反应物与产物进行去除,获得高增益的微通道板,所得的微通道板的增益通过真空烘烤的过程控制,包括烘烤温度、烘烤时间的控制,可实现至少104以上的增益。

    微通道板自动清洗装置
    8.
    实用新型

    公开(公告)号:CN215696364U

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202121986375.1

    申请日:2021-08-23

    Abstract: 本实用新型提供一种微通道板自动清洗装置,包括:真空转移机构,用于吸住至少一个抛光后的微通道板;装板圆盘,用于与真空转移机构对接,并接住从真空转移机构下落的微通道板;电机;传动组件,一端啮合到电机的输出端实现扭矩输出,另一端可拆卸地连接到装板圆盘,并通过电机驱动装板圆盘转动;超声波清洗机,具有多个清洗槽;电机、传动组件与装板圆盘被设置成可上下伸缩运动以及水平移动,以将装载有微通道板的装板圆盘在不同的清洗槽内清洗。利用本实用新型的微通道板自动清洗装置,对抛光后的微通道板进行表面旋转超声波清洗,在提高抛光清洗效率的同时,消除了人员操作差异带来的表面质量差异,保证微通道板的洁净度。

    用于微通道板原子层沉积设备的固态源稳定蒸发装置

    公开(公告)号:CN215713358U

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202121986374.7

    申请日:2021-08-23

    Abstract: 本实用新型提供一种用于微通道板原子层沉积设备的固态源稳定蒸发装置,包括:水浴槽;设置有固态源的固态源瓶,所述固态源瓶容纳在水浴槽内,并进行水浴加热;控温装置,所述控温装置用于控制所述水浴槽中水保持设定的温度;超声波发生器,位于水浴槽的底部;超声波控制器,与所述超声波发生器连接,所述超声波控制器用于控制超声波发生器的运行,以使水浴槽中水发生振动并辐射到固态源瓶及其中的固态源。本实用新型提出基于水浴与超声波振动辅助的固态源稳定蒸发装置,在较低温度下即可实现固态源的稳定蒸发,在达到相同蒸发量的情况下加热温度更小,且不易结块,降低了原子层沉积设备管道的温耗,并且固态源的消耗保持稳定状态。

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