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公开(公告)号：CN115615460B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202211177452.8
申请日：2022-09-26
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本申请涉及磁悬浮领域，具体公开了一种磁悬浮定子检测装置，磁悬浮定子具有导电轴体和绝缘环体，绝缘环体环绕在导电轴体的外周，导电轴体的一端具有引出线；其特征在于，检测装置包括用于承载磁悬浮定子的底座，底座具有一第一空腔，第一空腔用于与磁悬浮定子配合，其中，第一空腔具有台阶面，当磁悬浮定子设置于第一空腔内时，台阶面与绝缘环体的靠近引出线的端面接触，导电轴体的远离引出线的端面和绝缘环体的远离引出线的端面外露出第一空腔。本申请的方案克服定子组件电感不易检、易误检的现象，达到了高效率、高准确性的检测效果。
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公开(公告)号：CN115127425B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202210762558.8
申请日：2022-06-29
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
IPC: G01B5/20
Abstract: 一种轴孔类零件三点找正修圆方法，利用装夹工装装夹待修工件并压紧找正；安装百分表进行检测确定内孔轮廓上跳动最大的三个拐点并通过记号笔标注；根据内孔轮廓上跳动最大的三个拐点确定唯一修孔圆、修孔圆圆心O'、最小修正孔轮廓；将待修工件的内孔、最小修正孔的形位精度进行比较，判断待修工件的内孔是否超差，若超差则报废待修工件，否则对待修工件的内孔进行修正；以修孔圆圆心为敲击方位，将修孔圆圆心敲击至待修工件的内孔的原圆心位置，完成待修工件的修正。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115615460A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202211177452.8
申请日：2022-09-26
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本申请涉及磁悬浮领域，具体公开了一种磁悬浮定子检测装置，磁悬浮定子具有导电轴体和绝缘环体，绝缘环体环绕在导电轴体的外周，导电轴体的一端具有引出线；其特征在于，检测装置包括用于承载磁悬浮定子的底座，底座具有一第一空腔，第一空腔用于与磁悬浮定子配合，其中，第一空腔具有台阶面，当磁悬浮定子设置于第一空腔内时，台阶面与绝缘环体的靠近引出线的端面接触，导电轴体的远离引出线的端面和绝缘环体的远离引出线的端面外露出第一空腔。本申请的方案克服定子组件电感不易检、易误检的现象，达到了高效率、高准确性的检测效果。
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公开(公告)号：CN113829176A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202111015122.4
申请日：2021-08-31
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法，研磨平板包括粗研平板、精研平板和抛光平板，其中，所述粗研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W3～W5；所述精研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W1～W2；所述抛光平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W0.5～W1。在铍材镜体研磨抛光时，分别进行粗研工序、精研工序和抛光工序。经过本发明研磨平板和方法可使铍材镜体表面形成光亮的反射表面，铍材镜体平面度优于0.1μm，表面无划痕，表面粗糙度达到Ra 0.02μm，具备良好的反光性能，攻克了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差等加工难题。
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公开(公告)号：CN119381231A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202411361430.6
申请日：2024-09-27
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 一种离子能量筛选装置及方法，包括：绝缘套筒的头部固定连接有前级；绝缘套筒的内侧沿轴向间隔设置有n个绝缘环和孔栅，n个绝缘环和孔栅形成多腔体组件；孔栅上加工有多个贯穿孔作为网孔，用于让等离子体通过；绝缘套筒的内侧还安装有收集极，收集极位于所述多腔体组件的后端，绝缘套筒的尾部固定连接有端盖，端盖用于封闭绝缘套筒的尾部；收集极用于收集筛选后的离子；陶瓷垫片套装在端盖的外侧。本发明通过在多个孔栅施加不同电压，达到排除电子，筛选离子的效果。并且能够控制获取具有一定离子能量范围的离子。在真空离子镀膜过程中，既能够用于对离子能量范围进行检测，也能够控制离子能量得到不同物理性能的膜层。
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公开(公告)号：CN113829176B
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202111015122.4
申请日：2021-08-31
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法，研磨平板包括粗研平板、精研平板和抛光平板，其中，所述粗研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W3～W5；所述精研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W1～W2；所述抛光平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W0.5～W1。在铍材镜体研磨抛光时，分别进行粗研工序、精研工序和抛光工序。经过本发明研磨平板和方法可使铍材镜体表面形成光亮的反射表面，铍材镜体平面度优于0.1μm，表面无划痕，表面粗糙度达到Ra 0.02μm，具备良好的反光性能，攻克了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差等加工难题。
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公开(公告)号：CN115127425A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202210762558.8
申请日：2022-06-29
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
IPC: G01B5/20
Abstract: 一种轴孔类零件三点找正修圆方法，利用装夹工装装夹待修工件并压紧找正；安装百分表进行检测确定内孔轮廓上跳动最大的三个拐点并通过记号笔标注；根据内孔轮廓上跳动最大的三个拐点确定唯一修孔圆、修孔圆圆心O'、最小修正孔轮廓；将待修工件的内孔、最小修正孔的形位精度进行比较，判断待修工件的内孔是否超差，若超差则报废待修工件，否则对待修工件的内孔进行修正；以修孔圆圆心为敲击方位，将修孔圆圆心敲击至待修工件的内孔的原圆心位置，完成待修工件的修正。
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